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348件 - メーカー・取り扱い企業
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40件 - カタログ
104件
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【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します
『酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置』は、2周波独立印可方式により、 低応力、高硬度、高絶縁性を実現します。 ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減 および生産性を向上。 マルチチャンバ仕...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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高い汎用性を備えたシンプルな構造！独自のプラズマ制御方式を採用していま…
『立体物用プラズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、 独自のプラズマ制御方式を採用しています。 チャンバー容積は1m3。 多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です。 マルチチャン...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性！
『PEGASUS』は、メモリ、パワーデバイス、MEMSへの 絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な 量産対応型プラズマCVD装置です。 インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ 接触部位に非金属を使用しているため、裏面からの汚染を防止します。 【特長】 ■低温成膜 ■メンテナンス性 ■ウエハ取扱...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社セルバック
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3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…
当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック
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10種類以上の半導体ガスを自在にコントロール可能！カスタマイズ可能
縦型、枚葉、ウェハーサイズ、ガス種、フットプリントなど多くの使用に対応。汎用性を重視したハイグレード縦型減圧CVD装置です。標準仕様を基にカスタマイズを施し、より安価に製造することも可能です。 【特長】 ■スモールフットプリントながらウエハーサイズ3" 6" 8"/inchに対応 ■ヒーター昇降機能に...
メーカー・取り扱い企業： 有限会社ハイテクノサービス
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炉のスライド移動による急冷機構を搭載
グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ
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省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールか…
本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハーに対応しており、プラズマ CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。 基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール（高周波,低周波各 1Set ）、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成され ます。...※詳しくは外部リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
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厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）
PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。...
メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社
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CVDコーティング装置の世界市場レポート：成長、市場規模、競合状況、予…
2024年3月6日に、QYResearchは「CVDコーティング装置―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2024～2030」の調査資料を発表しました。本レポートは、CVDコーティング装置の世界市場について分析し、主な総販売量、売上、価格、主要企業の市場シェアとランキングに焦点を当てています。また、地域別、国別、製品タイプ別、用途別の分析も行っています。CVDコーティング装置の...
メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
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太陽光発電（PV）セルCVD装置に関するグローバル市場分析、市場規模、…
2023年10月26日に、QYResearchは「グローバル太陽光発電（PV）セルCVD装置に関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。太陽光発電（PV）セルCVD装置の市場生産能力、生産量...
メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
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多彩なプラズマソースが搭載可能！CVD、MOCVDやALD装置をカスタ…
当社では、研究開発や小規模バッチ量産向け装置である、 「CVD・MOCVDカスタマイズ装置」を取り扱っております。 CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計で、 PLUM、FLARION及びMIRENIQUEシリーズの多彩なプラズマソースが搭載可能。 また、FLOCONシリーズのフロー管理システムを搭載しております。 【特長】 ■研究開発や小規模バッチ量産向け装置 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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半導体化学蒸着装置の世界市場：大気耐性CVD、低圧CVD、超高真空CV…
本調査レポート（Global Semiconductor Chemical Vapor Deposition Equipment Market）は、半導体化学蒸着装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の半導体化学蒸着装置市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マーケットリサーチセンター
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【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 様々なご提案！
【膜種、方式にとらわれないコーティングの全方位提案！】
こんなお困りごとはありませんか？ 課題、用途に適した膜種、方式を提案 【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 ●「装置部材の長寿命化」「生産消耗部材の長寿命化」のテーマがある ↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●部材そのものの切替にはコストやリスクがありコーティングを検討したい ↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●コーティングメーカーが...
メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課
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どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…
中日本炉工業社が取扱う CVDコーティング装置のご紹介です。...どのような形状の品物に対しても 制限なく使用できる、CVDコーティング装置 【特徴】 ○加熱炉一台にコーティングチャンバーを 2〜4台を付加することが可能 ○コーティングは規定圧力で行われる ○プロセスシーケンスは予備プログラミング可能な 自動プロセッサーによって監視され さらに制御及び調節装置を装...
メーカー・取り扱い企業： 中日本炉工業株式会社
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『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…
YH Research株式会社（本社：東京都中央区）は調査レポート「グローバルCVD装置のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」を11月8日に発行しました。本レポートでは、CVD装置市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、CVD...
メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社
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高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC
『CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた 半導体特性を持つ薄膜です。 当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、 高純度のSiC膜を最大2mm以上析出してバルクのSiCを作成しております。 【特長】 ■高硬度 ■優れた耐熱性 ■優れた耐磨耗性 ■半導体特性を有する ■半導体装置部品等にも適応可能 ※詳しくはカタロ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターフェイス
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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…
『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』
最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…
『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度：800℃ ■最大4...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…
炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...【特徴】 ○ 炉心管をモータ駆動で可変の速度で回転可能 ○ 真空CVDモードにおいても回転可能 ○ 粉体試料の各種CVD処理に最適。 ●その他機能や詳細はお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ
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優れた高純度・耐食性！半導体製造装置部品として高い性能を発揮します
『CVD-SiC』は、CVD法（気相成長法）で製造したバルクSiCです。 高純度、耐食性に優れ、半導体製造装置部品として高い性能を発揮。 長寿命で、SiCコート品におけるピンホール、剥離の問題が発生しません。 また、プロセスによって適したグレードを選択できます。 【特長】 ■高純度・優れた耐食性 ■長寿命 ■低抵抗、高抵抗グレード ■プロセスによって好適なグレードを選択...
メーカー・取り扱い企業： 巴工業株式会社 機能材料部
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プラズマCVD装置『PD-270STLC／PD-2201LC』
引張り～圧縮の応力制御が可能！スペースに合わせて柔軟に設置できます
サムコ株式会社では、プラズマCVD装置である『PD-270STLC／PD-2201LC』を 取り扱っております。 「PD-270STLC」は、上部、中部、底部とカバレッジ性良く成膜が可能。 また「PD-2201LC」は...
メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社
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ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD』
触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向け！統合されたガス分配システ…
当社では、触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向けにホットワイヤーソースを 提供しています。 インラインおよびダイナミック製膜プロセスには特殊な直線形エネルギー源が 利用可能。 特殊設計のソースフランジ、すばやく取り付けができるワイヤーコンポーネント によって構成されており、必要に応じて、単にユニット毎に交換することで、 このワイヤーコンポーネントダウンタイムを短縮できます...
メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社
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CVDコーティング装置向けモジュールヒーター
超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...
メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法…
roupは、2023年から2028年の間に8.30%の成長率（CAGR）を示し、2028年までに461億9,000万米ドルに達すると予想しています。エレクトロニクス産業の著しい成長、医療用途でのCVD装置の需要の増加、広範な研究開発活動が、市場を牽引する主な要因の一部となっています。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローバルインフォメーション
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書籍：プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構理解
■「所望の薄膜」を形成するプラズマCVDプロセスの確立に向けて■
電気回路、電磁気学、放電工学、流体力学、化学工学、表面科学… 様々な学問体系が絡み合う、複雑なプラズマCVDを「使いこなしたい！」と願う技術者・研究者へ ○「こういう膜質にしたい」という要望はあるものの、取るべき手段やその理由がわからない人に ○「この数値が関係しそうだ」と予想はつくが、実際にはどうしたらいいかわからない人にも ○ または、自社装置だけでなく「こうしたらいいですよ」と...
メーカー・取り扱い企業： サイエンス＆テクノロジー株式会社
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石英管洗浄装置(HTC/VTCシリーズ)「薬液、純水削減に貢献」
縦型洗浄装置(VTCシリーズ)は省スペースで「薬液・純水削減」に貢献。…
「HTC／VTC」シリーズは、拡散工程・CVD工程・アニール工程で使用される石英管の洗浄を目的とした石英管洗浄装置です。 【特徴】 ■石英管の形状・洗浄用途に合わせた装置ラインナップ ・6インチ・８インチ・１２インチ プロセス用の石英管に対応致 ・石英管の形状・洗浄用途に合わせ、横型式(HTC)と縦型式(VTC)の装置を選択可能 ■省スペースで「薬液・純水削減」に貢献 ・縦型...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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【英文市場調査レポート】中国の半導体用薄膜蒸着装置輸入の分析
『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法…
半導体プロセスにおいて、分子や原子単位で目的の薄膜をウエハーに付加する一連の工程を蒸着といいます。薄膜とは、機械的な加工だけでは実現できない、厚さ1ミクロン以下の膜のことで、導電層や絶縁層を作ったり、光の吸収をよくする反射防止膜を作ったり、エッチングを一時的に遮断したり、さまざまな効果が期待できます。薄膜蒸着法は、PVD (物理的蒸着) 法とCVD (化学的蒸着) 法に大別されます。 当レポート...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローバルインフォメーション
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】 ・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (P...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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SiC成膜技術で未来をひらく！独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品
独自の CVD - SiC（ 化学蒸着法）で製作されたアドマップの SiC 製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えています。 半導体をはじめ、産業機械、原子力、航空宇宙分野など、 あらゆるフィールドで高い評価を得ております。 【特長】 ○塩酸・硫酸・硝酸・弗酸・弗硝酸などの酸ではほとんど腐食しない ○表面には二酸化ケイ素（SiO2）被膜が形成...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社フェローテックホールディングス
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ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置
大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置や ランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。 縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。 【特長】 ■ニーズに合わせた設計・製作 ■成膜装置やランプ加熱によるアニール装置 ■多様なライン...
メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社
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燃料電池向け金属セパレータに最適な高耐食性・高導電性酸化膜
<特長> 大気中で成膜できる シンプルで高機能な CVD被膜...従来のCVD法 ⇒ 真空中で成膜 ・装置が高コスト ・真空引きに時間を要する ミストCVD法 → 大気中で成膜 燃料電池セパレータに求められる 耐食性と導電性をもつ高性能な金属酸化膜 高速な成膜による低コスト化 基材との良好な密着性、高被覆...
メーカー・取り扱い企業： アイテック株式会社
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半導体装置バックエンド（BEOL）の世界市場：CVD、CMP、コーター…
本調査レポート（Global Back End of the Line Semiconductor Equipmen）は、半導体装置バックエンド（BEOL）のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の半導体装置バックエンド（BEOL）市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録してい...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マーケットリサーチセンター
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ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…
当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。 【ドライエッチング機種（一例）】 Pishowシリーズ： ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■IC...
メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社
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化学蒸着装置の世界市場：触媒CVD、メタルALD、マイクロエレクトロニ…
本調査レポート（Global Chemical Vapour Deposition Device Market）は、化学蒸着装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の化学蒸着装置市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 化学蒸着装置市場の種類別（By Type...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マーケットリサーチセンター
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薄層蒸着装置の世界市場：物理蒸着（PVD）、化学蒸着（CVD）、原子層…
本調査レポート（Global Thin Layer Deposition Equipment Market）は、薄層蒸着装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の薄層蒸着装置市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 薄層蒸着装置市場の種類別（By Type）の...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マーケットリサーチセンター
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優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…
『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの用...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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どこよりも早く『電圧降下（F47/F42）試験』に対応し、対策からレポ…
QSESの安全評価について「Ｆ47/Ｆ42評価サービス」は、装置納入時の必須項目となりつつある『電圧降下（F47/F42）試験』に、どこよりも早く対応した試験評価サービスです。 半導体工場内において設備の故障や大きな負荷の変動により、AC供給電源が突然の電圧降下（半サイクルから数秒）を起こした状態をシュミレートし、その場合の被試験装置の耐性を評価する試験を行います。 エッチャー、CVD、CMP...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社キューセス
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実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて設計、製造し…
す。 一から設計しますので、お手持ちのポンプをご支給いただいたり、 このメーカのバルブを使って欲しいなどのご要望にも柔軟に対応いたします。 【真空装置、部品の製作事例】 ■PE-CVD装置 ■熱CVD装置 ■スパッタ装置チャンバ設計・製作（チャンバスケッチ・設計・製作） ■大気圧プラズマ用電極ユニット設計・製作 ■画像評価装置制御BOX製作 など ※詳しくはPDFを...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC
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簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可。ご要望に応じて…
『210D』は、エッチング及び成膜を必要とする様々な製品の開発に お使いいただける、誘導結合プラズマによる成膜装置です。 十数分の時間でハードウエアを交換し、誘導結合プラズマエッチング装置 として使用する事が可能。 現場でのハードウエアの交換で、CVD及びRIEとして使用できる為、 導入コストを抑える事が出来ます。 【特長】 ■簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEと...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社
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パルス機能を利用！ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成す…
『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。 パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition：原子層堆積)と 同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。 プロセス温度は80℃～500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min～500nm/minとなっております...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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厳しい環境下で多数の実績！適応可能が幅広い膜単体製造技術
コーティング技術を応用し、緻密なSiC膜のみで構成された製品を提供いたします。 平板をはじめ、複雑形状まで幅広く適応可能です。 半導体製造装置を中心に、超高温やプラズマの厳しい環境下での数多くの実績があります。 【製造工程(例)】 １．黒鉛基材を円板状に加工 ２．全面にCVD-SiCコーティング ３．外周加工により基材を露出 ４．高温酸化雰囲気中で基材除去 ５．2枚の膜単体円板...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社フェローテックホールディングス
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