• 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 炭化ケイ素の化学蒸着の世界市場シェア2023 製品画像

    炭化ケイ素の化学蒸着の世界市場シェア2023

    炭化ケイ素の化学蒸着 市場概要

    CVD炭化ケイ素は、化学気相成長(CVD)プロセスによって製造される炭化ケイ素材料である。CVD炭化ケイ素材料は、優れた熱的、電気的、化学的特性のユニークな組み合わせを持っており、高性能材料を必要とする半導体産業の用途に理想的に適している。 QYResearchが発行した最新市場調査レポート「炭化ケイ素の化学蒸着の世界市場レポート 2023-2029年」によると、CVD SiCの世界市場規模は2...

    メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research

  • CVD-SiC(化学蒸着法)「ソリューション」 製品画像

    CVD-SiC(化学蒸着法)「ソリューション」

    ベストソリューションを提供!独自技術を中心としたソリューション

    独自のCVD-SiC技術を中心に、 分析力・解析力・設計力を掛け合わせ、構想の初期段階から参画し、 ベストソリューションを提供いたします。 【提案例】 ○超高温アニール装置用大型部材開発(ボート、ホルダ、ノズル) ○狭ピッチ膜単カセットボート開発 ○超高純度SiCパウダー原料 ○次世代ウェハ対応部材 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【O...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フェローテックホールディングス

  • 【調査資料】非侵襲診断の世界市場 製品画像

    【調査資料】非侵襲診断の世界市場

    非侵襲診断の世界市場:内視鏡装置、電子外科装置、監視・追跡装置、その他…

    本調査レポート(Global Noninvasive Diagnostics Market)は、非侵襲診断のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の非侵襲診断市場概要、主要企業の動向(売上、販売価格、市場シェア)、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 非侵襲診断市場の種類別(By Type)のセグメントは、内視鏡装...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マーケットリサーチセンター

  • レーザ技術による薄膜Si太陽電池の成膜法とプラズマCVD技術 製品画像

    レーザ技術による薄膜Si太陽電池の成膜法とプラズマCVD技術

    ★従来の透明導電膜と太陽電池層の作成法を完全に捨て  原材料をガラス…

    出来る。また、現在普及している結晶型太陽電池に比べ、実際の発電出来る量が年間で10%以上も多く、環境負荷が少なく経済的な太陽電池と言える。当社は薄膜シリコン太陽電池の製造技術の中核であるプラズマCVD装置から開発し、世界に先駆けいち早く大面積の電池を市場に投入した。その実例等も併せて紹介する。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社AndTech

  • 真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D> 製品画像

    真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D>

    CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。

    真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D>は、低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置で、CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高密度の活性種を生成することが可能。CCPプラズマ、ICPプラズマでは達成できないプラズマ状態を生成し、様々な材料の精密成膜、エッチング...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF 製品画像

    ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF

    ホットフィラメント(ホットワイヤー)を搭載したコンパクトな卓上型CVD…

    試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種(ラジカル)が試料表面に堆積して膜を形成します。...【特徴】 ○メタンなどの炭化水素ガスの高温フィラメント分解により、 導電性と耐食性が両立するダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜が作製可能。 ○窒素前駆体をフィラメント加熱機構により加熱分解させることによって、アンモニ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • 『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中 製品画像

    『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中

    除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見! 高温…

    大手バルブメーカーKITZグループの一員である当社は、⽇々進化するエレクトロニクス産業おいてタイムリーな提案こそがお客様にとっての価値と考え、新製品開発とサービス向上に取り組み、お客様と共に成⻑を⽬指します。 CVDやMOCVDの後段、除害装置の前段での副生成物の堆積に起因するトラブルにお悩みではないでしょうか。 KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行って...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー

  • 【調査資料】ナノ結晶ダイヤモンドの世界市場 製品画像

    【調査資料】ナノ結晶ダイヤモンドの世界市場

    ナノ結晶ダイヤモンドの世界市場:HPHT(高圧、高温)、CVD(化学蒸…

    本調査レポート(Global Nanocrystalline Diamond Market)は、ナノ結晶ダイヤモンドのグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界のナノ結晶ダイヤモンド市場概要、主要企業の動向(売上、販売価格、市場シェア)、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 ナノ結晶ダイヤモンド市場の種類別(By Ty...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マーケットリサーチセンター

  • CVDプロセスガス分析装置 MPQMS] 製品画像

    CVDプロセスガス分析装置 MPQMS]

    CVDプロセスのガス成分をその場で分析できる四重極質量分析システムです…

    当社の各種ナノカーボン製造装置やバイオマス炭化装置にそのまま組み込んで 使用できるように設計してあります。作動排気系を有し、高い圧力のCVD条件にも対応できます。...【特徴】 ○四十極質量分析計 ○差動排気用高真空システム ○抽出データ管理用パソコン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • 【調査資料】単結晶ダイヤモンドの世界市場 製品画像

    【調査資料】単結晶ダイヤモンドの世界市場

    単結晶ダイヤモンドの世界市場:HPHT(高圧、高温)、CVD(化学蒸着…

    本調査レポート(Global Single Crystal Diamond Market)は、単結晶ダイヤモンドのグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の単結晶ダイヤモンド市場概要、主要企業の動向(売上、販売価格、市場シェア)、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 単結晶ダイヤモンド市場の種類別(By Type)の...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マーケットリサーチセンター

  • 鉄・アルミ・ステンレスの溶接 製品画像

    鉄・アルミ・ステンレスの溶接

    板厚4.5mm程度から120mm程度のものまで!鉄・アルミ・ステンレス…

    当社では、鉄、ステンレス、アルミの溶接を行っております。 材料手配⇒溶接・製缶⇒歪取り焼鈍・ショット・下塗り⇒機械加工⇒ 仕上げ⇒塗装・メッキ⇒組立と一貫した部品製作が可能。 精度を要求される溶接・製缶構造物の他、ステンレスの溶接構造物も 得意としており、ステンレス溶接構造真空チャンバについては数千台の 実績がございます。 【取り扱い品目(一部)】 ■架台 ・液晶・半導...

    メーカー・取り扱い企業: 東金属産業株式会社 本社・沼津工場

  • 【事例】『DSMC-Neutrals』真空排気シミュレーション 製品画像

    【事例】『DSMC-Neutrals』真空排気シミュレーション

    真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希…

    【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が有っても,必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 特殊炉【アルミ溶解・保持装置】 製品画像

    特殊炉【アルミ溶解・保持装置】

    丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【アルミ溶解・保持装置】』

    電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【アルミ溶解・保持装置】』の ご案内です。 ■□■特徴■□■ ■溶解炉 常用/最高温度:750℃/950℃ 丸祥電器社の技術は、食品の焼き上げや防腐処理、印刷や フィルムのキュア用、線材連続アニールやCVD用、 超伝導用高精度雰囲気処理、光学レンズ用ガラス溶解や プレス及びアニール、硝子フ...

    メーカー・取り扱い企業: 丸祥電器株式会社

  • 真空フランジ ボールバルブ『BRWシリーズ』 製品画像

    真空フランジ ボールバルブ『BRWシリーズ』

    NWフランジ接続のボールバルブです。最高流体温度200℃まで使用可能!

    ボールシートに耐久性・耐熱性に優れたハイパタイトPTFEを 使用しており、最高流体温度200℃まで使用可能。 フルボア構造は高いコンダクタンスと副生成物の堆積を抑制する 効果があり、CVD装置などの排気ラインに適しています。 #副生成物対策 【特長】 ■フルボア構造は高いコンダクタンスと副生成物の堆積を抑制 ■CVD装置などの排気ラインに好適 ■ボールシートに耐久性・耐熱性...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー

  • RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター 製品画像

    RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

    各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

    RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置(CVD, MBE, PVD等)や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等)に対応可能。 4) 従来...

    • Riber-insituモニタ画像.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • 半導体製造装置 自動石英管洗浄装置 製品画像

    半導体製造装置 自動石英管洗浄装置

    【デモ機貸し出し可能!】石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さ…

    ウエハーは製造工程に使用される石英管のクリーン度が、製品の品質に大きく影響します。 したがって、拡散工程やCVD工程及びアニール工程で使用される石英管の洗浄は重要なポイントです。 ジャパンクリエイト社は長年に及ぶ経験と実績から、御客様のニーズにあった石英管洗浄装置を提供致して居ります。 方式は横型式と縦型式と2種類があり、石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さい。 詳しくはお問い合...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 温水で230℃MAXまで昇温可能!温水循環装置【KCT230℃】 製品画像

    温水で230℃MAXまで昇温可能!温水循環装置【KCT230℃】

    温水で230℃まで昇温が可能な温水循環装置です。スーパーエンプラ成形金…

    【特長】 ○高温水循環装置  スーパーエンプラ成形金型温調、CVD装置、各種チャンバーなど  多様な用途の温度管理に対応可能   230℃までの高温域に対応し、昇温効率が良い   大流量ポンプの採用で、均一の温度管理が可能 ●詳しくはお問い合わせ、も...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社レイケン 本社、南関東営業所、大阪支店、中部営業所、茨城工場、大阪工場

  • 真空成膜装置・高真空装置 製品画像

    真空成膜装置・高真空装置

    お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置

    高真空装置で定評のあったMECA2000社の技術を引き継いだ高真空度を実現...真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デジタルイメージでは、長年薄膜素材の評価装置として定評のあるVINCI社の製品を取り扱ってまいりました...

    メーカー・取り扱い企業: 西華デジタルイメージ株式会社

  • Radimoラジカルモニター <対向型ラジカルモニターDP型> 製品画像

    Radimoラジカルモニター <対向型ラジカルモニターDP型>

    世界初のプロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置です。

    Radimoラジカルモニター <対向型ラジカルモニターDP型>は、エッチング・表面処理・薄膜作製時に発生する気相中の原子状ラジカルを計測し、プロセスへのフィードバックを可能にしたモニタリング装置。世界初のプロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置です。プラズマ中の基底準位に存在する原子を吸収分光法により測定、測定対象及び目的により最適構造の選定が可能です。計測用ソフトウエアは名古屋大学堀研究室...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • 日新技研社 単結晶育成装置 総合カタログ 製品画像

    日新技研社 単結晶育成装置 総合カタログ

    日新技研社〜単結晶育成装置〜総合カタログ 無料配布中!

    おります ◆◆掲載製品◆◆   ○トランジスタインバータ   ○酸化物単結晶引上装置   ○自動直径制御装置   ○μ-PD装置   ○超小型単結晶引上装置   ○SiC-CVD装置   ○Gap.InP高圧合成装置   ○高温アニール装置   ○SiC単結晶成長装置 ◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆...

    メーカー・取り扱い企業: 日新技研株式会社

  • 大気圧プラズマ装置  製品画像

    大気圧プラズマ装置 

    大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績(20…

    質の優位点】 ■目的とする表面エネルギー(接触角)をコントロールできる ■活性種ガス(OHラジカル等)の侵入部分の細部まで処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

  • 簡単大気圧でSiO2コーティング!プラズマコートUL-Colat 製品画像

    簡単大気圧でSiO2コーティング!プラズマコートUL-Colat

    弊社にてデモ可能! 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでCVD。 …

    今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるSiO2製膜を大気圧下で行えます。 厚みは処理条件によりコントロール可能。(速度、液量、距離など) 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜コストを安く抑える事が可能です。 操作はタッチパネルでの簡単操作。条件設定を記憶させる事で次回以降も同じ条件で製膜をする事が可能...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

  • 大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」 製品画像

    大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」

    従来比50%の性能UP!低N2消費(約45%削減)の大気圧プラズマ装置

    乾燥工程不要 ■接触角(表面エネルギー)をコントロールできる ■活性ガス(各種ラジカル)処理なので、不織布や繊維束内部まで処理が可能。 ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■パーティクルフリー ■排ガス処理も不要 ■処理表面への物理的、電気的、熱的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型)...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

  • 半導体製造装置用プロセスコントローラー 製品画像

    半導体製造装置用プロセスコントローラー

    グラフィカルに各種装置・PLCを制御!医療・農業など異分野へ幅広い応用…

    『半導体製造装置用プロセスコントローラー』は、当社の縦型減圧CVD装置 「HG-21」に搭載された、オリジナルの製品です。 産業機器、医療・農業など異分野へ幅広い応用が可能。 PCから簡単にプロセス条件の変更が行えます。またDI・DO・AI・AOで制...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ハイテクノサービス

  • 排ガス除害・除粉装置・ウェットスクラバー Panacea 製品画像

    排ガス除害・除粉装置・ウェットスクラバー Panacea

    ドライエッチ、CVD、エピタキシャル成長プロセスから排出される、有毒ガ…

    大手半導体、フラットパネルメーカー様へ多数納入実績あり! ■特徴1:発がん性物質の抑制 燃焼除害装置から出る発がん性物質の抑制が可能です。 ■特徴2:水のみでCl2除害効率99%以上 リサイクル水使用による、給水使用料の劇的削減、NaOH量の大幅な使用料削減を実現します。 ■特徴3:生産装置の歩留り向上 燃焼除害装置のメンテナンスサイクルの向上を実現による生産装置のダウンタ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東設 本社ヘッドオフィス

  • アルミナ(Al2O3 99.5%、99.8 %、 99.9%) 製品画像

    アルミナ(Al2O3 99.5%、99.8 %、 99.9%)

    アルミナは良好な電気絶縁性を持ち適度にバランスの取れた最もポピュラーな…

    【特長】 ○良好な電気絶縁特性を生かし早くから各種電気部品に応用されてきた 〇ファインセラミックスのなかでは最も安価 ○機械強度が高く耐食性に優れる ○耐プラズマ性に優れているためCVD装置やエッチング装置の部品に最適 ○大型製品の製造が可能 ●特性値はカタログを参照ください...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ファインセラミックス株式会社

  • メンテナンス・オーバーホールサービス 製品画像

    メンテナンス・オーバーホールサービス

    修理調整から移設立ち上げまで!メーカーサービスサポートの終了した機器も…

    当社では、「ASM・PXJ-200などのロボットリプレイス作業」をはじめ、様々な 『メンテナンス・オーバーホールサービス』を行っております。 半導体・CVD関連装置のメンテナンス・調整後には、高解像度デジタル オシロスコープによる測定結果をプリントアウトして添付。 メーカーサポートの終了した機器などのカスタマイズ・セッティング・ 移設立ち上げなどにも柔軟に対応いたします。一度ご相...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ハイテクノサービス

  • 有機EL用蒸着装置 製品画像

    有機EL用蒸着装置

    プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択で…

    『有機EL用蒸着装置』は、デバイス開発や材料開発に好適なマルチチャンバ 仕様の装置です。 前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが可能。 目的に応じて、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、 封止室等を自由に選択できます。 【特長】 ■基板サイズは最大□300mm対応 ■蒸着セルは各種材料・サイズから選択可能 ■CVD室、スパッタ室等との組...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 気相成長株式会社 事業紹介 製品画像

    気相成長株式会社 事業紹介

    主に気相成長技術(CVD法)に関するケミカルを取り扱っています!

    気相成長株式会社は、主にファインケミカルの研究開発、ファインケミカル及び その関連部品・関連装置の製作・販売、ファインケミカルに関するコンサルタント を行っている会社です。 当社は気相成長技術(CVD法)に関するケミカルを主軸に、米国、日本、中国、 台湾の4ヵ国で7件の特許を所有しています。 また、委託成膜(Contract CVD)も承りますので、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 気相成長株式会社

  • ロードロック式スパッタリング装置 製品画像

    ロードロック式スパッタリング装置

    CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です!

    『ロードロック式スパッタリング装置』は、ムービングマグネットにも対応し 全面エロージョンが可能です。 当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し 基板温度900℃を実現。 発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜ができます。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネッ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • DLCコーティング装置 製品画像

    DLCコーティング装置

    広範な膜特性の制御可能!基板加熱源は水冷型と加熱型から選択いただけます

    『DLCコーティング装置』は、豊富な蓄積データを有し、優れた膜厚分布 および再現性を実現します。 成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能。 半導体をはじめ、電子部品や光学部品、車載部品などにご利用いただけます。 また、マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作できます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■成膜源はRFプラズマCVD...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 【事例】『DSMC-Neutrals』でのダスト挙動の解析 製品画像

    【事例】『DSMC-Neutrals』でのダスト挙動の解析

    「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体…

    「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が有っても,必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートに...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【産業調査レポート】世界の非侵襲診断市場 製品画像

    【産業調査レポート】世界の非侵襲診断市場

    世界の非侵襲診断市場:内視鏡装置、電子外科装置、CVD手術、胃腸手術、…

    本調査資料では、グローバルにおける非侵襲診断市場(Noninvasive Diagnostics Market)の現状及び将来展望についてまとめました。非侵襲診断の市場動向、種類別市場規模(内視鏡装置、電子外科装置、監視・追跡装置、その他)、用途別市場規模(CVD手術、胃腸手術、肥満手術、美容整形、整形外科、凍結手術、その他)、企業別市場シェア、地域別市場規模と予測(北米、アメリカ、ヨーロッパ、ア...

    メーカー・取り扱い企業: H&Iグローバルリサーチ株式会社

  • 多元スパッタリング装置 製品画像

    多元スパッタリング装置

    基板温度900℃を実現!基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…

    『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構(昇降、公転、自転)を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • CVD装置用真空排気装置(塩素系ガス対応真空ポンプユニット) 製品画像

    CVD装置用真空排気装置(塩素系ガス対応真空ポンプユニット)

    熱CVD装置の排気に実績多数。Cl系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

    ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ(水封式真空ポンプとメカニカルブースタ)をユニット化。 CVD装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。 特に表面処理用の熱CVD装置の塩素系ガスの排気系に有効で工...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 【産業調査レポート】世界の合成単結晶ダイヤモンド市場 製品画像

    【産業調査レポート】世界の合成単結晶ダイヤモンド市場

    世界の合成単結晶ダイヤモンド市場:種類別(HPHT、CVD)・用途別(…

    当調査レポートでは、合成単結晶ダイヤモンドの世界市場(Synthetic Monocrystalline Diamond Market)を総合的に分析し、今後の市場を予測しました。合成単結晶ダイヤモンドの市場動向、種類別市場規模(HPHT、CVD)、用途別市場規模(機械装置、光学材料、電子装置、ジュエリー、その他)、企業別市場シェア、主要な地域と国の市場規模と予測(北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジ...

    メーカー・取り扱い企業: H&Iグローバルリサーチ株式会社

  • ウシオの光で出来ること『加熱/成膜』 製品画像

    ウシオの光で出来ること『加熱/成膜』

    ウシオの光で出来ること『加熱/成膜』

    伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例(加熱/成膜)のご紹介です 【特徴】 ○使用光源:ハロゲンランプヒータ ○半導体・FPD・太陽電池などの製造プロセスにおける  金属膜、絶縁膜の形成に用いられる  CVDやスパッタリング装置の熱源として最適 ○さらに成膜前の、水分除去や予備加熱にハロゲンランプヒータを  用いることで、スループット向上と高品質な膜形成を...

    メーカー・取り扱い企業: ウシオ電機株式会社

  • ウシオの光で出来ること『太陽電池製造用加熱光源』 製品画像

    ウシオの光で出来ること『太陽電池製造用加熱光源』

    ウシオの光で出来ること『太陽電池製造用加熱光源』

    ウシオ社の新エネルギー技術開発用光源 太陽電池製造用加熱光源の実用例のご紹介です 【特徴】 ○ハロゲンランプヒータによる「非接触による高速昇降温」は  焼成炉、CVD、スパッタリングなどの装置において標準熱源として採用 ○半導体市場で培った高精度な、熱処理性能、FPD市場において  長年実績を積んだ長尺ヒータは  各種太陽電池製造プロセスで即戦力として採用 ●その他機...

    メーカー・取り扱い企業: ウシオ電機株式会社

  • 温水循環装置【KCTシリーズ】 製品画像

    温水循環装置【KCTシリーズ】

    高い精度と安定性を持った温水循環装置 清水を使う加熱タイプの温調機で…

    【特長】 ○汎用温水循環装置  高性能ポンプの採用により、負荷側温度を常に均一に制御可能  昇温効率が高く、昇温時間が大幅に短縮 ○大流量温水循環装置  CVD装置、ロール・ジャケット・各種チャンバーなど  多様な用途の温度管理に対応可能 ○高温水循環装置   160℃までの高温域に対応し、昇温効率が良い   大流量ポンプの採用で、均一の温度管理...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社レイケン 本社、南関東営業所、大阪支店、中部営業所、茨城工場、大阪工場

  • パルスレーザパルス蒸着システム 製品画像

    パルスレーザパルス蒸着システム

    パルスレーザパルス蒸着システム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

  • ウェーハ搬送ロボットの世界市場規模調査レポート2023-2029 製品画像

    ウェーハ搬送ロボットの世界市場規模調査レポート2023-2029

    ウェーハ搬送ロボットの市場規模、2029年までCAGR8.3%で成長し…

    QYResearchは「グローバルウェーハ搬送ロボットに関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。ウェーハ搬送ロボットの市場生産能力、生産量、販売量、売上高、価格及び今後の動向を説明します。世界市場の主要メーカーの製品特徴、製品規格、価格、販売収入及び世界市場の主要メーカーの市場シェアを重点的に分析する...

    メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research

  • ビューポートシャッター SFシリーズ 製品画像

    ビューポートシャッター SFシリーズ

    ビューポートシャッター SFシリーズ

    蒸着、スパッタ、MBE、CVDなどの成膜プロセス 有機ガスを含むプロセス中で問題となるビューポートへの成膜やダメージを防止 【特徴】 ○コンフラットフランジ仕様により、MBE装置等  各種超高真空装置に使用可能 ○回転導入機も200℃ベーキング対応の  RFTシリーズを使用しているため、高温ベーキングが可能 ○φ70CF〜φ203CFまで対応 ○ほとんど隙間なく閉じることが...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • 【英文市場調査レポート】中国の半導体産業 製品画像

    【英文市場調査レポート】中国の半導体産業

    『無料サンプル』進呈中!【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法…

    ウエハー製造には、フォトリソグラフィー装置、エッチング装置、薄膜蒸着装置(PVD/CVD/ALD)など、10種類以上に分類されるさまざまな半導体装置が使用されます。これらのカテゴリーは、異なる動作原理や処理材料に基づいてさらに分類されます。これらの装置の製造には、光学、物理、化学を含む多様な科学技術の統合が必要であり、高い技術的障壁と製造上の困難が伴います。また、これらの機械はその価値が大きく、研...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社グローバルインフォメーション

  • 『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』 製品画像

    『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

    半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

    ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 「酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置」 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 「カーボンナノチューブ合成装置」 ■全自動でCNT合成が可能 ■優れた基板温度分...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ 製品画像

    TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ

    波形と周波数のフレキシビリティ!圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…

    『TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ』は、半導体製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD(PECVD)と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ...

    メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社

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