単結晶粒（真空蒸着材／錠剤）

PRLiF粒など、各種結晶粒（真空蒸着材）取り揃えております。KBrヘキカ…

当社は、光学結晶メーカーならではの豊富な品揃えとスピーディーな対応で、 多種・少量の研究・試作用製品から量産品まで、ご要望にお応えします。 真空蒸着材 単結晶粒のサイズは2-5mm。記載されたサイズ以外も対応可能です。 また「KBrヘキカイカット品」は、"KB4SQ-1"(4x4x1 mm)や"KB7SQ-1-2"(7x7x1-2 mm)を ラインアップしております。 【真空蒸着材　ラインア...

メーカー・取り扱い企業： ピアーオプティックス株式会社

高粘度スラリーでも目詰まりしない『W-CELL フィルター装置』

PR独自のろ過方式で高粘度液も精密にろ過。100ミクロン以下のスリット幅で…

『W-CELL フィルター装置』は、インク・塗料・顔料・ラテックス・合成樹脂、 製紙、果実・野菜ジュース、液卵、にごり酒などの分級ろ過や異物除去に適したフィルター装置です。 高粘度・高濃度スラリーでも安定した連続ろ過が可能。 ステンレス製のため耐圧・耐熱性に優れ、長寿命で低ランニングコストを実現します。 スクレーパや逆洗による残渣の除去が容易で、装置の自動化が可能。 大型から小型...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社荒井鉄工所

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、 基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源同時成膜（RF/DC、又はDC/DCのみ）、など多目的にお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板：2"（1〜...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフット...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

ンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントロー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

【成膜室】 ・処理方式：　バッチ式／ロードロック式 ・カソード方式：　ロングスローマグネトロンスパッタリング　※ヘリコンスパッタ（通称）　※オプション ・カソード数：　2インチカソード（磁性体、非磁性体共用）　Max.4台まで搭載可能 ・搭載電源：　DC500W　1台　※DC500W、RF300Wを選択でき、Max.2台まで搭載可能　※オプション ・到達圧力：　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありませ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４ ・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

昭和真空は、約15年の実績を誇るベストセラー装置SPH-2500のフルモデルチェンジを行いました。 ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」は、従来装置の特徴を受け継ぎつつ最新のテクノロジーを採用し、あらゆる面で従来機を超える性能を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

『FRS-HGシリーズ』は、2源/3源の同時スパッタ機能を搭載した 研究開発用の多源同時マグネトロンスパッタ装置です。 据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計。 成膜ソース導入ポートは3ヶ所用意されてお...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

スパッタ・蒸着複合装置

1インチUHV対応スパッタカソード2源！ロードロック室は増設することが…

当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。 ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの 仕様です。 また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替式抵抗加熱蒸着と なっております。 【特長】 ■1インチUHV対応スパッ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200

単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの…

『CMS-3200』は、2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応する 3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmの正三角形。2インチウエハを標準基板とするため、 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット

高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

【仕様（抜粋）】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■スパッタカソード：マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■基板ステージ 　・基板加熱：700℃（基板表面） ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

移動ロードロックシステム『CEX-2420』

スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを装備！各試料ホルダーへ…

『CEX-2420』は、コンビナトリアル・スパッタ装置「CMS-6420」間、 あるいは、パスカル社製「PLD装置」間で、大気暴露なしに成膜試料を 超高真空下で移載搬送できる移動ロードロックシステムです。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット

簡易実験用スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合…

究から先端プロセスの開発までカバーする シンプルでコストパフォーマンスの高いスパッタリング装置です。 全手動化し低コスト化したバッチタイプと手動搬送機構を装備した 簡易ロードロックタイプの2機種をラインアップ。両機種とも上位機種の プロセス性能を維持した上で、大きなコスト低減を実現しています。 サンプルテスト・仕様対応・納入後のフォローまで一貫して丁寧な対応を 行っています。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ：Φ2〜6inch 真空（UHV対応可能）・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。（詳細別途協議）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

割れない！削らない！低コストな『スパッタリングターゲット』

酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能！熱…

た、日本国内の品質を基準とした生産体制を整えております。 お客様のご要望により各種分析も実施可能です。 【対応可能材質】 金属材料：Si、Nb、Ti、Cr、Ta、Al… 酸化物　：SiO2、Ta2O5、Al2O3、ITO… 合金材料：Cu+Ag、Ni+Cr、Ti+Cl… ※製造工程の紹介資料も進呈しております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

メーカー・取り扱い企業： USTRON株式会社

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…

×高さ40mm 　形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください ■スパッタカソード：マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：TMP+RP ■圧力制御：APC制御 ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

0』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。 電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。 オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を 行うこと...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

【特殊仕様】 ■絶縁層用カソード(1個)と電極層用カソード(2個)の計3元スパッタも仕様変更可能 (二酸化ケイ素SiO2や窒化ケイ素Si3N4,型式:SPR-015-B) ■排気系をクライオポンプに仕様変更可能 ■膜厚計で制御して積層する仕様変更可能(型...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所

三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマ…

『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 （ヒータ温度：950℃）や反...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

【仕様（抜粋）】 ■ワーク：最大18L（形状・サイズ・材質等で異なります） ■スパッタカソード：マグネトロン方式 ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：拡散ポンプ+RP ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

Druck 半導体製造装置向け圧力計測ソリューション

半導体製造装置やサブシステムの圧力校正試験にPACEシリーズを導入しま…

【SEMICON JAPAN2022 Hall2 総合ゾーン＃2134に出展決定】 流体制御に欠かせないPACE圧力コントローラの校正デモが体験できます！高速圧力制御を実感しませんか？ 【生産ラインの圧力校正試験に圧力コ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

R＆D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。…

。 約1Pa～0.1Paまでの放電維持圧力範囲を持ち、従来より低圧力でスパッタ成膜が可能。 従来に比べ更なる小型化、自動化を実現したうえに、磁性ターゲットにも対応しています。 さらに、20mm角基板対応の『S-QAMシリーズ』も新登場！ 研究開発現場での使い勝手を最優先に配慮した新モデルとなっています。 ★ただいま、QAMシリーズの「ユーザーボイス」を進呈中！導入の決め手、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

多種金属対応　プログラマブルスパッタコーター

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

対応のハイスペックモデルです。 ソフトウェア制御で高精度コントロールが可能。各種金属の薄膜作製を手軽に行なえます。 【特徴】 〇プログラマブルスパッタコーター 〇フルオート/マニュアルの2タイプの操作 〇シャッター標準装備...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

空気式高速多針タガネ『JT-16』

940gのシリーズ最軽量！ニードル交換も簡単な新型ジェットタガネ誕生！

【仕様】 ■型式：JT-16 ■使用空気圧力 MPa(kgf/cm2)：0.6(6) ■空気消費量 m3/min：0.16 ■打撃数： min-1：6000 ■針径と本数 　・φ2/本：15 　・φ3/本：6 ■針の標準長さ mm：180 ■本体質量 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テラダ 機工部

研究開発用スパタ装置『HSK602VTA』

省スペース化を実現！同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装…

『HSK602VTA』は、6基の小型カソードが個別のシャッターと電源を 持ち、同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装置です。 リボルバー式4サンプルホルダーを装備しており、一度の真空引きで ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ハヤマ

『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』

不活性ガス雰囲気中で基板・ターゲットの交換ができる、研究開発用小型スパ…

『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』は、不活性ガス雰囲気中で基板交換およびターゲット交換ができる、高品質と低価格を実現した研究開発用小型スパッタ装置です。 小型ながら2インチカードを2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社菅製作所

スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co

FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…

と基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコントロールされることで最適な成膜を実現しています。 主用途：MEMS製品や高機能光学製品製造 寸法 (L×W×H)： 2.3 m× 1.3 m × 2.1 m 重量(ロードロック付の場合) ：1,700 - 2,000 kg 最大基板サイズ： 直径150 mm 最大基板キャリア：直径220 mm 対応プロセス...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回…

【主な仕様】 回転速度：0または2～20rpm 加熱温度：最高500℃...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

全自動ロールクリーニングシステム　「CMW-SRR/ULT」

クリーンルーム内の使用に最適！全自動でロールを洗浄するシステムです。

の抽出タイミングや洗浄サイクルをコントロール可能 ○状態をそれぞれ違うアラームでの監視も可能 [5リットル洗浄液タンク] ○クリーンヘッド1台にそれぞれ洗浄液タンクが付属 ○両面除塵タイプは2台の洗浄液タンクが付属 ○タンクには洗浄液の残量を警告するセンサー取付 →クリーンヘッドがドライになるのを防ぐ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

コンパクトウェブクリーナー装置　「CMC」

ワーク幅 255,350,450,550,600,750mmに対応！

「CMC」は狭幅ウェブ向けのコンパクトウェブクリーナー装置で、ワーク幅 255,350,450,550,600,750mmに対応しています。 ラベル印刷をはじめとした小幅のアプリケーションに適しています。 アプリケーションによって、3タイプの除塵システムから選択でき、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

【仕様】 ＜FDS-1C-160R Sputtering System＞ ■スパッタ電源：DC500V/0.8A ■カソード：φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット：Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/etc. ■真空排気系：ロータリーポンプ 162L/min ■真空計：ピラニゲー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム： 80sec（Al：100nm＋SiOx：20nm） ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着力が得られる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

【マグネトロンスパッタリングカソード】

不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…

【特徴】 ・高真空対応 ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要 ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲットの交換が可能 ・シャッター、チムニーポート、ガスインジェクショ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高電圧パルス発生器

電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ・負荷短絡時の保護機能。 ・5KVフローティング回路へ80W電力供給、SPI信号通...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Ａ・Ｒ・Ｐ

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

【主な仕様】 ターゲット直径：2インチ ターゲット厚さ：最大6mm（材料に依存） DC電源：720W（600V, 1.2A） RF電源：300W（13.56MHz） ガス供給：ガスフード経由 冷却：水冷（1L／分）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

当社は30年以上真空技術に携わり、ユーザー様の仕様に合わせた製品を 主に研究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

特長 ・高速応答性 ─ 設定値入力後2秒未満で流量安定 ・エラストマー（ゴム）シール ・VCR、VCO、Swagelok準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマリ・オ...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

薄膜作成コンポーネント

単品試作から用途に合わせて製作可能！「EBガン」や「Kセル」などをライ…

当社の取り扱う『薄膜作成コンポーネント』をご紹介します。 世界最小クラスのUHV対応「マグネトロンスパッタカソード」をはじめ、 ICF70よりマウント可能な「EBガン」やルツボ最小2cc～100cc対応の 「Kセル」などをラインアップ。 また、有機・金属材料対応の「マルチ抵抗加熱ソース」や「コニカル型 蒸着ソース」などもご用意しております。 【ラインアップ】 ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

イオンビームスパッタ装置『scia Coat 200/500』

最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビー…

『scia Coat 200/500』は、最大200mmウエハ基板又は 300mm×500mm基板対応の製品です。 プロセスは、イオンビームスパッタリング(IBS)、 イオンビームエッチング(IBE)、デュアルイ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RAM インライン型スパッタリング成膜装置

パイロットラインから量産ラインへが展開が可能な装置です。

Max. Sub. Size : 200mm x 300mm x t0.2mm Number of substrate per tray:2 Tray size:350mm×1000mm×20tmm Effective depo...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

ECRアトムソース

低圧動作のECR型アトムソース

ECR励起プラズマ中からアトムフラックスを生成します。低圧動作特性に優れたECR方式のアトムソースです。フィラメントレス構造のこのアトムソースは窒素、水素、酸素などのガス種からのアトムフラックスの生成が可能です。...ECR励起プラズマ中からアトムフラックスを生成します。低圧動作特性に優れたECR方式のアトムソースです。フィラメントレス構造のこのアトムソースは窒素、水素、酸素などのガス種からのアト...

メーカー・取り扱い企業： アドキャップバキュームテクノロジー株式会社

小型ウェブコーター(ロールＴＯロール）

実験用の小型成膜装置。ＰＥＴ等のフィルムに成膜します。

フィルム巾：100ｍｍ 厚み：50μ～100μ 長さ：200ｍ カソード：2SET RFボンバード可 仕様はお客様のご要望をできる限りお聞きし、柔軟に対応致します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士アールアンドディー

成膜装置 スパッタ装置

幅広い実績を誇ります。

【特徴】 〇ソース源には低価格の1”スパッタガンや2”～4”スパッタガンの成膜レシピ（ＰＣ制御）システムを有する装置まで幅広い実績を誇ります。 〇多数のオプションも備えております。 〇基板ホルダー（オプション各種・回転、ＸＹ、加熱、冷却、シャッタ...

メーカー・取り扱い企業： バキュームプロダクツ株式会社

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

【仕様】 　■ イオンビームエネルギー:0–3keV 　■ イオン電流密度:>300μA/cm2 　■ 高スパッタリングレート:200Å/min 　■ ビーム径:2.5mm 　■ リモートコントロール機能:ビーム電圧のオンオフ 　■ イオンビームスキャニング機能: 　■ DC偏向機能...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 「カーボンナノチューブ合成装置」 ■全自動でCNT合成が可能 ■優れた基板温度分布およびガスフ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ＳＲＲ-Ｗ（Ｎ）粘着ロール除塵装置

業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅…

ルトを使用する駆動と違い、弊社独自の駆動装置により、駆動部の摩耗による粉じんが発生するリスクがありません。従来、1700ｍｍ幅の粘着ロールの洗浄に15分ほどかかっていましたが、弊社装置で洗浄すれば約2分で清掃完了！作業者によるムラも軽減され、歩留まり改善にもお役に立てます！...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

Roll to Roll Sputtering System

Flexible Display用など機能性Film製造用Coatin…

• System Type : 2 Drum ( Max. 12 Dual Cathode ) 　　　　　　　　　　　　1 Drum ( Max. 6 Dual Cathode ) • Substrate ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＵＫＷＯＮ

サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート）

特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

スとサファイアを溶接する。 ◎コバールなどの磁性材を使用しないため、周辺の磁場に影響することがない。 ◎広範囲波長でも安定な透過率を持つ。 製品仕様 1.真空度：1x10-10 torr 2.許容温度: -100℃～500℃ 3.透過率:80％以上 4.波長範囲:200nm～4800nm 5.フランジ材質:304S.S.或は316S.S. 6.フランジ接続:KF或はCF 7....

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

有機ポリリン酸塩の世界市場

有機ポリリン酸塩の世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション別…

=グローバル市場調査レポート出版社であるGlobaI Info Researchがリリースされました「有機ポリリン酸塩の世界市場2023年：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション別、2029年までの予測」レポートには、世界市場、主要地域、主要国における有機ポリリン酸塩の販売量と販売収益を調査しています。同時に、有機ポリリン酸...

メーカー・取り扱い企業： GlobaI Info Research有限会社 Global Info Research