• フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』 製品画像

    フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

    PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

    『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

    • s1.png
    • s2.png
    • s3.png
    • s4.png
    • s5.png
    • s6.png
    • s7.png

    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • Enovasense Field Sensor 製品画像

    Enovasense Field Sensor

    PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…

    フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約11万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長  ・非接触で下記が測定できます。    ☆不透明体の厚みマッピング...

    メーカー・取り扱い企業: プレシテック・ジャパン株式会社

  • CVD装置 製品画像

    CVD装置

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • 太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置) 製品画像

    太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置)

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • グラフェンで被覆したポーラスガラス 製品画像

    グラフェンで被覆したポーラスガラス

    耐アルカリ性が向上!グラフェン膜で被覆された多孔質硝子

    『グラフェンで被覆したポーラスガラス』は、ポーラスガラスの表面をシリル化し、その後、加熱した有機ガスによって炭素被覆した(化学気相蒸着法;CVD)多孔質硝子です。 以上の方法でポーラスガラスの細孔表面をグラフェン膜で完全に覆うことができます。 板状のサンプルであれば、外表面から内部まで連続したグラフェン膜が形成しているため、硝...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社赤川硬質硝子工業所

1〜3 件 / 全 3 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg
  • 修正デザイン2_355337.png

PR