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  • 昇温時間を大幅に短縮!温水循環装置【KCTシリーズ】 製品画像

    PR最大180℃!昇温効率が高く、昇温時間を大幅に短縮!

    清水を媒体とした加熱温調機です。 高い精度と安定性があり、昇温効率が高く、金型の昇温時間が大幅に 短縮できます。 2018名古屋ブラスチック工業展にて実機を展示します。皆様のご来場をお待ちいたしております。 会期:2018年10月31日(水)~11月2日(金) 会場:ポートメッセ名古屋(第3展示室) ■小間番号:D-9 ■出展ゾーン:プラスチック機械 成形機部品/周辺機器 ■出...(つづきを見る

  • 高機能表面処理『DLCコーティング』 ※用途事例進呈 製品画像

    PR耐磨耗・耐溶着・耐凝着などの特性を向上。切削工具、金型、自動車部品など…

    当社の『DLCコーティング』は、回転・滑り・往復などの機械的相対運動に 要求される様々な特性を兼ね備え、切削工具や各種金型、 自動車・機械部品などへのコーティングで活躍します。 摩擦抵抗を低減できる「ジニアスコートHA」、 表面の平滑性に優れた「ジニアスコートHAX」、 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」 など、目的に合わせて様々な膜種が選択可能です。 ただい...(つづきを見る

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像カタログあり

    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...(つづきを見る

  • コーティング・熱処理の総合カタログ 無料プレゼント中 製品画像カタログあり

    工業炉の総合メーカー 中日本炉工業よりCVDコーティング装置、真空熱処…

    、小型真空熱処理炉メーカー 中日本炉工業株式会社より コーティング・熱処理の総合カタログを無料プレゼント中です。 加熱炉一台にコーティングチャンバーを、2~4台を付加することが出来る 「CVDコーティング装置」、充分な安全機構とともに焼入、焼戻しまでが全自動 プログラムコントロールにてできる「NVF型シリーズ」を各種取り揃えております。 また、コーティングの各応用例・適用例もわかり...(つづきを見る

  • 各種熱処理装置 製品画像カタログあり

    半導体や太陽電池の生産・研究開発設備!独自の高温処理技術による高温熱処…

    大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および 研究開発向けに提供します。 主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、 エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。 また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、 横型CVD装置・LC6400シリーズなどもライン...(つづきを見る

  • 横型実験管状電気炉 FT-201P 製品画像

    卓上に置いて即実験!小型真空炉として使用可能!ガス系等及び真空装置を接…

    【特徴】 ・ガス系等(オプション)及び真空装置(オプション)を接続すればCVD装置の完成 ・9パターン×9ステップのパソコン通信対応プログラムコントローラーが標準装備(オプションにて16×16プログラム可能) ・専用MPCS(オプション)使用にてパソコンリンク可能 ・...(つづきを見る

  • 真空用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックス 製品画像カタログあり

    SiCおよびGaN製パワー半導体製造プロセスに対応。高温、真空、腐食性…

    。 そのパワー半導体の製造プロセスに不可欠な機能部品は高温で腐食性雰囲気に耐える、 不純物を含まないなど厳しい条件を満足する必要があります。 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズのCVD技術によるTaC部品、ヒータ、静電チャック、 PBN部品は高い耐熱性や耐腐食性を有し、他製品では実現が難しい急速昇降温・超高温を容易に実現できます。 また、このCVD技術による機能部品は有...(つづきを見る

  • ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像カタログあり

    ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

    縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...(つづきを見る

  • 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像カタログあり

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…

    ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...(つづきを見る

  • R&D/小型実験用横型炉 製品画像カタログあり

    小型ながら、半導体グレ−ドでの各種熱処理プロセスが行える実験炉

    小型でありながら、半導体グレ−ドでの各種熱処理プロセスが行える実験炉です。お客様の仕様に合わせ、低温から1400℃の高温処理、また、真空システムとの組合せにより、CVDや真空アニ−ル炉としてもご使用いただけます。 ●ヒータはカンタルA-1からス−パ−カンタルまで、温度仕様により選定可能 ●小型ながら3ゾ−ン制御により、均熱安定性が高い ●各種ガスユニットを用意。様々なプロセスに対応します...(つづきを見る

  • 特殊炉【特殊ガス処理装置】 製品画像カタログあり

    丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【特殊ガス処理装置】』

    処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【特殊ガス処理装置】』のご案内です。 丸祥電器社の技術は、食品の焼き上げや防腐処理、印刷や フィルムのキュア用、線材連続アニールやCVD用、 超伝導用高精度雰囲気処理、光学レンズ用ガラス溶解や プレス及びアニール、硝子フロート用レアーヒーター、 合成石英用プリフォーム炉、ロー付け、光輝焼鈍、セラミックや 焼結金属向け脱脂及...(つづきを見る

  • 特殊炉【アルミ溶解・保持装置】 製品画像カタログあり

    丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【アルミ溶解・保持装置】』

    の ご案内です。 ■□■特徴■□■ ■溶解炉 常用/最高温度:750℃/950℃ 丸祥電器社の技術は、食品の焼き上げや防腐処理、印刷や フィルムのキュア用、線材連続アニールやCVD用、 超伝導用高精度雰囲気処理、光学レンズ用ガラス溶解や プレス及びアニール、硝子フロート用レアーヒーター、 合成石英用プリフォーム炉、ロー付け、光輝焼鈍、セラミックや 焼結金属向け脱脂及...(つづきを見る

  • ワッティー『ヒータ総合カタログ』 製品画像カタログあり

    ヒータ総合カタログ。熱に関するトータルソリューションをご提供します

    リーズ →豊富なラインナップ →特殊形状、発熱部の分割、発熱比指定など対応可能 ○シリコンベルトヒータ →配管・タンクの加熱、凍結防止用 →最高使用温度200℃ ○マントルヒータ →CVD装置・エッチャー・アッシャーに最適 →複雑な形状のヒータも製造可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...(つづきを見る

  • 熱処理炉、真空炉、焼結炉などを取り扱う中日本炉工業の総合カタログ 製品画像カタログあり

    工業炉専門メーカー 中日本炉工業より真空炉、電気炉など多数掲載した総合…

    真空熱処理の定番、変形極少の「NVFシリーズ」をはじめ、 時代のニーズに合わせた各種工業炉も充実のラインナップで即応します! 非常にコンパクトな設計で設置面積も最小に押さえてある真空焼結炉 「NVF-Sシリーズ」や、量産化の代表製品である自動車部品、ボルトナット、 ベアリングレース、チェーン部品などをはじめあらゆる部品の光輝焼入処理に 多くの納入実績を誇る熱処理省力化「NCFシリーズ」な...(つづきを見る

  • 真空成膜用ヒータ 製品画像カタログあり

    低ノイズプレートヒータなどの真空成膜用ヒータを多数ラインアップ!

    オーナルテックでは『真空成膜用ヒータ』を多数取り揃えております。 スパッタ/CVD用の「真空用丸型高温ヒータ」をはじめ、 「多目的用輻射型ホットプレート」などをラインアップ。 当社は熱に関する課題に対して、ヒータシステムの設計・製作を行っております。 1点の試作からで...(つづきを見る

  • 高温セラミックス『PBNエバポレーター』 製品画像

    高い電気抵抗と優れた熱伝導性を合わせ持つ異方性の高温セラミックスです!

    PBNは真空、半導体、エレクトロニクス、薄膜形成、製造業界に幅広く使用されています! 毒性が少なく、非多孔性の化合物は熱CVD統合的プロセスで製造されており、非常に純度の高いものとなっています。 メタライズ市場で次世代技術を代表する製品です。 【特徴】 ●高純度 ●非常に少ないアウトガス ●既存エバポレ...(つづきを見る

  • 【セラミックファイバーヒータ】1200℃まで対応可能※用途例掲載 製品画像カタログあり

    炉内1200℃まで対応可能! 金属熱処理炉やアルミ溶解炉などの用途で活…

    線材 ■パイプ連続炉処理炉(ステンレス・銅・アルミ等)■アルミ溶解炉・保持炉 ■弱電・電子関連連続処理炉           ■ロー付け炉 ■セラミック焼成炉   ■半導体用拡散炉    ■CVD炉 ■陶磁器焼成炉     ■ガラス熱処理炉    ■各種実験炉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 【用途・適用炉形式】金属フレームヒータ 製品画像カタログあり

    炉内900℃まで対応!クリーンな環境で使用できる工業用電熱ヒータ

    【用途】 ■各種金属熱処理炉(焼入・焼鈍・均質・浸炭) ■各種線材 ■パイプ連続炉処理炉(ステンレス・銅・アルミ等) ■アルミ溶解炉・保持炉 ■ロー付け炉 ■半導体用拡散炉 ■CVD炉 ■弱電・電子関連連続処理炉 ■ガラス熱処理炉 ■各種実験炉 等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • ヒーター 各種設計・製造・改造 製品画像

    配管ヒーターもお任せください!

    【各種設計・製造】 ○半導体向けCVDヒーター ○LCD向けヒーター ○ホットプレート ○基板加熱ヒーター 【ヒーター改造】 ○一体化、分割化等 ○配管ヒーター 【配管ヒーターの設計・施工】 ○各装置用配管ヒー...(つづきを見る

  • 半導体用発熱体 製品画像

    半導体用発熱体

    半導体製造に使われる拡散炉用ヒーター、CVD炉用ヒーターを提供  ...(つづきを見る

  • 高温熱処理炉 製品画像

    【高温熱処理炉】 SiCパワーデバイス超高温熱処理装置 VERTI…

    用(≦1350℃)、最高(≦1400℃)の熱処理可能 ■超高温急速昇降温ヒーター搭載(最大20℃/min) ■透明基板対応高速搬送メカ搭載 ■急速昇降温、高純度、高真空、超高温対応のALL-CVD-SiC搭載 ■高純度クリーニング技術によりインストールタイム、ダウンタイムを大幅に短縮 ■超高温環境で毒性、腐食性ガスに対応したシール構造技術...(つづきを見る

  • 株式会社システムリンケージ 事業紹介 製品画像

    実験装置・自動制御装置のことなら当社にお任せください!

    】 ■理化学実験装置  ・レーザー照射用XYテーブル  ・真空加熱容器  ・精密真空熱重量測定装置  ・冷間炭材フィルタ実験装置  ・粉体製造装置  ・鉱炉模型実験装置  ・AL-CVD用真空装置  他 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 高温管状型雰囲気電気炉 FT-201P-1600 製品画像カタログあり

    卓上に置いて即実験!高温小型真空炉として使用可能!

    PC通信対応16パターン×16ステップ デジタルコントローラー ・過昇温アラーム 【オプション】 ・ガス系フローコントロール ・真空排気系(R.Pポンプ他) ・排気ガス処理装置 ・CVD-TRAP ・高性能パソコンリンクプログラムコントローラー16×16パターン ・6chマルチ入力記録計(PC通信対応) ・MPCSコンピューター通信ソフトウェア 詳しくはお問合せ、...(つづきを見る

  • 活性化アニール装置 製品画像

    活性化アニール装置 SiCパワーデバイス超高温熱処理装置

    用(≦1350℃)、最高(≦1400℃)の熱処理可能 ■超高温急速昇降温ヒーター搭載(最大20℃/min) ■透明基板対応高速搬送メカ搭載 ■急速昇降温、高純度、高真空、超高温対応のALL-CVD-SiC搭載 ■高純度クリーニング技術によりインストールタイム、ダウンタイムを大幅に短縮 ■超高温環境で毒性、腐食性ガスに対応したシール構造技術...(つづきを見る

  • 株式会社フューテックファーネス 事業紹介 製品画像カタログあり

    各種の環境下での高精度な熱処理技術を自社技術として保有

    炉  ・半導体デバイス拡散炉 他 ■単結晶関連設備  ・縦型ブリッジマン炉  ・全自動縦型連続滴下方式ブリッジマン炉  ・真空高温縦型ブリッジマン炉 他 ■新規技術関連設備  ・MOCVD装置  ・カーボンナノチューブ作成装置  ・超伝導線製造設備 他 ※詳しくはPDF(英語版)をダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

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