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15件 - メーカー・取り扱い企業
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PR素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中!各種…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 機能性薄膜をご検討の際は、...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
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PRソーラーを接続するだけで使える蓄電システム!最大9.6kWhの蓄電池容…
単相3kW出力のパワコンと7.2kWhの蓄電池を内蔵した据置型のオフグリッド蓄電システムです。 4kWまでのソーラーパネルを接続可能。 配線はソーラーと出力部のみのため容易に設置可能。 【設置用途例】 ・山小屋 ・作業小屋 ・小規模店舗 ・小規模事務所 ・小規模工事現場 ・ユニットハウス ・トレーラーハウスなどに好適です。 ※詳細はPDFをダウンロード頂くか直接お問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社セイキ
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モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option:MaxΦ6inch ・0...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です!
【その他の特長】 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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基板温度900℃を実現!基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…
『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構(昇降、公転、自転)を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ■当社独自のスパッ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』
半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 「酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置」 ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…
Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。 【特長】 ■タンタルカーバイド ・超高温(2000℃以上)での使用が可能 ・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック ・1000℃までのプ...
メーカー・取り扱い企業: モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
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薄膜加工技術の解説付きガイドブック『薄膜Q&A』を無料進呈中!
各コーティング方法の違いや特徴、コーティング事例、お問い合わせの多い質…
・どんな膜ができるの? ・こんなコーティングはできるの? ・試作だけでもいいの?量産もできるの? 東邦化研株式会社では、表面処理に好適なイオンプレーティング(PVD)・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。 イオンプレーティング部発足以来、約40年に渡って幅広い分野で実績を残してまいりました。 その中で、特にお問い合...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
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Aera Transformer デジタルマスフローコントローラ
コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC
CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ(MFC)とデジタルマスフローメーター(MFM)は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置
半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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経済性に優れた高精度ラバーシール
半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されてい...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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省スペースで大容量!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!
ング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。 【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュー型攪拌機構 ※詳しくはPD...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。
ッタリングカソード ○短形スパッタリングカソード ○シリンダー型スパッタリングカソード ○スパッタ用各種ターゲット ○高インパルススパッタ電源 ○アークプラズマ用パルス電源 ○プラズマCVD用パルス電源 ○メンテナンス ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: メンテナンス・リサーチ株式会社
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相談だけでも歓迎!設計から製作、組立まで自社で一貫して対応!各種装置製…
【その他の製作実績】 ■研究開発用バッチ式3元スパッタリング装置 ■研究開発用IBS装置 【取扱製品】 プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、 ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option:MaxΦ6inch ・0...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option:MaxΦ6inch ・0...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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