チェックしたものをまとめて:

  • カタログあり

    CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

    超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...(つづきを見る

  • 液体ソースCVD装置の製品画像です

    液体ソースCVD装置

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。...(つづきを見る

  • カタログあり

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送...(つづきを見る

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置の製品画像です

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追...(つづきを見る

  • カタログあり

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • 低価格 ホットワイヤーCVD装置の製品画像ですカタログあり

    広範な新規応用が可能! 低価格ホットわーやーCVD装置

    優れた防錆効果、表面クリーニングが可能な低価格ホットワイヤーCVD装置です。 ◆広範な新規応用が可能◆ ○ユーザー仕様装置  ・特殊ガス(SiH4等)対応  ・テフロン膜形成  ・新規原料対応  ・C to C/Roll to Roll対応 ...(つづきを見る

  • CVDコーティング装置の製品画像ですカタログあり

    どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

    中日本炉工業社が取扱う CVDコーティング装置のご紹介です。...(つづきを見る

  • Nanofurnace BWS-NANO 卓上型熱CVD装置カタログあり

    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置の製品画像です

    プラズマCVD装置

    PD-3800Lは、各種シリコン系薄膜(SiO2、Si3N4等)を量産規模で形成するためのロードロック式プラズマCVD装置です。本装置では、化合物半導体プロセスやシリコンウエハープロセスでの層間絶縁膜、パッシベーション膜などを大面積のトレー(φ380mm)により一度に大量の処理をすることが可能です。...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置の製品画像です

    プラズマCVD装置

    PD-220LCは、各種シリコン系薄膜(Si3N4、SiO2等)を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間絶縁膜などの均一...(つづきを見る

  • 常温高密度プラズマCVDの製品画像ですカタログあり

    常温、高密度で成膜可能なプラズマCVD

    本装置は減圧炉内で、プラズマ放電により、成膜処理を行う装置です。 装置の構成は、プラズマソース、バイアス可能用ヒーター、真空排気から構成され、各操作はCPUコントロールで管理し、クラスタツール対応する事が出来ます。 【特長】 ◆大面積(将来の基板寸法550×670mm)の均一成膜が可能です ◆高密度プラズマによる低ダメージの為、常温(基板温度40〜60℃)で成膜可能です ◆プラス...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置の製品画像です

    プラズマCVD装置

    PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜(Si3N4、SiO2等)の形...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置の製品画像です

    プラズマCVD装置

    PD-3802Lは、有機EL用封止膜に最適なシリコン窒化膜などを形成するための大型の研究用ロードロック式プラズマCVD装置です。本装置は反応室を2室装備しているため、2種類の膜を異なる専用の反応室で連続形成することが可能です。また、グローブボックスを装備しているため、大気にさらさず安定した環境で成膜することが可能...(つづきを見る

  • 三次元LSIへの応用画像です

    高速、低温で高品質の厚膜シリコン酸化膜の形成が可能!

    12インチウエハー対応量産用トレーカセット式...【特徴】 〇室温~350度程度の低温で高品質の厚膜シリコン酸化膜の形成が可能 〇高速成膜 〇アスペクト比の大きな段差への成膜が可能 〇液体原料TEOSの使用により、ステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能...(つづきを見る

  • プラズマ成膜装置の製品画像ですカタログあり

    プラズマ成膜装置。MEMSデバイスにて、酸化膜の高速厚膜形成可!

    PE-CVD装置 ●各種MEMSデバイスにおける酸化膜の高速厚膜形成が可能 ●優れたステップカバレッジを実現 ●低水素含有の高品位SiN成膜が可能 ●SiN成膜プロセスで応力制御が可能...(つづきを見る

  • CVD装置用ガスボックスの製品画像ですカタログあり

    CVD装置用ガスボックス

    弊社の業務内容としては、 半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造や 特殊材料ガス配管工事などです。 【製品事例】 ・高純度ガス供給ユニット製作 ・シリンダーキャビネット製作 ・排気ユニット製作 ・除害ユニット製作 ・クリーン自動溶接配管製作 ・真空配管製作 など様々な製造を行っております。 ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタログダウ...(つづきを見る

  • 高スループット 連続式(2レーン)APCVD装置「A6300S」カタログあり

    量産対応 NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 連続式…

     「A6300S」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピウェハ用バックシール等の成膜を目的とした、高スループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  コンパクトな筺体ながら、2レーンでの連続成膜により、高生産性を確保し、CVDコートSiCトレーの採用によりメタルコンタミ(金属汚染)の低減を実現しています。  その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装...(つづきを見る

  • 密閉型チャンバー 枚葉式(1枚処理)Face down成膜 2チャンバータイプカタログあり

    小ロット生産・試作・開発向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成…

    「A200V」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、枚葉式常圧CVD(APCVD)装置です。 密閉型チャンバーでの枚葉式Face down成膜により、限られた設置スペースの中でも、安全で、膜厚・不純物濃度のバラツキが小さく、パーティクルが少ない成膜が可能です。 装置タイプは、2チャンバータイプ・1チャンバータイプから選択可能で、多品種小...(つづきを見る

  • 連続式APCVD装置「AMAX」シリーズ-AMAX200カタログあり

    量産対応 NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 連続式…

     「AMAX」シリーズは、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピウェハ用バックシール等の成膜を目的とした、連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  8”・12”のウェハにも対応しており、連続式のメリットである量産性を確保しつつ、高品質な成膜が可能です。  その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装置によるサンプル成膜も可能です。詳しくはお問合せください。.....(つづきを見る

  • プラズマ成膜装置の製品画像です

    Plasma Enhanced Chemical Vapor Depo…

    300mmウェーハ対応の低ストレスシリコン窒化膜や、TSVライナー絶縁酸化膜の形成に最適なプラズマ成膜装置です。...-TSV用途で小径、高アスペクト構造への優れたステップカバレッジのSiO2膜低温成膜が可能 -化合物半導体用途でキャパシタ構造への高い耐電圧/信頼性SiN成膜が可能 -化合物半導体用途で保護膜への低水素濃度SiN成膜が可能 -SiN成膜プロセスでストレスコントロールが可能 ...(つづきを見る

  • 炉のスライド移動による急冷機構を搭載

    グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱/急冷が可能    オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能   オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品...(つづきを見る

  • マイクロ波プラズマCVD装置の製品画像です

    ダイヤモンド合成の研究・開発に最適

    大亜真空社が取扱う、マイクロ波プラズマCVD装置のご紹介です...(つづきを見る

  • バッチ式APCVD装置「D501」カタログあり

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

     「D501」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、研究施設・試作/開発ライン向けのバッチ式常圧CVD(APCVD)装置です。  コンパクトな筺体ながら、異なる形状・サイズの基板への成膜が一回の処理ででき、また、量産用装置「A6300S」と同タイプの成膜ヘッドを使用している為、量産装置導入前の試作ラインでの使用や、R&Dに適しています。  その他、目...(つづきを見る

  • カタログあり

    弊社にてデモ可能! 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでCVD。 …

    今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるSiO2製膜を大気圧下で行えます。 また供給ガスを変更することでSiOCの製膜も可能。 厚みは処理条件によりコントロール可能。 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、...(つづきを見る

  • カタログあり

    高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発

    業界に先駆けて新規ALD/CVD材料の開発に着手してまいりました。その結果、高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発、国内外のお客様より高い評価を得ております。これらは、合成から一貫してクリーンルーム内で作業が行われ、スピーディーな製品設計が可能であると同時に、試作から量産へのスムーズなシフトも実現できる専用工場で生産されております。詳しくはカタログをダウンロード、もしくは...(つづきを見る

  • カタログあり

    結晶太陽電池セル用量産装置を新たにリリースしました

    太陽電池用常圧CVD(APCVD)装置「AMAX1000S」は、太陽電池(セル)製造用に開発されたハイスループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。拡散用ハードマスクやパッシベーション用のSiO2膜、固相拡散源...(つづきを見る

  • 単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51Aの製品画像ですカタログあり

    単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A

    ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため  デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャン...(つづきを見る

  • 結晶系太陽電池セル製造用 高スループット 連続式APCVD装置「AMAX1000S」カタログあり

    量産対応 太陽電池向け NSG(SiO2)/BSG/PSG膜成膜用 連…

     「AMAX1000S」は、結晶系太陽電池(セル)製造用固相拡散ソース膜・ハードマスク/拡散バリア膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、高スループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  拡散層(p+/++層、n+/++層、BSF層、FSF層等)形成において、形状(拡散濃度/深さ)、シート抵抗を容易に制御する事が可能です。また、拡散源として使用した膜をそのまま次の拡散の...(つづきを見る

  • VDS-5800シリーズ

    パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

    膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...(つづきを見る

  • 各種デバイス材料販売及び各種薄膜受託加工の製品画像です

    各種デバイス材料販売及び各種薄膜受託加工

    ウェハー(シリコン,石英サファイア,その他) 各種薄膜成膜(熱酸化膜,PE-CVD,LP-CVD,AP-CVD スパッタ,蒸着) 洗浄,パターニング,エッチング(Dry,Wet) 各種熱処理 マイクロブラスト ダイシング メッキ その他特殊加工...(つづきを見る

  • 高機能フィルム製造用ロールコーターの製品画像です

    スパッタ・CVD・蒸着の複合機

    他社との違いは、BOC社とのライセンスにより、回転式カソード(ターゲット使用効率70%)とSiOx(C)フィルムを特殊なCVDによって成膜可能です。またラインスピードを2000倍まで可変可能です。...高性能な透明導電フィルムや透明バリアフィルムを乾式(スパッタやCVDや蒸着)で製造するロールコーターです。...(つづきを見る

  • カタログあり

    独自開発のシステムでFeRAM-LSIの大量生産を実現

    MOCVD装置「DoctorT」は、産学協同により世界で初めて製品化に成功しました。特許取得済み独自コンセプトの気化器を搭載し、多様な有機金属化合物の成膜が可能です。今まで困難とされていたCVD法によるPZ...(つづきを見る

  • カタログあり

    半導体や太陽電池の生産・研究開発設備!独自の高温処理技術による高温熱処…

    大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および 研究開発向けに提供します。 主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、 エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。 また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、 横型CVD装置・LC6400シリーズなどもライン...(つづきを見る

  • カタログあり

    ニーズに合わせたラインアップ!成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置

    大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置や ランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。 縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。 【特長】 ■ニーズに合わせた設計・製作 ■成膜装置やランプ加熱によるアニール装置 ■多様なライ...(つづきを見る

  • 【デモ機貸し出し可能!】石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さ…

    ウエハーは製造工程に使用される石英管のクリーン度が、製品の品質に大きく影響します。 したがって、拡散工程やCVD工程及びアニール工程で使用される石英管の洗浄は重要なポイントです。 ジャパンクリエイト社は長年に及ぶ経験と実績から、御客様のニーズにあった石英管洗浄装置を提供致して居ります。 方式は横型式と縦...(つづきを見る

  • 半導体フォーミング金型(セルテスDLC)カタログあり

    PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…

    半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC(ダイヤモンドライクカーボン)コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜(~ 5μm)が可能なため、抜群の耐久性を...(つづきを見る

  • 断面偏光顕微鏡写真カタログあり

    高密度、超高純度、高耐薬品性!独自のCVD法により熱分解炭素を被覆しま…

    PYROGRAPH(R)は、東洋炭素独自のCVD法により高純度黒鉛材料に熱分解炭素を被覆した製品です。 ガス透過の低減、反応の抑制などの効果もあり、分析用、高温炉部品、各種治具分野に使用されています。 断面形状は柱状組織をしており、極めて緻...(つづきを見る

  • カタログあり

    新製品!CVD法にて高純度等方性黒鉛基材に緻密なタンタルカーバイドを被…

    EVEREDKOTE(R)とは、専用に開発した高純度等方性黒鉛基材に東洋炭素独自のCVD法にて緻密なタンタルカーバイド膜を被覆した製品です。 高温で安定なタンタルカーバイド膜で、耐熱性に優れ、急速な加熱冷却にも強く耐熱衝撃にも優れています。 ガス透過の低減に効果があり、さらに、品...(つづきを見る

  • デジタル入出力信号やアナログ入出信号をLANにより制御することにより高…

    各種半導体薄膜製造装置の制御をパソコンにて行うシステムです。 デジタル入出力信号やアナログ入出信号をLANにより制御することにより高速制御とデータの保存を可能にしました。...【特徴】 ○LANによるアナログ入出信号制御 ○LANによるデジタル入出力信号制御 ○高速制御とデータの保存を可能 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...(つづきを見る

  • カタログあり

    RIE、ICP-RIE、PECVD、ICP-CVD装置

    キャリアプレートによる搬送から200mm及び300mmまでのプラズマCVDやドライエッチングプロセスに対応。...特長】 ○プラズマソースとして平行平板、ICP(内径180mm/380mm)が選択加工  ○ICP-RIEではクライオプロセスも対応可能 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。 ●英語版のカタログをダウンロード頂けます。...(つづきを見る

  • カタログあり

    RIE、ICP-RIE、PECVD、ICP-CVD装置

    キャリアプレートによる搬送から200mm及び300mmまでのプラズマCVDやドライエッチングプロセスに対応...特長】 ○プラズマソースとして平行平板、ICP(内径180mm/380mm)が選択加工 ○ICP-RIEではクライオプロセスも対応可能 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。 ●英語版のカタログをダウンロード頂けます。 ...(つづきを見る

  • MiniLab(ミニラボ)シリーズ フレキシブル実験装置カタログあり

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD、PE-CVD、ドライエッチング、超高温カーボン炉(*MiniLab-CF/MF, WCF/WMF参照) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-LTE/*Globe Box optio...(つづきを見る

  • カタログあり

    高い信頼性をもった標準型真空ロール to ロールシステムをラインナップ…

    <500mm幅までサンプル対応可> コンパクトな装置設計でありながら薄いフイルム・金属箔などの搬送が可能で、当社独自の高使用効率カソードや前処理機構などオプションを使用する事により幅広いプロセスに対応できます ...<特長> 蒸発方式:マグネトロンスパッタ DCまたはRF 処理量:~2000mm幅 (お問い合わせください) ・コンパクトな装置設計が可能、量産から各種実験装置の対応...(つづきを見る

  • 真空装置設計・製作致します!の製品画像ですカタログあり

    半導体・各種産業向けの蒸着装置、スパッタ装置、CVD装置等の成膜装置の…

    装置完成後の現地搬入、立ち上げ、稼動後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。排気セット等のユニット単位での設計製作も行っております。各種実験装置の設計・製作に豊富な経験があり、仕様検討の段階よりお手伝いさせていただきます。...【真空装置設計・取り扱い産業一覧】 ◆真空装置設計(スペースチャンバー、チェンバー、エンクロージャー等) ・各企業様の研究・開発部門や各種...(つづきを見る

  • 小型縦型実験炉_TVF-110カタログあり

    ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

    縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...(つづきを見る

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