• 解説資料 金型コーティング膜の特性と選定【被覆処理・下地処理編】 製品画像

    PR硬質膜の被覆処理時の注意点と、金型の工具寿命を飛躍的に向上させる方法!…

    硬質膜の被覆処理時の注意点とは?金型の工具寿命を飛躍的に向上させる方法とは? 本資料(その3、その4)では事例を用いて被覆処理時の注意点と当社独自の処理方法を詳しく説明しています。 ・資料(その3)では金型に必須なコーティング膜について、さまざまな実際の損傷を交え特性と選定方法について解説しています。 ・資料(その4)では金型の工具寿命を飛躍的に向上させる方法、当社が行う下地処理であるD...(つづきを見る

  • DLCコーティングの基礎知識・事例・選定基準をまとめた資料進呈中 製品画像

    PR切削工具、金型、機械部品の磨耗・傷つき防止に!樹脂・ゴムに対応したタイ…

    当社の『DLCコーティング』は、高い耐摩耗性はもちろんのこと 回転・滑り・往復などの機械的相対運動に要求される特性を兼ね備え、 切削工具や金型、自動車部品、シール材などに幅広く適用可能。 摩擦抵抗を低減できる水素フリーの「ジニアスコートHA」や 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」など、 課題に合わせて選択できる様々な膜種をラインアップしています。 【用途例】 ...(つづきを見る

  • 単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A 製品画像カタログあり

    単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A

    ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため  デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャン...(つづきを見る

  • フジタ技研『高精度 CVDコーティング技術』 製品画像カタログあり

    CVDは「教科書に存在しない技術」。絶妙の製膜コントロール技術で実現!

    CVDコーティング技術は、経験に裏打ちされた自信が品質の差となって表れます。 長年にわたる試行錯誤と経験の蓄積・絶妙の製膜コントロール技術により 他社にマネのできない精度を実現しています。 【特徴】 ■膜が非常に硬く、滑り性も良い ■TiC+TiNの2層膜で高い膜靭性 ■FTCより高い耐熱性 ■冷間鍛造、板金プレス加工等、幅広く使用される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...(つづきを見る

  • 常圧CVD装置「AMAX800V」 製品画像カタログあり

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送...(つづきを見る

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像カタログあり

    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...(つづきを見る

  • CVDコーティング装置 製品画像カタログあり

    どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

    中日本炉工業社が取扱う CVDコーティング装置のご紹介です。...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「A200V」 製品画像カタログあり

    小ロット生産・試作・開発向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成…

    「A200V」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、枚葉式常圧CVD(APCVD)装置です。 密閉型チャンバーでの枚葉式Face down成膜により、限られた設置スペースの中でも、安全で、膜厚・不純物濃度のバラツキが小さく、パーティクルが少ない成膜が可能です。 装置タイプは、2チャンバータイプ・1チャンバータイプから選択可能で、多品種小...(つづきを見る

  • ロータリーキルン式連続CVD装置 製品画像

    粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに

    反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...(つづきを見る

  • CVD装置向けモジュールヒーター 製品画像カタログあり

    CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

    超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...(つづきを見る

  • 回転CVD炉 製品画像

    リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…

    炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...(つづきを見る

  • 受託加工『CVD-SiCコーティング』 製品画像カタログあり

    高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC

    CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた 半導体特性を持つ薄膜です。 当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、 高純度のSiC膜を最大2m...(つづきを見る

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置 製品画像

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追...(つづきを見る

  • 太陽電池用常圧CVD(APCVD)装置 「AMAX1000S」 製品画像カタログあり

    結晶太陽電池セル用量産装置を新たにリリースしました

    太陽電池用常圧CVD(APCVD)装置「AMAX1000S」は、太陽電池(セル)製造用に開発されたハイスループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。拡散用ハードマスクやパッシベーション用のSiO2膜、固相拡散源...(つづきを見る

  • 管状炉CVD装置 製品画像

    長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

    オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...(つづきを見る

  • 半導体材料 ALD/CVD材料 製品画像カタログあり

    高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発

    業界に先駆けて新規ALD/CVD材料の開発に着手してまいりました。その結果、高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発、国内外のお客様より高い評価を得ております。これらは、合成から一貫してクリーンルーム内で作業が行われ、スピーディーな製品設計が可能であると同時に、試作から量産へのスムーズなシフトも実現できる専用工場で生産されております。詳しくはカタログをダウンロード、もしくは...(つづきを見る

  • ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF 製品画像

    ホットフィラメント(ホットワイヤー)を搭載したコンパクトな卓上型CVD

    試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種(ラジカル)が試料表面に堆積して膜を形成します。...【特徴】 ○メタンなどの炭化水素ガスの高温フィラメント分解により、 導電性と耐食性が両立するダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜が作製可能。 ○窒素前駆体をフィラメント加熱機構により加熱分解させることによって、アンモニ...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置 製品画像カタログあり

    プラズマ成膜装置。MEMSデバイスにて、酸化膜の高速厚膜形成可!

    PE-CVD装置 ●各種MEMSデバイスにおける酸化膜の高速厚膜形成が可能 ●優れたステップカバレッジを実現 ●低水素含有の高品位SiN成膜が可能 ●SiN成膜プロセスで応力制御が可能...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置『PEGASUS』 製品画像カタログあり

    低温(40℃以下)でカバレッジ、埋め込み平坦化の成膜が可能!

    『PEGASUS』は、CMOS、メモリ、TSVのデバイス(~φ300mm)基板への 絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な 量産対応型プラズマCVD装置です。 インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ 接触部位に非金属を使用しているため、裏面からの汚染を防止します。 【特長】 ■低温成膜 ■メンテナンス...(つづきを見る

  • 縦型減圧CVD装置 製品画像カタログあり

    10種類以上の半導体ガスを自在にコントロール可能!カスタマイズ可能

    縦型、枚葉、ウェハーサイズ、ガス種、フットプリントなど多くの使用に対応。汎用性を重視したハイグレード縦型減圧CVD装置です。標準仕様を基にカスタマイズを施し、より安価に製造することも可能です。 【特長】 ■スモールフットプリントながらウエハーサイズ3" 6" 8"/inchに対応 ■ヒーター昇降機能...(つづきを見る

  • グラフェンCVD成膜装置 製品画像

    炉のスライド移動による急冷機構を搭載

    グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱/急冷が可能    オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能   オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品...(つづきを見る

  • CVD/スパッタ成膜/ステッパー露光によるフォトリソ/エッチング 製品画像

    ウェハー上への微細加工、確かな技術で幅広い試作仕様へ対応します。

    0.4um~100μm         ネガレジ = 1.0μm~500μm  最少開口寸法:0.6μm(レジスト膜厚により変動)  ドライフィルムレジストへも対応しております。 ※CVD/スパッター成膜  CVD:Si酸化膜、Si窒化膜、a-Si膜(応談)などの成膜が可能。  その他の成膜についてはご相談下さい。  スパッター:保有中以外のターゲットも随時導...(つづきを見る

  • MOCVD排気濾過用フィルター (AIXTRON装置用)中国産 製品画像

    MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾…

    主流ドイツのAIXTRON社のMOCVDの各型番の装置の排気フィルターは全部対応可能です。日本国内にも多数LEDメーカ―とパワーディバイスメーカーに2年以上の採用実績があります。品質面、価格面も高い評価を頂いております。...(つづきを見る

  • 大気圧プラズマコーティング装置 製品画像カタログあり

    弊社にてデモ可能! 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでCVD。 …

    今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるSiO2製膜を大気圧下で行えます。 また供給ガスを変更することでSiOCの製膜も可能。 厚みは処理条件によりコントロール可能。 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置 製品画像

    パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

    膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...(つづきを見る

  • MOCVD装置 「Doctor T」 製品画像カタログあり

    独自開発のシステムでFeRAM-LSIの大量生産を実現

    MOCVD装置「DoctorT」は、産学協同により世界で初めて製品化に成功しました。特許取得済み独自コンセプトの気化器を搭載し、多様な有機金属化合物の成膜が可能です。今まで困難とされていたCVD法によるPZ...(つづきを見る

  • MOCVD排気濾過用フィルター (AIXTRON装置用)中国産 製品画像

    MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾…

    主流ドイツのAIXTRON社のMOCVDの各型番の装置の排気フィルターは全部対応可能です。日本国内にも多数LEDメーカ―とパワーディバイスメーカーに2年以上の採用実績があります。品質面、価格面も高い評価を頂いております。...(つづきを見る

  • GaN-MOCVD装置 製品画像

    GaN-MOCVD装置

    高い原料効率をもったハイエンド向け大口径基板・多数枚対応GaN-MOCVD装置を 完成しました。 GaN-MOCVD RKY-2000,RKY-3000シリーズは紫外、青色および白色LEDの量産に貢献します。 ■ヒーター  抵抗加熱型カーボンヒーターを採用...(つづきを見る

  • 高機能フィルム製造用ロールコーター 製品画像

    スパッタ・CVD・蒸着の複合機

    他社との違いは、BOC社とのライセンスにより、回転式カソード(ターゲット使用効率70%)とSiOx(C)フィルムを特殊なCVDによって成膜可能です。またラインスピードを2000倍まで可変可能です。...高性能な透明導電フィルムや透明バリアフィルムを乾式(スパッタやCVDや蒸着)で製造するロールコーターです。...(つづきを見る

  • 300mm対応プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置 製品画像

    Plasma Enhanced Chemical Vapor Depo…

    300mmウェーハ対応の低ストレスシリコン窒化膜や、TSVライナー絶縁酸化膜の形成に最適なプラズマ成膜装置です。...-TSV用途で小径、高アスペクト構造への優れたステップカバレッジのSiO2膜低温成膜が可能 -化合物半導体用途でキャパシタ構造への高い耐電圧/信頼性SiN成膜が可能 -化合物半導体用途で保護膜への低水素濃度SiN成膜が可能 -SiN成膜プロセスでストレスコントロールが可能 ...(つづきを見る

  • 【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置 製品画像カタログあり

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成…

    Bケーブル接続,PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他 ◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆ ・グラフェン生成用,真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属(オプション:TMP, Diffusion or Dry Pump) ・ガス供給3系統(標準) ・...(つづきを見る

  • MOCVD装置 VEECO K465i G2用排気フィルター 製品画像

    MOCVD装置 VEECO K465i G2

    り、K465i G2 シリーズは2回ろ過プロセスを採用、ろ過チャンバーの長さを十分利用できる。 アメリカから輸入したガラス繊維ろ紙を使用、隙間分部が均一、ろ紙厚く、透過性よく、差圧低く、MOCVD装置の保護機能もある。 優れる強度があり、耐高温、耐食性、MOCVDの排気ろ過環境に最適。 1、寸法: 高さ:322mm, 内径:233mm,外径:359mm 2、Oリング: 内径:27...(つづきを見る

  • 半導体製造装置 PlasmaPro System133 製品画像カタログあり

    RIE、ICP-RIE、PECVD、ICP-CVD装置

    キャリアプレートによる搬送から200mm及び300mmまでのプラズマCVDやドライエッチングプロセスに対応...特長】 ○プラズマソースとして平行平板、ICP(内径180mm/380mm)が選択加工 ○ICP-RIEではクライオプロセスも対応可能 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。 ●英語版のカタログをダウンロード頂けます。 ...(つづきを見る

  • ミューコム MO-CVDコンピュータ制御システム 製品画像

    デジタル入出力信号やアナログ入出信号をLANにより制御することにより高…

    各種半導体薄膜製造装置の制御をパソコンにて行うシステムです。 デジタル入出力信号やアナログ入出信号をLANにより制御することにより高速制御とデータの保存を可能にしました。...【特徴】 ○LANによるアナログ入出信号制御 ○LANによるデジタル入出力信号制御 ○高速制御とデータの保存を可能 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...(つづきを見る

  • 半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティング 製品画像カタログあり

    PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…

    半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC(ダイヤモンドライクカーボン)コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜(~ 5μm)が可能なため、抜群の耐久性を...(つづきを見る

  • 【SiC3コーティング グラファイト】部品 製品画像カタログあり

    立方晶窒化珪素CVD-cubic coat【SiC3コーティング】カー…

    短納期! 長寿命、密着性・均一性に優れたSiCコート部材 高純度・高耐熱性・熱伝導性等の基本性能に優れたCVD-Cubic SiC(立方晶窒化珪素)コーティングカーボン部品。 MOCVD, Epitaxialプロセス等でのウエハートレー・サセプターなど。 ※長寿命、密着性・均一性に優れたウエハートレー...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「D501」 製品画像カタログあり

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

     「D501」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、研究施設・試作/開発ライン向けのバッチ式常圧CVD(APCVD)装置です。  コンパクトな筺体ながら、異なる形状・サイズの基板への成膜が一回の処理ででき、また、量産用装置「A6300S」と同タイプの成膜ヘッドを使用している為、量産装置導入前の試作ラインでの使用や、R&Dに適しています。  その他、目...(つづきを見る

  • 精密加工部品 焼嵌めCVD絞りダイ 超硬合金G4+SNCM439 製品画像カタログあり

    金型部品・精密加工部品「焼嵌めCVD絞りダイ(超硬合金G4+SNCM4…

    「焼嵌めCVD絞りダイ(超硬合金G4+SNCM439)」は、耐久性・精度・安全性を考慮し、トータルコスト削減に貢献した金型部品・精密加工部品です。 【精密加工部品の製作事例(一部を紹介)】 ■プレス金型...(つづきを見る

  • 精密加工部品「高精度CVD絞りパンチ(超硬合金G3)」 製品画像カタログあり

    金型部品・精密加工部品「高精度CVD絞りパンチ(超硬合金G3)」 ※製…

    「高精度CVD絞りパンチ(超硬合金G3)」は、耐久性・精度・安全性を考慮し、トータルコスト削減に貢献した金型部品・精密加工部品です。 【精密加工部品の製作事例(一部を紹介)】 ■プレス金型用部品 ■鍛...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「A6300S」 製品画像カタログあり

    量産対応 NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 連続式…

     「A6300S」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピウェハ用バックシール等の成膜を目的とした、高スループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  コンパクトな筺体ながら、2レーンでの連続成膜により、高生産性を確保し、CVDコートSiCトレーの採用によりメタルコンタミ(金属汚染)の低減を実現しています。  その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装...(つづきを見る

  • スパッタリング・成膜・エッチング・受託加工 製品画像カタログあり

    約120種類のターゲット在庫早見表付き!スパッタリング、蒸着、CVDと…

    【特徴】 ○豊富なターゲット在庫(約120種類)や成膜(スパッタリング、蒸着、CVD)、 エッチング(ドライ、ウェット)加工ノウハウを蓄積 ○半導体・FPD・MEMS・太陽電池などの試作の受託 ○開発コスト削減 ○スピーディーな研究開発を実施 ○少量生産にも対応 ...(つづきを見る

  • 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像カタログあり

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…

    ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...(つづきを見る

  • 【表面処理材料】熱分解炭素被覆材 PYROGRAPH(R) 製品画像カタログあり

    高密度、超高純度、高耐薬品性!独自のCVD法により熱分解炭素を被覆しま…

    PYROGRAPH(R)は、東洋炭素独自のCVD法により高純度黒鉛材料に熱分解炭素を被覆した製品です。 ガス透過の低減、反応の抑制などの効果もあり、分析用、高温炉部品、各種治具分野に使用されています。 断面形状は柱状組織をしており、極めて緻...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「AMAX1000S」 製品画像カタログあり

    量産対応 太陽電池向け NSG(SiO2)/BSG/PSG膜成膜用 連…

     「AMAX1000S」は、結晶系太陽電池(セル)製造用固相拡散ソース膜・ハードマスク/拡散バリア膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、高スループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  拡散層(p+/++層、n+/++層、BSF層、FSF層等)形成において、形状(拡散濃度/深さ)、シート抵抗を容易に制御する事が可能です。また、拡散源として使用した膜をそのまま次の拡散の...(つづきを見る

  • ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像カタログあり

    ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

    縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「AMAX」シリーズ 製品画像カタログあり

    量産対応 NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 連続式…

     「AMAX」シリーズは、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピウェハ用バックシール等の成膜を目的とした、連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  8”・12”のウェハにも対応しており、連続式のメリットである量産性を確保しつつ、高品質な成膜が可能です。  その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装置によるサンプル成膜も可能です。詳しくはお問合せください。.....(つづきを見る

  • コーティングサービス『DLC/PVD/PECVD』 製品画像カタログあり

    豊富な知識に基づいて開発!総合的エンジニアリングサービスを提供いたしま…

    【真空技術ベースのDLC/PVD/PECVD】 ○CERTESS CARBON →DLCベース・高硬度・優れた摺動特性 ○CERTESS NITRO →超高硬度・高い耐アブレッシブ摩耗特性と耐凝着摩耗特性 ○PROCEM →電気...(つづきを見る

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