CVD | イプロスものづくり

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

PR産業用マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…

IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

メーカー・取り扱い企業：データコントロルズ株式会社

薄膜加工技術の解説付きガイドブック『薄膜Q&A』を無料進呈中！

各コーティング方法の違いや特徴、コーティング事例、お問い合わせの多い質…

・どんな膜ができるの？・こんなコーティングはできるの？・試作だけでもいいの？量産もできるの？東邦化研株式会社では、表面処理に好適なイオンプレーティング（PVD）・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。イオンプレーティング部発足以来、約40年に渡って幅広い分野で実績を残してまいりました。その中で、特にお問い合...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

半導体用発熱体

半導体製造に使われる拡散炉用ヒーター、CVD炉用ヒーターを提供　...

メーカー・取り扱い企業：アレイマジャパン株式会社カンタルカンパニー

【資料】コーティングの処理方法によるメリット比較表

処理方法の選定に！乾式法と湿式法のメリット・デメリットを掲載しています

できます。また、反射防止膜(ARコート)による課題解決事例もご紹介しています。【比較処理方法】 ■乾式法・真空蒸着、スパッタリング、イオンアシスト(IAD)、化学的気相法(CVD) ■湿式法・ダイ、スプレー、ディッピング、フロー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ニデックコート事業部

メンテナンス・リサーチ株式会社　会社案内

真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。

ッタリングカソード ○短形スパッタリングカソード ○シリンダー型スパッタリングカソード ○スパッタ用各種ターゲット ○高インパルススパッタ電源 ○アークプラズマ用パルス電源 ○プラズマCVD用パルス電源 ○メンテナンス ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：メンテナンス･リサーチ株式会社

【開発者目線を徹底】各種装置のオーダーメイド製造承ります

相談だけでも歓迎！設計から製作、組立まで自社で一貫して対応！各種装置製…

【その他の製作実績】 ■研究開発用バッチ式3元スパッタリング装置 ■研究開発用IBS装置【取扱製品】プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

隔膜式真空計（バラトロン真空計）

150℃/200℃対応！バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

物のセンサへの堆積を防止することにより、ドリフトを低減し精確で長期安定性を持つ圧力測定を実現します。 150℃もしくは200℃の温度制御を選択できる631Bは、メタルエッチング、ナイトライドCVD、ALDなど、厳しい条件の半導体製造プロセス用真空計としての用途の他、バクテリア増殖を防止する目的で蒸気を用いる、凍結乾燥装置、滅菌装置などのバイオ製薬プロセスに最適です。特徴 ●最小フ...

メーカー・取り扱い企業：日本エム・ケー・エス株式会社

テクノウェーブ株式会社　会社案内

"お客様の発展に貢献すること"を第一に真空技術で産業の底辺を支えます

【製作実績装置・部品】 ■真空デシケータ ■実験用薄膜作成装置 ■高真空チャンバー ■真空ベアリング試験機 ■常圧CVD装置 ■イオンビームスパッタ装置 ■卓上型装着装置（Meius） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：テクノウェーブ株式会社

多結晶サーマル

1,000W/mKから2,000W/mK以上までの熱伝導率を設計！多結…

ダイヤモンドは銅の5倍の熱伝導率を持ち、電気絶縁体であるため、完璧なヒートシンクとなります。 CVDダイヤモンドは、サイズや形状の制限を受けることなく、単結晶ダイヤモンドのすべての特性を備えています。ダイヤモンドの卓越した熱伝導率と高い電気抵抗率は、マイクロプロセッサの周波数向上...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

株式会社エイディーディー　事業紹介

私たちは半導体業界に新しい風を起こします。

に応じた製品を設計、開発いたします。 →チラー →純水加熱器 →セカンドパーツ ○修理：チラー、Heコンプレッサー、カップ温湿調器、RF電源等の修理を　行っております。 ○成膜受託：CVD、インプレーティングにて、薄膜の真空蒸着を行っております。 ○チラー省エネ改造：各種メーカーのチラーを対象に、省エネ改造を　提案いたします。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイディーディー

薄膜形成

薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、フィルム等の素材に気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッタリング・イオンプレーティ...

メーカー・取り扱い企業：豊和産業株式会社

【資料】パワーデバイス用GaNのトレンチ加工

これまでの加工実績をベースに行ったGaNのトレンチ加工をご紹介します

当社は半導体製造装置メーカーとして、GaN系発光デバイス製造における ICPエッチング装置、CVD装置及びプロセス技術を提供してきた実績があります。また、4H-SiCパワーデバイスに対してもトレンチ加工、メサ加工等に対応できる装置を提供。当資料では、これまでの加工実績をベー...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

Local Scrubber

Local Scrubber Burn-wet ECS-3000S …

The abatement system is highly efficient, used in CVD- and etch applications for photovoltaic, semiconductor and other related industries. Advantage:...

メーカー・取り扱い企業：株式会社臺禹科機

CVD装置用ガスボックス

弊社の業務内容としては、半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造や特殊材料ガス配管工事などです。【製品事例】・高純度ガス供給ユニット製作・シリンダーキャビネット製作・排気ユニット製作・除害ユニット製作・クリーン自動溶接配管製作・真空配管製作など様々な製造を行っております。 ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社湘南テクノ

耐熱単結晶 CVD ダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。【仕様と公差（一部）】 ■横：+0.2/0-0mm ■厚さ：+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

１枚からの成膜が可能　成膜加工（CVD）

低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option：MaxΦ6inch ・0...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option：MaxΦ6inch ・0...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成…

当社の『Corial 200 Series』をご紹介いたします。共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE,ICP,ICP+RIE, ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる研究開発向け装置。ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mmです。【特長】 ■共通プラットフォームを...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対…

合物半導体など、様々な材料に対応可能；幅広く温度の工程に対応可能；エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能・成膜機種 Shale Cシリーズ： ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めに適用 ...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社