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91件 - メーカー・取り扱い企業
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1557件 - カタログ
4857件
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PRプリント基板1枚から製造対応可能！国内はもちろん海外基板メーカーからも…
当社で実施している『プリント基板 設計・製造サービス』をご紹介します。 データを頂ければ、最短日数で片面1日、両面2日、多層4日で製造が可能。（さらに短縮も可能） ご予算に応じて、ご希望の仕様に仕上げます。 他にも当社では実装部品調達・部品実装やシミュレーション対応などの取り扱いも ございます。不明点など何でもお気軽にお問い合わせください。 【主な基板の種類】 ■リジッド基板（2層極薄～高多...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社東海
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PR〈国内製〉基板の供給・分割・排出を自動化（最大400×300mmに対応…
当社のルーター式基板分割機に、高速・高精度で切断でき、 自動化（マニュアルでの操作も可能）にも対応した『SAM-CT34XJ』が新製品としてラインアップに加わります。 基板の供給・切断・排出を自動で行えるのはもちろん、 カメラで基板を表示しながら簡単にティーチングが可能。 画像処理機能による、切断位置の自動補正にも対応しています。 【特長】 ■ルータービットの高さを自動で切り替...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サヤカ
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成膜前の高周波プラズマによる放電洗浄により、樹脂基板に対して高い密着力
『大型樹脂基板用蒸着装置』は、自動車の外装品の大型樹脂成形品への 薄膜形成を目的とした大型蒸着装置です。 複数の電子銃蒸発源を装備し、Al、Cu、Niなどの金属膜を長さ1mの 大型樹脂基板へ低温での高速...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
ース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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有機ELデバイス開発などに適した研究開発用装置を紹介します。
当社では、大気にさらすことなく連続処理が可能な 『研究開発用装置 成膜装置･グローブボックス』を設計・製造・販売しております GBOX内部で試料基板を搬送BOXに収納・密閉することで不活性雰囲気を保ち、 基板を大気に曝す事無く蒸着装置に装着・処理しGBOXに戻すことが可能です。 KOREA KIYON製 不活性ガス循環精製式GBOXは、不活性...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンス...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…
型よりコンパクトなチャンバに大口径クライオポンプを採用、チャンバ各機構部に超高真空対応を採用し、クリーンな高真空環境を可能にしました。 蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な６連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップレッ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…
『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。 基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…
ど光デバイスや高周波・通信デバイスに 多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置です。 蒸発源に電子銃と抵抗加熱電極を装備しており、高融電極膜や貴金属を含む 厚膜の形成が可能。 基板への蒸発粒子の入射角の垂直性に優れており、成膜時の基板の温度上昇を 防ぐ各種機構（基板水冷機構、電子銃用反射電子トラップ、輻射光防止対策） により低温蒸着が可能です。 【特長】 ■蒸着粒...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…
【装置構成事例】 1. MiniLab-E080A（蒸着装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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両面成膜・端面成膜・コンパクト・大量バッチ処理。基板の自公転機構が蒸着…
小型基板や小径ウェハの両面成膜、セラミック基板の端面成膜、マスク成膜に最適な独自基板機構を装備。 小型チャンバで大きな処理量を持つ標準横型蒸着装置。 蒸発源・加熱温度・排気系の各種選択可能。樹脂装飾用か...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…
より自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置
【オプション例】 ・反射電子抑制ユニット ・基板加熱 ・基板冷却（低温成膜） ・基板回転機構 ・プラネタリー回転機構 ・膜厚コントローラー（自動成膜） ・ロードロック機構 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせくださ...
メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社
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デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計！蒸発物および基板への熱影…
『LOE』は、密閉したルツボから熱により有機材料を蒸発させる コンポーネントです。 デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計が、蒸発物および基板への 熱影響を最小限に抑制。その蒸気は、基板へ通じる加熱パイプを通って供給され、 リニアノズルアレイから基板に放出されます。 有機蒸気に接触するすべての部品、特にルツボとノズルパイプは、有...
メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450） ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
ネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
530(D) x 600(H)mm ◉重量：40kg〜70kg（装置構成による） ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで） ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定可能です！
ジ：角度選択可能（100度/120度/140度） ○アルミニウム製扉：覗き窓（有効可視径：Φ96ｍｍ） ○外部フィードスルー用ポート（NW40）3ポート ○真空排気ポート（NW40）1ポート ○最大基板サイズ：Φ110ｍｍ ○基板加熱もしくは基板冷却機構 ○蒸発源：2源（同時2源） ○水晶膜厚計、基板シャッター付き ○高真空ポンプ：ターボポンプ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー
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光学特性をリアルタイムに測定「真空エリプソメーター蒸着装置」
真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定できるエリプソメトリー用蒸着装…
フランジ：角度選択可能 100°/120°/140° →アルミニウム製扉：覗き窓（有効可視径：φ96mm） →外部フィードスルー用ポート（NW40）3ポート →真空廃棄ポート（NW40）1ポート ○基板ホルダー構造 →最大基板サイズ：φ110mm →基板加熱もしくは基板冷却構造...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー
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無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます
日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 ...
メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します
TELEMARK製のイオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供いたします。イオンアシスト蒸着（IAD）技術は余分な基板加熱なしに高密度で安定な成膜可能なプロセスです。TELEMARKのグリッドレスイオンソースシステムは独自のデザインのイオン源により、ガラス、プラスチック、金属の様々な基板で安定なイオンアシスト蒸着を...
メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社
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グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を交換・補充可能…
当社が取り扱う『グローブボックス内収納型真空蒸着装置』をご紹介します。 50×50基板を蒸着可能な小型蒸着ベルジャーを、グローブボックス内に収納。 グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を 交換・補充することができます。 【特長】 ■50×50基板を蒸...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
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膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形…
【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構 ・蒸発源、多連式電子銃（10kw）、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱（最高550℃）＝3面プラネタリードーム ・基板クリーニング、イオンガン、ＲＦボンバード機構 ・基板ドーム、3面プラネタリードーム、公転ドーム、高温加熱用公転ドーム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から…
本格量産まで幅広く対応する標準型蒸着装置のラインナップ。 全機種クリーンルーム、クリーンバキューム対応で各種選択機構を装備。 実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。 蒸発源・加熱温度・基板機構（プラネタードーム・公転ドーム）操作・ロギングソフト 全てカスタマイズＯＫ 社内デモ機でプロセステストも対応 幅広く柔軟なハード＆サポート ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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樹脂外装品の成膜に実績豊富な大型蒸着装置 長尺樹脂成形品の成膜に最適 …
電子銃２～３台を使用。最大１８００ｍｍＬの基板の成膜が可能。基板の自公転回転機構により基板の全面成膜を実現。大口径拡散ポンプ＋ポリコールドチラーの高速排気で短タクトと高速水分除去。高品質な蒸着膜を形成。各種成膜プロセスも専用ＰＣにてレシピ管理＆...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…
【GB対応 MiniLab-026/090主仕様】 ◉ 基板サイズ：最大Φ6"(026）、最大Φ10"（090） ◉ チャンバ：SUS304製 UHV対応（*090はスライドドア式, 背面メンテナンスドア） ◉ 19inch制御ラックは作業ベンチ下に収納...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用…
『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル
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スキャニングRHEEDを標準装備！モーター駆動コンビナトリアルマスクを…
『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE（PLD） システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換できます。 【特長】 ■操...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル
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コンパクトなサイズ（１インチ〜２インチ）対応のMBE装置です。
●特徴 本装置は10-8Pa以下の超高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源（クヌーセン・セル）により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気...
メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社
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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】
クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4P...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…
の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を採用していますので、 同一真空中内で6種類の成膜が可能 ○基板はφ75mmで30枚、φ100mmで20枚、φ150mmで9枚収納できる...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
【主仕様】 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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シンプル コンパクト 高機能 実験、基礎研究に最適 ユーザーニーズに応…
標準２元の抵抗加熱蒸発源を装備した全手動型蒸着装置。 Φ２～３インチウェハから特殊基板まで柔軟に対応。 蒸発源追加、同時蒸着、基板冷却・高温加熱機構等豊富なオプション 社内デモ機にてサンプルテスト対応...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…
『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF7...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック
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容易に基板セットや蒸着用試料補充と交換が可能！大規模集積回路用の装置で…
駆動式で、ウェハを公転させる機能を装備しています。 なお、排気系はドライな真空状態を得るために、磁気浮上式広帯域 ターボ分子ポンプとドライポンプの組み合わせによる排気システムです。 【特長】 ■基板サイズ 6インチ ■蒸着源は抵抗加熱式 ■膜厚コントロールは水晶振動子式膜厚計を用いた制御 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所
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メンテナンス性・作業性が簡便！リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を採用…
当製品は、金属材料を対象とし、リフトオフ成膜可能な電子ビーム蒸着装置です。 3連式EBガンはスライド移動機構により、メンテナンス性・作業性が簡便。 基板寸法は最大φ3インチで、リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を 採用しております。 【特長】 ■基板寸法：最大φ3インチ ■基板加熱温度：常用600℃ ■リフトオフ成膜機構：特殊遮熱機構...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
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目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。
）とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【特長】 ■実績豊富なハードと柔軟なコスト対応 ■目的に合わせた豊富なオプション機構(高温加熱・基板冷却・多元同時蒸着・ 有機物用蒸発源 リフトオフプロセス対応） ■プラズマ電極・RFコイルなどのイオン化機構・プラズマ電極追加対応 ■サンプルテストからハードのカスタマイズ、納入後のフォローまで ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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小型電子部品（面実装タイプ）の側面電極形成をドライ化。ＰＶＤ（イオンプ…
。 電極の形成も密着層・接合電極も同一真空槽で一括形成。成膜前に効果的なプラズマクリーニングも同一バッチで実施。シンプルな装置構成で多層・マルチステップ処理を実現。 部品寸法・形状に合わせ治具や基板保持方法の細かく対応。信頼性の高い基本ハードとカスタマイズで多様な基板と生産ラインに対応。 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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精密光学用イオンビームスパッター装置 IBS1400／1600
ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置
ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。 搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3％ の範囲内で膜厚分布...
メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社
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分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術！真空蒸着について解説！
蒸着のしくみについてご紹介いたします。 「真空蒸着」とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで 加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。 河合光学株式会社は、真空蒸着技術で独自の研究開発を進めてきました。 お客様の要求に対し的確に対応するため、経営者及び従業員一同が一体となり ...
メーカー・取り扱い企業： 河合光学株式会社
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PLAD-221-Y PLDシステム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社
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コンパクトな設計を実現！有機蒸着源を4台標準搭載した蒸着装置
、有機EL材料の塗布材料を目的とした OPV(有機薄膜太陽電池)用蒸着装置です。 有機材料の塗布工程は接続されているグローブボックス(MBRAUN)の中で 行い、搬送機構を用いて蒸着室内に基板を搬送し、電極を蒸着させる 一貫した装置となります。 グローブボックス（MBRAUN社製Labmaster）と接続でき、 ロードロック室間は手動の搬送機構で操作可能。 排気操作は前面...
メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社
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好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…
『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロセスが可能で...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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水晶振動式膜厚モニター搭載！コンパクト設計でクリーンな成膜が可能
、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸発源は抵抗加熱3基、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング
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学生向けの実験や教材作りに！卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置
です。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを搭載可能。 【特長】 ■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■非常停止スイッチ装備 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合わせ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社
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BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃
学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます
設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイ...
メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社
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大口径シール
たり培った経験、豊富な材料、独自の最適形状設計を組み合わせ、様々なご要求にお応えできるよう取り組んでおります。 ●特に液晶業界向けには、低パーティクル、耐薬品性 等にすぐれたシール製品、および基板大型化に対応した製品を、ご提供しております。...
メーカー・取り扱い企業： 三菱電線工業株式会社
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コンパクトな筐体で自動車外装品など大型樹脂成形品の全面成膜に対応 高速…
向上を図ります。 オールドライ排気系の採用と前扉型の装置形状によって 排気系のメンテフリー化とシステムのメンテナンス性にも優れており 高い稼働率を実現しています。 【特長】 ■樹脂基板への高速バッチ処理 ■安定した成膜性能と高速排気性能 ■オールドライ排気系による排気系メンテナンスフリー化 ■コンパクトな装置規模による高生産性 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック
その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製作しております。 ◎特徴 １．耐熱1000℃可能 ２．使用温度環境に応じた材料を使用します。 PTFE. ・PEEK・アルミニュウム・SUS316他・石英 酸性・アルカリ性・腐食ガスに考慮 ◎対象ワーク １．高温ウエハ ２．ガラスモールドレンズ・プリフォーム ３．化合物半導体ウエハ ４．ガラス基板
メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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ビューラー・ライボルトオプティクスの光学用スパッター装置
HELIOS（ヘリオス）は、高品質な光学膜製作用に開発されたスパッター装置です。特に低吸収・低分散が求められる多層フィルターの製造に適しています。HELIOSシリーズは400と800（基板サイズ）の2タイプをご用意しています。...
メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社
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蒸着用電子銃など真空蒸着のことならお任せください。
トが可能 ○イオンソースシステム →SaintechシリーズIII イオンソース 軽量コンパクトで装置への取り付け自由が大きい 高効率の水冷構造により動作温度が非常に低く(70～80℃)基板への 熱ダメージが少なく、熱により消耗する部品が皆無でメンテナンスフリー ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社
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真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！
設計製作 【図面支給による製作】 ・部品加工、購入、組立、調整、検査、据付調整 ・量産装置向け組立、調整、検査、据付調整 【半導体プロセス応用製品】 ・実験用蒸着装置・有機ＥＬ蒸着基板用実験装置・スパッタ装置(実験設備/生産設備)・ＣＶＤ装置(実験設備/生産設備)・成膜装置(実験設備/生産設備) 【真空対応製品の設計・製作】 ・各種配管・各種フランジ応用製品・真空室内用応...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス
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サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能！排気操作は全自動…
※常温・無負荷・脱ガス時 ■真空室径：φ230mm×240mmH 硬質ガラス ■蒸着機構：抵抗加熱方式 ・AC電源2極（切替式）：金属用 ・AC電源：12V0～45A/7V0～80A ■基板形状：□100mm以内ご希望形状 ■真空排気系 ・油回転ポンプ：50L/min［50Hz］ ・ターボ分子ポンプ：67L/sec ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社
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LED光学多層DBR膜形成用真空蒸着装置 Sapio-DBR
LED 用光学多層 DBR 膜の成膜に最適！
ED用光学多層DBR膜用に特化した真空蒸着装置で、ドーム内の均一性が良く、生産効率の向上を図ることが可能です。 LED用光学多層DBR膜の成膜に最適です。 【特徴】 ○優れた量産性能 →基板搭載数：φ2inchウェハー約400枚/batch φ4inch ウェハー約110枚/batch →タクト：3h/batch 以内 →必要設置エリア：W4.6m×D6....
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置
ボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、大気圧から高真空まで連続した 圧力表示が可能 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■停電時は装置動作自動中断、非常停止スイッチも装備 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社
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信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください
【ラインアップ(抜粋)】 ＜真空成膜装置＞ ■RFマグネトロンスパッタ装置 ■対向ターゲットスパッタ装置 ■電子ビーム蒸着装置 ＜各種研究用装置＞ ■高真空高温炉装置 ■基板加熱装置 ■電流導入端子各種 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ
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プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択で…
前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが可能。 目的に応じて、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、 封止室等を自由に選択できます。 【特長】 ■基板サイズは最大□300mm対応 ■蒸着セルは各種材料・サイズから選択可能 ■CVD室、スパッタ室等との組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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三協紙業株式会社