フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

Enovasense Field Sensor

PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…

フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約１１万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長 　・非接触で下記が測定できます。 　　　☆不透明体の厚みマッピング...

メーカー・取り扱い企業： プレシテック・ジャパン株式会社

レーザ技術による薄膜Si太陽電池の成膜法とプラズマCVD技術

★従来の透明導電膜と太陽電池層の作成法を完全に捨て 　原材料をガラス…

造出来る。また、現在普及している結晶型太陽電池に比べ、実際の発電出来る量が年間で10%以上も多く、環境負荷が少なく経済的な太陽電池と言える。当社は薄膜シリコン太陽電池の製造技術の中核であるプラズマCVD装置から開発し、世界に先駆けいち早く大面積の電池を市場に投入した。その実例等も併せて紹介する。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

ハイバリア蒸着フィルムの基礎と高機能化、開発例にみる特性比較

★真空蒸着技術、イオンプレーティング技術、プラズマCVD、2元蒸着技術…

レトルト耐性、非金属性、環境対応性などが注目され現在大きな市場を形成しつつある。これら蒸着フィルムの特性、物性ならびに製造方法について説明し、併 て真空蒸着技術、イオンプレーティング技術、プラズマCVD、2元蒸着技術や、従来のバッチ式真空蒸着機に代わる連続真空蒸着機についても、三菱重工で の開発経験をもとに詳しく説明する。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

ハイバリア蒸着フィルムの基礎とコーティング技術、高機能化、開発例

真空蒸着技術、イオンプレーティング技術、プラズマCVD、2元蒸着技術等…

レトルト耐性、非金属性、環境対応性などが注目され現在大きな市場を形成しつつある。これら蒸着フィルムの特性、物性ならびに製造方法について説明し、併 て真空蒸着技術、イオンプレーティング技術、プラズマCVD、2元蒸着技術や、従来のバッチ式真空蒸着機に代わる連続真空蒸着機についても、三菱重工で の開発経験をもとに詳しく説明する。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

リチウム二次電池炭素系電極材の技術開発と充放電特性・高出力改善

★高いリチウム吸蔵放出容量を発揮できる炭素材料とは? ★負極材料の特…

の可能性について、各種技術データ等を踏まえた特徴と他負極材動向の中での位置づけ等を紹介し、今後の開発展望について述べさせて頂きます。 【講演主旨】 カーボンナノウォール(CNW)はプラズマCVD法によって基板に垂直に生成される新規ナノカーボン材料の一つである。CNWはナノグラファイトドメインから構成されている特異な構造をもつ。本講演では、CNWの生成法、および構造上の特徴について説明する...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

自動車用樹脂グレージングハードコート技術と高機能化市場・規格動向

★自動車グレージング実用化へのハードコーティング技術を網羅!! ★軽…

量化に寄与するグレージングの樹脂化について、ハードコートの耐摩耗性向上と機能付加に関わる各種取り組みについて紹介します。ハードコートの硬度を無機ガラスに近づけるための表面硬化技術としては、プラズマCVDにより硬質膜を成膜する方法が一般的ですが、これに対し光改質により硬質化を行う方法は、製品の大きさや形状に対応し易いこと、大気圧中で光を照射するだけで硬質膜が得られる等のメリットがあります。本講演で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

バリアフィルムの設計・製膜技術と透明性・バリア性向上

★透明性・バリア性を向上させるための低ダメージ製膜技術!? ★目的の…

L用封止膜では、透明性(トップエミッションの場合)、高バリア性、低温(90℃以下)、低ダメージ条件で形成する必要がある。これらの課題を満たす成膜法として高電子密度、低電子温度が特徴の表面波プラズマCVD法に注目し、SiN系バリア膜を成膜、評価した結果について紹介する。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech