リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

高密度モルタル材『RSショット HB』

重摩耗、衝撃から構造物をガード！耐摩耗性・耐衝撃性に優れた高密度モルタ…

『RSショット HB』は、耐摩耗性に優れた鉄粉など複数の素材を 独自のノウハウで配合設計した高密度モルタル材です。 現場状況に適した施工システムを用いて所定の場所に施工することにより、 強度を高め、重摩耗や衝撃から構造物を守ります。 大面積の現場に適した施工システム「ジェコモ工法...

メーカー・取り扱い企業： JFEシビル株式会社 社会基盤事業部