リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

表示灯『UB2』

色、表示が替わる！発光色に青/橙が加わり、バリエーションを大幅拡大

種類をご用意しました。 表示文字は、標準文字以外でも柔軟に特注対応いたします。 【特長】 ■文字・記号等の表示可能 ■超高輝度対応 ■新2色変換表示ボタン ■優れたデザイン性 ■高密度実装が可能 ■豊富なシリーズ構成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社BuhinDana