リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

電子クーラ・小型高効率タイプ「ペルクール」※COP業界最高水準！

工場内制御盤、ネットワーク機器の収納キャビネットに最適なノンフロンクー…

制御機器の小型、高密度化によりキャビネット内の熱問題が増大しています。 ペルクール（電子クーラ）小型高効率タイプはノンフロン、省電力化を実現した電子クーラでキャビネットの熱対策と環境負荷低減をした電子クーラです。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日東工業株式会社