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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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フォトレジストなどの機能性樹脂や各種有機溶剤およびガスの濾過に適してい…
特長】 ■PTFEメンブレンフィルターには、界面活性剤を使用しておりません。フィルターのシールは熱溶融接着のため、クリーンなカートリッジ フィルターです。 ■TCF-020LタイプはPTFEと高密度ポリエチレンのみで構成された、低溶出のカートリッジフィルターです。 ■全品完全性試験を実施済みで、信頼性の高い製品です。 ■有効濾過面積2.3倍(従来TCF-020比)のTCF-020Lと有効...
メーカー・取り扱い企業: アドバンテック東洋株式会社
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