リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ)

太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングター…

(酸化アルミニウム))系、 　ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO（酸化亜鉛)＋Ga2O3(酸化ガリウム(III))系 　がございます。 　AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5％以上の高密度。 　GZOターゲットは99％以上の高密度 ＊ターゲット表面抵抗：5ｘ10－3Ω/Square ＊蒸着中の錯乱粒子が少なく、クラック発生を抑制できます。 当社無機ファイン部HPもご覧く...

メーカー・取り扱い企業： 蝶理株式会社 無機ファイン部