リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

非破壊探査『弾性波探査』

地震計を探査測線に沿って高密度に配置し、広範囲かつ高精度な地盤性状の把…

軟等の工学的情報を調査する『弾性波探査』を行っています。 弾性波探査結果に基づく地層区分、岩盤分類や地山区分等の評価も実施。 現在は受振点間隔を細かく配置し、速度逆転層も解析可能な 高密度弾性波探査が主流になっています。 【特長】 〈高密度弾性波探査〉 ■広範囲の地盤構造を短時間で把握することができる ■従来の弾性波探査では解析できなかった、速度逆転層も検出できる ■...

メーカー・取り扱い企業： 興亜開発株式会社