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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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都市ごみ焼却灰減容・無害化を目的としたプラズマ式溶融炉です。
設備特長 ●高密度熱源によって装置のコンパクト化が図れる。 ●高温溶融が可能。 ●エアプラズマ、不活性ガス(N2、Ar)プラズマ等、キャリアガスタイプを選択できます。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社タナベ 東京本部
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