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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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屋外ベンチ(高密度ポリエチレン)/M3472B-7414CM
高密度ポリエチレン屋外ベンチ
■素材 高密度ポリエチレン...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シロ産業
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屋外ベンチ(高密度ポリエチレン)/M3472B-7114CM
高密度ポリエチレン
■素材 高密度ポリエチレン...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シロ産業
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24時間、切羽を面計測、変位モニタリング
した範囲にレーダを照射し30秒で面計測を行います。 繰り返し計測を行う事で変位値を得る事ができます。 HYDRA-Gで計測したデータを解析する強力なデータ解析 ツールです。 30秒毎に高密度(cm)高精度(<0.1mm)で計測したデータ に環境補正(温度、湿度)を自動で行います。 光学及び赤外線カメラ映像は計測データに取り込まれ、監視 エリアの目視検査を可能にします。計測データ...
メーカー・取り扱い企業: エフティーエス株式会社
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