リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

横型湿式分散機 粉砕機

横型湿式分散機　粉砕機　ダイノーミル（DYNO-MILL）

ても、機械精度が低下することはありません。水平型では分散メディアが重力の影響をほとんど受けないため、シリンダー内で理想に近い均一な分布を得ることができます。 また分散メディアを８０〜８５％までの高密度充填が可能になり、ディスクの高周速と共に縦型サンドミルの数倍の性能があります。分散メディアは、処理物の粘度、比重及び粉砕、分散の要求粒度に応じてガラスビーズ、ジルコンビーズ、ジルコニアビーズ、スチ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シンマルエンタープライゼス