リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【省人化・自動化】流体・電気を自動脱着可能な複合角形コネクタ

検査治具パレット接続、設備のインターロック、AGVの自動給電、ツールチ…

個別の各種コンタクトモジュールを、サイズの調整が可能な１つのフレーム、もしくはハウジングに組み込む構造となってます。 300Aの大電流、5kV高電圧、高密度な信号ユニット、10Gbitイーサーネット、同軸、光ファイバー、熱電対、液だれしない流体コネクタ、圧縮空気（15bar）の幅広いラインナップがございます。 【仕様特長】 ■DINハウジング...

メーカー・取り扱い企業： ストーブリ株式会社