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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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配線コストを削減し、効果的な測定が可能!測温のための革新的ワイヤレスソ…
『Rosemount 848T』は、高密度アプリケーションのための革新的な 温度測定システムであり、設置および運用コストを節約できます。 入力は個別に設定可能であり、RTD、熱電対、Ω、mV、0~10V、4~20mAの 信号をサ...
メーカー・取り扱い企業: 日本エマソン株式会社 メジャメントソリューションズ
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