リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

パルスパターン発生器 ビットエラーテスター

高密度マルチチャンネルのパルスパターン発生器及びビットエラー検出器です…

高密度マルチチャンネル パルスパターン発生器・ビットエラーテスター 光学電子部品や光トランシーバーでの特性の評価、テスト、設計用のパルスパターンを高密度かつマルチチャンネルで発生させます。またビットエラー検出することが可能です。電気信号試験装置と光学試験装置を組み合わせることで、製造環境におけるエンドツーエンド（end to end）のトランシーバーの検証を効率的に行うことができます。 ●ビット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本レーザー

オスミウムコーター

低ダメージでオスミウムをコーティング可能！

質&微細粒子）を コーティングし、導電処理を行う装置『オスミウムコーター』を取り扱っております。 「ホローカソード試料台による低電圧放電CVD法」を採用。 ホローカソード円筒内全域に高密度プラズマが発生し、均一にコーティングが 可能なため、試料サイズや試料高さでお悩みの方にもおすすめです。 【ラインアップ】 ■HPC-1SW 　・CHサイズ：内径120mm×高さ90mm...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ユニオン