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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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小型電磁弁の大流量タイプです。最大約39リッター/分 (空気、圧力34…
LEE社のこれまでの製品(高密度型電磁バルブ(HDI型)を基に、今までの寸法や重さを変更する事なく、より多くの流量が得られる低流量抵抗型の電磁弁を開発致しました。これにより、大型サイズの電磁弁を使う必要がなくなり、コンパクトな設...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ジュピターコーポレーション 本社
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