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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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製品提供だけでなく、製品の企画立案からCADによる設計までトータルにご…
より小型化・高密度化する機器の配線用に好適な条件を満たした プリント基板の需要は高まっています。 ニシウチは多層基板を重視し、製品提供だけでなく、製品の企画立案から CADによる設計までトータルにご提案。...
メーカー・取り扱い企業: ニシウチ株式会社
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