• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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    据置鉛蓄電池『FCP-1000S』

    鉛蓄電池も寿命20年の時代へ!端子封口部など、蓄電池部材の耐久性を向上

    『FCP-1000S』は、高耐食性合金の使用と活物質の高密度化と添加剤の 採用により、正極板・活物質の軟化を抑制することで耐久性をアップし、 サイクル寿命の長寿命化を実現している据置鉛蓄電池です。 安全・安心・低コストを実現。 再エネ系統安...

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    メーカー・取り扱い企業: 丸紅エネブル株式会社

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    据置鉛蓄電池『FCPシリーズ』

    サイクルユースを広範囲で網羅!「FCP-1000S」「FCP-1000…

    『FCPシリーズ』は、正極格子に高耐食性合金を用い、さらに活物質の 高密度化と添加剤の採用により正極板・活物質の軟化を抑制することで 耐久性をアップし、サイクル寿命の長寿命化を実現している据置鉛蓄電池です。 新添加剤の採用で負極の導電性を高め、さらに放電で生成し...

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    メーカー・取り扱い企業: 丸紅エネブル株式会社

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