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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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独自の巻線構造!当社のEIトランスより重量を半減させ、コアの特性を最大…
当社で取り扱っている『GMKトランス』についてご紹介いたします。 高密度巻線や独自の巻線構造で、当社のEIトランスより重量を半減させ、 コアの特性を最大限に引き出すことが可能。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【一般的なEIトランスとの比較例】 ■軽量...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エス・エッチ・ティ
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高効率、低発熱の薄型トランス
軽量、薄型、高密度、低発熱、高周波対応 製造元ペイトン社はイスラエルの会社です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トランシー
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