• 高機能フェライト粉『真球状ナノフェライト粉』 製品画像

    PR磁性インク、磁性流体、各種電子部品等に!酸化しにくく保管も容易なフェラ…

    パウダーテックの『真球状ナノフェライト粉』は、 平均粒径が20~1000nm程度の真球状のナノ(超微粒)フェライト粉です。 分散性に優れており、磁性インク、磁性流体などに使用可能です。 また、各種電子部品への利用も期待されます。 ナノ~サブミクロンサイズであるにもかかわらず酸化しにくいので、 保管も容易。各種溶媒に分散した分散液タイプもあります。 【特長】 ■平均粒径20...(つづきを見る

  • 金型離型剤『フロロサーフ FG-5093シリーズ』 製品画像

    PR圧倒的な離型性。刷毛・スプレーで塗布が簡単。膜厚はわずか数nm、再塗布…

    『フロロサーフ FG-5093』は、特殊なフッ素樹脂を 不燃性のフッ素系溶剤に溶解させた金型離型剤です。 塗布することで、表面の成形樹脂の付着力が低減され、 複雑・精密な形状でも抜群の離型性を発揮します。 持続性に優れ、数千ショットに及ぶ連続離型の実績があるほか、 刷毛・スプレー等で再塗布すれば性能が再び復活します。 【特長】 ■型素材に反応して強力に密着し、連続離型が可...(つづきを見る

  • 面粗さRa1nm【精密研磨/ 鏡面加工】【ラッピング】 製品画像カタログあり

    ◆面粗さ Ra1nm以下◆

    ティ・ディ・シーでは研磨・ポリッシュ・CMPなどの高度技術によって究極の面粗さを実現します。 面粗さRa1 nm以下をほぼ全ての材質で達成可能です!! ...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置)『P-1000』 製品画像カタログあり

    0.01nmの厚みでコーティング可能!機械部品や医療用インプラントなど…

    『P-1000』は、機械部品、ガラスまたはメタルシート、コイン、ジュエリー、エッチャー装置部品、または医療用インプラントなど、さまざまな3Dオブジェクトのバッチコーティングに適した装置です。 主なアプリケーションには、デバイスの性能や寿命を大幅に向上させるための各種パッシベーションやバリア層などがあります。 またドライエッチングプロセス環境からチャンバーやシャワーヘッド・ノズルなどの部品を...(つづきを見る

  • カスタム対応可 Φ200mm ナノパターンウエーハ  製品画像カタログあり

    試作開発に最適!半導体業界、液晶、燃料電池など多くの業界で採用されてい…

    パターンサイズにつきましては、下記仕様以外にも対応可能ですので、ご相談下さい。 【パターンサイズ】 ○パターン寸法 →75nm 100nm 150nm 200nm ○パターン形状 →ライン&スペース、ピラー ○ショットサイズ →4mm□ ○基板 →合成石英、シリコンウエーハ、など ○基板サイズ →Φ200m...(つづきを見る

  • アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例 製品画像カタログあり

    アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例を写真付きでご紹介!

    アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ・Al2O3/Ta205ナノラミネート ・SiO2 ■光学薄膜 ・Al2O3/Ta205 (7nm/2nm) ナノラミネート ■MEMSデバイス ・アクチュエーター、RFフィルター、MEMSスイッチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • ファウンドリサービス 製品画像

    技術がヒトを支えている

    富士通セミコンダクターグループのファウンドリサービス ■300mmファウンドリサービス 三重県桑名市の300mmラインを製造拠点にしたファウンドリメーカーです。90nmから40nmまでのテクノロジーを提供しています。  三重富士通セミコンダクターサイト  http://www.fujitsu.com/jp/mifs/ ■150mm/200mmファウンドリ...(つづきを見る

  • 『蛍光体ウェハーマッピング装置 YB4』 製品画像カタログあり

    測定範囲最大4インチ!高速、高密度でのマッピングが可能な装置

    、透過光源による、高速、 高密度で蛍光体材料のマッピング評価を行うことができる装置です。 100×100mmエリア、もしくは最大4インチの測定が可能で、 オプションでLED光源(447.5nm標準)切り替えもできます。 また、角度依存性(直角45°)や透過率測定も可能です。 【特長】 ■最大4インチの測定が可能 ■オプションでLED光源切り替え可能 ■角度依存性の測定が...(つづきを見る

  • LEDウェハーUV照射器 製品画像

    ウェハー用ダイシングテープの硬化用途、UV-LED採用で安定長寿命

    LED採用で安定長寿命。 6インチ、8インチウェハー対応。 12インチウェハー用製作可能。 照射器交換可能(365,385,395,405nm等)。 0~100%調光可能。 窒素置換(N2パージ)機構採用によりUV硬化時の酸素阻害を軽減。...(つづきを見る

  • SiC / 単結晶炭化ケイ素 / シリコンカーバイド 製品画像カタログあり

    高品質・低価格な単結晶SiCウェハー★1枚から対応♪

    500μm(特殊厚み指定可能)   ※ 5~20mm厚のプレートも有ります。 ■ MPD:≦1/cm2、≦10/cm2、≦30/cm2、≦50/cm2 ■ 表面仕上げ:CMP研磨(Ra≦0.3nm) ■ 受注数量:1枚から~...(つづきを見る

  • 薄膜太陽電池(CIGS)用レーザー穴あけ装置 MPV-LD 製品画像カタログあり

    成膜後の穴あけ(ドリリング)が可能な薄膜太陽電池用レーザードリリング装…

    ≪仕様≫  対応基板厚み:1.0mm~5.0mm  レーザー波長:532nm  加工位置精度:±0.2mm  穴径:φ3~6mm  加工時間:≦15 seconds...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置) P-300F 製品画像カタログあり

    全自動量産の標準品

    プル(最大1:2500) ・基板材料:Si、ガラス、クオーツ、SiC、GaN、GaAs、LiNbO3、LiTaO3、InP ■処理温度及び容量 ・50~300℃ ・最大1000ウエハ/24時間@15nm Al2O3膜厚 ■標準工程 ・最小1桁秒(<10秒)までのサイクルタイムでバッチ処理が可能 ・Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2及びメタル ・<1% 1σ バッ...(つづきを見る

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