• 金型離型剤『フロロサーフ FG-5093シリーズ』 製品画像

    PR圧倒的な離型性。刷毛・スプレーで塗布が簡単。膜厚はわずか数nm、再塗布…

    『フロロサーフ FG-5093』は、特殊なフッ素樹脂を 不燃性のフッ素系溶剤に溶解させた金型離型剤です。 塗布することで、表面の成形樹脂の付着力が低減され、 複雑・精密な形状でも抜群の離型性を発揮します。 持続性に優れ、数千ショットに及ぶ連続離型の実績があるほか、 刷毛・スプレー等で再塗布すれば性能が再び復活します。 【特長】 ■型素材に反応して強力に密着し、連続離型が可...(つづきを見る

  • 高機能フェライト粉『真球状ナノフェライト粉』 製品画像

    PR磁性インク、磁性流体、各種電子部品等に!酸化しにくく保管も容易なフェラ…

    パウダーテックの『真球状ナノフェライト粉』は、 平均粒径が20~1000nm程度の真球状のナノ(超微粒)フェライト粉です。 分散性に優れており、磁性インク、磁性流体などに使用可能です。 また、各種電子部品への利用も期待されます。 ナノ~サブミクロンサイズであるにもかかわらず酸化しにくいので、 保管も容易。各種溶媒に分散した分散液タイプもあります。 【特長】 ■平均粒径20...(つづきを見る

  • 波長285nm親撥水処理パターン描画装置 製品画像カタログあり

    プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・…

    物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。   ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 2) インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します ・285nm高出力UVLED使用の安価光学系    ・パターン幅200μm   ・描画域 100×100mm ・DXFファイル使用可 ...(つづきを見る

  • LED光源UVフィルム硬化装置『UVC-708』 製品画像カタログあり

    波長365nmのUV-LEDを使用、常温照射、低ランニングコストです!

    『UVC-708』は、波長365nmのUV-LEDを使用した、コンパクトな LED光源UVフィルム硬化装置です。 UV-LEDの特長である常温照射、低ランニングコストはそのままに、 18インチウェハに対して全面照射を可能とし...(つづきを見る

  • UV(紫外線)フィルム硬化装置|LED光源仕様「UVC-300」 製品画像カタログあり

    LED光源で長寿命! 波長 365nmの紫外線(UV)を照射

    LED光源を使用した、UVフィルム硬化装置です。 従来の装置と同水準の装置価格のままで、ランニングコストを1/10以下に抑えることができます。 水銀灯やメタルハライド光源と比較して、硬化性能(硬化状態、硬化スピード)はより良好なレベルを実現しています。 その他、本装置は下側照射や上側照射をはじめ、カスタム仕様の対応、装置組み込み用途などのモジュール化にも対応いたします。...■特長 ...(つづきを見る

  • 【合金、化合物、コアーシェル】ナノクラスターソース 製品画像カタログあり

    終結型ガス凝縮法により直径1~20nmのナノ粒子を生成します。化合物や…

    【製品仕様】 ナノクラスターソース -取付フランジ:ICF203 -真空側ソース長:0mm -サイズレンジ:1~20nm(材料に依存) -サイズばらつき:+/-5%(ガス流量やパワーに依存) -成膜速度:最大6オングストローム/sec -ガス流量:5-100nm(Ar/He) -冷却:水冷 Qポールマス...(つづきを見る

  • ナノインプリント装置 製品画像

    繰り返し精度=20nm!!!

    代替パターニングとして (テラバイト光ディスク、LED、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等)に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度  繰り返し精度=20nm ...(つづきを見る

  • 高輝度半導体レーザ(2400シリーズ、5400シリーズ) 製品画像カタログあり

    高輝度・高出力・高効率・高信頼性かつ長寿命を実現した半導体レーザ

    高輝度半導体レーザ(2400シリーズ、5400シリーズ)は、旧SDL時代より蓄積された高い技術と長年の実績をもとに、高輝度・高出力・高効率・高信頼性かつ長寿命を実現した半導体レーザをご提供致します。2400シリーズの仕様につきましては、波長808nm・出力0.6W~8.5Wになります。次に5400シリーズは波長810nm、830nm、852nm・出力50mW~200mW、横モードシングルになってお...(つづきを見る

  • リソグラフィー『Nano Frazor Explore』 製品画像

    高速、高精度!「サーマル走査プロープ」を使った画期的な次世代リソグラフ…

    xplore』は、『サーマル走査 プロープ』を使った画期的な次世代リソグラフィーです。 最大の特徴は、熱時定数 6μ秒の ”Tip” を使用することにより、 高分解能描画後すぐに、その場1nm分解能の描画検査を実現したことです。 EBLと遜色ないほど高速・高精度で、3D描画、グラフェンへの対応も可能。 シリコンや金属への標準的なパターン転写も可能です。 【特長】 ■SEM...(つづきを見る

  • 外部共振型 半導体レーザー装置 製品画像カタログあり

    外部共振型 半導体レーザー装置

    型、リットマン型、高出力タイプや   ファイバー付、モータ駆動によるリットマンタイプなど   様々なアプリケーションに対応します。 ○Littman/metcalf ・波長:635-1700nm, ・出力:10-150mW ・ライン幅:500kHz@20msec ○Littrow ・波長:375-1700nm, ・出力:10-200mW ・ライン幅:1kHz@20msec ●...(つづきを見る

  • 高分解能 静電容量センサ 製品画像カタログあり

    高分解能 静電容量センサ

    標準品でレンジ10nm〜6000nm(6mm)まで対応!測定する材質を選びません!非導体でも測定できます。 ウェハーの厚み測定や精密な位置決め装置として使用されます。分解能0.2nmの高分解能で、超微細な測定に向いてい...(つづきを見る

  • 顕微鏡レベルの精密切断!レーザー カッティング ソリューション 製品画像

    IC設計や故障解析の生産性を劇的に改善!LCDリペア・半導体の故障解析…

    の精密な切断が可能 ■シングル・ショット(単発)から50Hzまで、繰返し周波数を可変 ■顕微鏡マウント向けのコンパクトな設計 ■大量生産のライン向けに最適 ■3波長(1064/532/355nm、又は、1064/532/266nm)のラインナップ ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。  カタログは英語表記となります。 ※製品写真中央にある顕微鏡は本製品...(つづきを見る

  • 赤外線カメラ 製品画像カタログあり

    Electrophysics 社では、高い性能を操作性をもつ 近赤外線…

    7290は、400nm-1.9μm(オプションで最高2.2μm)に感度をもつ近赤外カメラです。 バッテリ駆動タイプ利用可能 オプションフィルタでフィルタスライド可能 1.5μmにおける優れた応答性 ...(つづきを見る

  • 高出力ファイバー付半導体レーザシステム(IDLシリーズ) 製品画像カタログあり

    電源一体型の産業用半導体レーザシステム 空冷・コンパクト・高効率

    高出力ファイバー付半導体レーザシステム(IDLシリーズ)は、電源一体型の産業用半導体レーザシステムです。空冷・コンパクト・高効率で、繰り返しOn/Offサイクルでも超寿命を実現します。信頼性の高いシングルエミッターLDを使用しており、CW1800Wでも空冷を実現しました。主な仕様としては、波長940nm、出力90W・180W、ファイバーコア径600μm、ファイバーNA0.22、トップハットビームプ...(つづきを見る

  • リソグラフィー『Nano Frazor Scholar』 製品画像

    分解能10nm以下!次世代リソグラフィーのサーマル走査プロープ描画装置…

    ルデヒドなどのレジストに、高性能な熱の針を使って直接 描画が可能です。 SEMを必要としない同一装置での描画&検査可能で、一般的なパターン 転写も可能です。 【特長】 ■分解能10nm以下 ■SEMを必要としない同一装置での描画&検査可能 ■一般的なパターン転写も可能 ■マーカーなしで重ね合わせ精度5nm、つなぎ精度10nm ■電子ビームを使わないので、電気的ダメージ無し...(つづきを見る

  • UV-LED照射器【水銀不使用。高出力UVLED】 製品画像カタログあり

    高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…

    製品の特徴 ・ハイパワーUV出力:最大30W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 365nm/385nm/405nm/435nm (オプションで可視光、近赤外の波長領域からLEDを選択することも可能です。) ・閉ループ制御による出力 ・外付けの冷却装置不要で、新しいシステムや既存シス...(つづきを見る

  • ビューイングポート 製品画像カタログあり

    超高真空容器、圧力容器の光信号入出力に最適!

    等) ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き(溶融石英) ■広範囲の波長用のビューイングポート(ZnSe, CaF2, MgF2 等) ■レーザー用のビューイングポート(780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/KrF Excimer , 193nm/ArF Excimer 等) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 高性能汎用コリメーション光源ユニット ALT−3310 製品画像カタログあり

    高性能汎用コリメーション光源ユニット ALT−3310

    ン光源ユニット ALT−3310』 のご案内です。 【特長】 ・非球面ガラス単レンズを使用したローコスト ・高性能の汎用 【仕様】 ・光出力 :1mW ・波長光出力 :655nm ・コリメート径 :φ4 ・電源電圧 :4.5〜13.5V ・外形寸法 :φ12×50mm ※その他機能や詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • UVレーザー加工機 製品画像

    微細加工や難加工材料での問題を簡単解決、UVレーザー加工機

    YAGレーザの4次高調波(波長266nm)を搭載し、ステージとガルバノスキャナの連動で、自在に微細パターンの加工が可能です。 加工パターンはCADから自動コンバートでき、誰でも手軽に使用できます。どんな材料でも加工が可能で、金属ではチタ...(つづきを見る

  • リニアエンコーダ内蔵 高分解能位置決め装置 製品画像カタログあり

    【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

    ○1nm分解能位置決め装置  分解能:1nm(内蔵エンコーダの読取値に対して)  最大移動速度:5mm/s(FC-911コントローラ使用時)  可動範囲:20mm~50mm   ○10nm分解能位...(つづきを見る

  • 表面改良コンポーネント 製品画像

    表面改良コンポーネント

    オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『表面改良コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■172nm真空紫外光によるエキシマ光源 ・低温、ダメージレス処理 ・エネルギー効率の高い単一波長 ・有機ELの仕事関数アップ ■ハンディータイプの大気圧プラズマ ・コンパクト設計 ・取り扱いが簡単...(つづきを見る

  • 超高真空用ビューイングポート&電流導入端子※総合カタログ進呈中 製品画像カタログあり

    官公庁、研究機関、大学の方必見!当社が扱っているビューイングポートや電…

    ) ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き(溶融石英)あり ■広範囲の波長用のビューイングポート(ZnSe, CaF2, MgF2等) ■レーザー用のビューイングポート(780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/KrF Excimer , 193nm/ArF Excimer等) ■K,T,E,J,C等の熱電対タイプをご用意 ■取付部はICFフランジ、NWフラ...(つづきを見る

  • Sonicブロワー(渦巻き型ブロワー) 製品画像カタログあり

    小型モーターで高速回転させ、大風量を作り出す水切り/乾燥用専用ブロワー…

    ソニック社製ブロワーは、独自の技術によりコンプレッサーや従来のブロワーに比べて省エネルギーで大風量を作り出します。 作り出された大風量は脈動せず、継続的に供給する事が可能です。 またメンテナンスも容易な構造となっています。...【標準品仕様】 ・Sonic 70(流量:2~20N㎥//min) ・Sonic 85(流量:2.4~24.1N㎥/min) ・Sonic 100(流量:2.83...(つづきを見る

  • レーザーリペア装置 製品画像

    全自動リペアにも対応!

    レーザー1064.532.355nm 繰り返し周波数1~50Hz パワー0.6~2m/単板、セルの安全修正及びアドレス通信による全自動リペアにも対応 ...(つづきを見る

  • 波長可変半導体レーザ『λ-Master 1040』 製品画像カタログあり

    先進の1μm帯波長可変半導体レーザ!高スペクトル純度で、広帯域なモード…

    【仕様】 ■高スペクトル純度(ASE-Free):<-75dB@0.01nm ■高出力:>100mW(Fiber Output:>50mW) ■広帯域同調:>100nm (980~1080nm) ■Mode Hop Free連続同調:>50nm ■狭発振線幅:~1...(つづきを見る

  • コンパクト レーザー微細加工装置 製品画像カタログあり

    コンパクト設計で研究開発に最適 用途に応じたレーザーを搭載可能 オ…

    討可能です。 このような特徴を備えた本製品は、マイクロホールドリリング、金属膜アブレーション、微細切断・溝加工、燃料電池材料の加工などに最適です。 【主な仕様】 使用レーザー:1064nm、532nm、355nm、DPSSレーザー パルス幅:5~10nsec XYステージ:150×150mm(標準)、200×200mm(オプション) Zステージ:手動50mm(標準)、電動化可能...(つづきを見る

  • 高品質固体レーザ (Qスイッチ固体レーザ) 製品画像カタログあり

    優れたパルス安定性を有するQスイッチ固体レーザ

    【特長】 ・Nd:YLFモデル:超小型空冷Qスイッチ1,047nm出力。  パルス・オン・デマンド機能搭載 ・Qシリーズ:独自の特許によるイントラキャビティー高調波発生方式の共震器で  高出力の335nm、532nmを発生。  堅牢で高効率のNd:YAGロ...(つづきを見る

  • M&R Nano Technology 製 「露光装置製品」 製品画像カタログあり

    M&R Nano Technology Co.,Ltd.製「露…

    Technology Co.,Ltd.製は各種露光装置製品を取り揃えております。 ○露光光源 →高圧水銀蒸気灯パワー:350W →露光光源寸法:10cm×10cm →光源波長:NUV(365nm、400nm、435nm含む) →露光均一性:±5%以内 →電源供給器:350W。パワー調整設定機能あり。 →光源位置は固定不動です。 ○映像システム →7倍可変倍率レンズ×2個、拡大倍率...(つづきを見る

  • レーザーリソグラフィシステム『DWL 66+』 製品画像カタログあり

    理想的な研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置!

    【描画モードごとの仕様(一部抜粋)】 ■描画モード:I ■最小アドレスグリッド(nm):10 ■最小描画サイズ(μm):0.6 ■最大描画スピード(mm2/分):6 ■エッジラフネス(3σ、nm):50 ■CD均一性(3σ、nm):60 ■重ね描画精度(3σ、nm):10...(つづきを見る

  • ハンディタイプUV(紫外線)硬化装置 製品画像カタログあり

    高出力のUV硬化装置をお手元で、簡単に。 樹脂にあわせた3種類の…

    UV硬化は、ランプより放出される紫外線(250nm~450nm)の照射を行う事により、UV硬化性の樹脂・接着剤・塗料・レジスト等が瞬時に光重合反応をおこし硬化する技術です。  これらのUV硬化技術は、従来の熱乾燥などと比較すると「硬化・乾燥」までに至る時間が圧倒的に短く、溶剤等の使用量が飛躍的に削減される為、「省エネ」「省スペース」「環境面」に於いてその特性を発揮します。...感光剤である紫外線...(つづきを見る

  • N-111 NEXLINE OEMリニアモーター/アクチュエータ 製品画像カタログあり

    長距離ナノポジショニング用のPiezoWalk(R)ドライブ

    【特徴】 ○ストローク:5mm ○分解能:0.025nm(オープンループ)と5nm(クローズドループ) ○プッシュプルフォース~40Nおよび60Nの保持力 ○静止時の自動ロック、発熱なし ○非磁性および真空対応の動作原理 ●詳しくはお問い合わ...(つづきを見る

  • N-310 NEXACT OEMミニチュアリニアモーター 製品画像カタログあり

    コンパクトで高速なPiezoWalk(R)ドライブ

    【特徴】 ○20mmの標準ストローク ○コンパクトでコスト効率に優れた設計 ○0.03nmの分解能 ○プッシュプルフォース~10N ○低動作電圧 ○静止時の自動ロック、発熱なし、ナノメートル精度の安定性 ○非磁性および真空対応の動作原理 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタロ...(つづきを見る

  • UV洗浄表面改質装置 ASM1101N 製品画像カタログあり

    110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

    浄、紫外線洗浄、UVオゾン洗浄、紫外線オゾン洗浄とも呼ばれる、製品の高精細化に適合した、UVエネルギーによる精密でクリーンな乾式洗浄法です。 低圧水銀ランプより発する短波長の光エネルギー184.9nm、253.7nmはポテンシャルが高く、高精細基板製造過程で生じた有機汚染物質の結合を分解する強いエネルギーを持っています。同時に基盤表面上で紫外線ランプとエアーから生じたオゾンにより酸化反応がおこり...(つづきを見る

  • 超高輝度ファイバー付半導体レーザ(L4シリーズ) 製品画像カタログあり

    高い技術力を基に超高輝度・高出力・高効率・高信頼性且つ長寿命を実現

    導体レーザ(L4シリーズ)は、光通信分野で培われた高い技術力を基に超高輝度・高出力・高効率・高信頼性且つ長寿命を実現した、光ファイバー付半導体レーザです。主な仕様と致しまして、波長808nm、812nm、915nm、940nm、975nm・出力4W、4.5W、10W・ファイバーコア径105μm・ファイバーNA0.15、0.22・各種コネクター(SMA、SC)・フィードバックプロテクションとなってお...(つづきを見る

  • 真空・低温対応 高精度位置決めステージ  製品画像カタログあり

    真空・低温対応 高精度位置決めステージ 

    空ステージのサイズは68mm角と非常に小型で、狭スペースへの取付けが可能です。駆動原理にピエゾ素子を用いており、非常に精密かつスムースな動作でサンプルの位置決めを行えます。 動作分解能:0.5nm(XYZ軸) 繰返し精度:100nm 動作範囲:20mm(XY軸),15mm(Z軸) 移動スピード:最速2mm/sec 対加重:500g(XY),200g(Z) 使用環境:10-7mbar...(つづきを見る

  • UV(紫外線)硬化装置|高圧水銀ランプ仕様「UVC-512」 製品画像カタログあり

    小型、軽量、小フットプリント装置

    【モデルUVC-512】は、特定波長(365nm)の紫外線を照射することのできる装置です。UV(紫外線)硬化タイプのフィルムに照射することで、ダイシング後に、チップをテープから簡単に剥離させることが可能となります。 本装置は、ワークを回転さ...(つづきを見る

  • 多光子励起光造形装置『MPF-330』 製品画像カタログあり

    材料が熱的な損傷を受けない!フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形…

    『MPF-330』は、フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置です。 750~900nmの超短パルスレーザー光を励起光源として用いることにより、 紫外~可視領域に吸収を持つ物質の2光子励起が可能です。 従来の高出力レーザーによる光造形より高空間分解能で、 ナノスケールの光造形...(つづきを見る

  • P-5x8シリーズ ピエゾZ/チップ/チルトステージ 製品画像カタログあり

    大型のセンター開口部により高ダイナミクスを実現

    P-5x8シリーズ、Z/チップ/チルトナノポジショナー/スキャナは、オープンフレームの高分解能ピエゾ駆動ステージで、最大240μmおよび2.4mradの動作範囲と、最大0.5nmおよび50nradの分解能を実現します。...(つづきを見る

  • P-561-P-563 PIMars XYZピエゾシステム 製品画像カタログあり

    高精度ナノポジショニングステージ、3~6軸

    PIMars(TM) オープンフレームピエゾステージは、高速かつ高精度の多軸スキャニング/ナノポジショニングシステムで、ナノメートルの平坦度と直進度を誇ります。...【特徴】 ○パラレル制御/計測構造による応答性の向上/多軸の精密制御 ○ストローク~340 x 340 x 340μm ○静電容量センサーによる高いリニアリティ ○摩擦のない精密フレクシャガイドシステム ○比類のないスキャニ...(つづきを見る

  • レーザ『高出力ファイバ結合型 青色半導体レーザ』 製品画像カタログあり

    材料ダメージの軽減に優れ、高効率な加工を実現する半導体レーザ!

    力20W。高出力、高効率LDモジュールにより高速加工が可能。 また、光ファイバ径200μmを採用することで取り回しが容易となり、 微細加工にも適しております。 【特長】 ■波長450nm ■最大出力20W ■光ファイバ径200μm ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 大画面・高精細三次元マスク/微小金属タグ カタログ 製品画像カタログあり

    FPD向け大型フォトマスクで培ってきた独自の技術で、機械加工では難しい…

    FPD向け大型フォトマスクで培ってきた独自の技術で、機械加工では難しい超微細化3次元形状を大面積に実現します。 ー標準スペックー ■最小線幅2マイクロメートル ■パターン座標位置精度±0.5ナノメートル ■最大サイズ500×600mm、アスペクト比:10 ※計上によっては対応できない場合もありますのでご相談ください。 その他、微小金属タグも掲載中!産業機械の消耗品管理、ビックデ...(つづきを見る

  • 超音波発生器 製品画像カタログあり

    半導体用ウェーハ洗浄から産業用部品洗浄まで幅広い分野の洗浄装置に応用で…

    当社が販売している超音波発生器のメーカー、KYUNG IL MEGASONIC(韓国)は創業以来10年の製造経験を持ち、国内の半導体メーカーはもとより、欧米にも輸出実績を持っています。 特に、三星電子、及びHYNIXには、過去3年間で約300台以上の 実績を誇り、装置の完成度の高さと、安定性には定評が あります。 シリコンウェーハー、ガリウム砒素、ハードディスク、 液晶基板等の通常洗浄はも...(つづきを見る

  • マスクレス露光装置「MXシリーズ」 製品画像カタログあり

    半導体製造等の露光工程の納期短縮とコスト削減に貢献します。

    /200x200/200x200/150x150/550x650 ○有効露光エリア(mm) →200x200/200x200/200x200/150x150/550x650 ○レーザ主波長(nm):405±5/375±5/405±5/375±5/405±5 ○露光スキャン速度(mm/s):43.9/43.9/22.5/10.9/92.2 ○光学エンジン搭載数:1/1/1/1/7 ...(つづきを見る

  • ハーフトーンマスク「CST ハーフトーンシリーズ」 製品画像カタログあり

    多くのお客様からのご要望にお応えして2300枚に及ぶ数量を手がけてきま…

    ES:100Å ○HT layer depends on its transparent rate or HT type:1140Å →Phase Shift layer(CrOx) λ=365nm T=5% ○QZ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...(つづきを見る

  • UV-LED均一照射ユニット 製品画像カタログあり

    大興製作所のUV-LED均一照射ユニットは少ないLEDで均一な照射照度…

    省電力・低コストで広範囲(100×100mm)の均一化が可能です。 また、リフレクタの光学設計により、任意の照射距離・照射面積に対応できます。 対応波長:265、280、310、365、405nm ...(つづきを見る

  • 「ナノピンセット」リーフレット 製品画像カタログあり

    マイクロ・ナノサイズの試料の把持が可能な微小ピンセットのリーフレットで…

    【掲載内容】 ○ナノピンセットとは? ○特長 →先端部材質:単結晶シリコン(SiO2被膜付) →数百nm~数十μmの試料の把持が可能です。 →先端を平行に開閉します。 →撥水処理を行っており、先端を液中に浸けて操作することが可能です ○アプリケーション →ウェハ上のパーティクル(幅2μm) ...(つづきを見る

  • P-733.2/3 XY(Z)ピエゾナノポジショニングステージ 製品画像カタログあり

    高精度XY(Z)スキャナシリーズ(開口部付き)

    【特徴】 ○ストローク:XY軸方向に100 x 100μm、高さ方向に~10μm ○静電容量センサーにより分解能~0.1nmを実現 ○直動式の高速バージョン ○真空対応および非磁性バージョン ○パラレル制御によるダイナミクスの向上/多軸の精密制御 ○パラレル計測によるアクティブ軌道制御 ○摩擦のない精密フレクシ...(つづきを見る

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