蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo（デオポ）』

PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 ！生…

『Deopo（デオポ）』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルプラント

レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric

PR非球面レンズの両面を一度に測定できる表面形状測定機。高精度＆高速測定で…

特許取得の独自構造によりレンズの表・裏を一度に測定出来る 表面形状測定機『MarSurf LD 130/260 Aspheric 2D/3D』 2024年4月 OPIE'24(株)マブチ エス アンド ティー ブースに実機を展示！ レンズの表裏を変える必要がなく、セッティングの手間を削減できるほか、 高精度・高速測定が行えるため、測定作業の短縮に貢献。 また、0.5mNという低測定圧での測定が可...

メーカー・取り扱い企業： マール・ジャパン株式会社

レーザークリーナー『LICL-100』

レーザークリーナーの原点！高出力！コンパクト！

れ・焼け取り ■適合素材：金属全般・樹脂(条件有)・木材等 ■レーザー種類：ファイバー ■出力方法：パルス／CW ■冷却方式：空冷 ■偏光：ランダム ■出力：100w ■中心波長（nm）：1064 ■パルス幅（ns）：2-500...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社LICTH レーザー事業部

大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質

大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現！バグフィルターにて捕獲…

加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い ■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減 ■半導体チップ上の処理も可能（処理後のトランジスタ特性変化なし<4nm以上のL/S>） ■プラズマ発生エリアとワーク間距離を最小限にする構造（特許）により、高性能化が実現 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

ナノダイヤモンド複合めっき『NDCO（ナデコ）』

耐摩耗性に優れ、摺動性が良好！相手材に対する攻撃性を最小限に抑えます

『NDCO（ナデコ）』は、従来、均一に共析させた複合めっきを 得ることが困難なナノダイヤモンド（ND）粒子を、10～100nmの オーダーで均一に分散共析できる複合めっきです。 高硬度を有するND粒子を共析しているため、耐摩耗性に優れ、 摺動性がよいことで、相手材に対する攻撃性を最小限に抑えます。 また、低...

メーカー・取り扱い企業： アイテック株式会社

コーティングサービス『Miccフィルム』

効率的に膜を剥離可能！H-Crの取り扱い・処理条件と互換性があるMic…

『Micc膜』は、数年間の研究の後に生まれたソリューションで、金型の表面に使用することにより、分離特性を2倍以上改善できることが実地で証明されています。 H-Crの取り扱いおよび処理条件と互換性があります。 また、グリーンエポキシ成形コンパウンドにおける付着性の問題を大幅に減らします。 【特長】 ○効率的に膜を剥離することができる ○メンテナンス・サイクルの間隔を大幅に伸ばす ○キ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノフィルムテクノロジーズ　ジャパン

薄膜加工サービス

薄膜加工メーカーとして、ご要望に応じた薄膜製品をご提供いたします！

当社では、先進の薄膜技術で『薄膜加工サービス』を行っています。 小ロット（1枚）から大量生産まで対応可能。 波長域250nmから15μmまで幅広い成膜にご対応いたします。 また、硝子、樹脂、金属、結晶等の各種素材への対応もできますので、 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【特長】 ■試作から量...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーカイ 大阪営業所

金属表面処理『InertMask』

酸性化合物や塩基性化合物などの金属吸着が懸念される分析計の配管部品等に…

ctionalized amorphous silica ■蒸着方法：化学蒸着法（CVD：Chemical vapor deposition） ■最高使用温度：300℃ ■膜厚：100～200nm ■接触角：100～110° ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジーエルサイエンス株式会社 分析機器事業

精密洗浄サービス

ICおよび半導体製造装置メーカーに対して信頼性の高いサポートを提供しま…

ァブ、 PVD/CVD/ETCH/IMPLA NT等のプロセスに対して、安定した洗浄技術を 提供することが可能です。 10の主要な精密洗浄および表面処理ライン （溶射、プラズマ溶射、14nm精密洗浄、陽極酸化、電気メッキなど）と サービスチームと連携し、品質管理と技術開発の課題に共に立ち向かいます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■5000m2（55...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンファインマテリアル株式会社

プラズマCVD装置『PEGASUS』

低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性！

0mm×D2000mm×2000mm ■プラズマソース：ICP、RFバイアス ■ガス種：SiH4、O2、N2、HMDSO、NF3 ■ウエハサイズ：～φ12インチ（FOUP対応） ■成膜速度：～300nm/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社セルバック

黒色めっき『スゴクロ』

光学機器をさらに進化させる黒化処理技術！画像のノイズや測定値の誤差低減…

黒色めっき『スゴクロ』は、表面形状の複雑化によって光の反射を抑制し、 可視光領域（380～750nm）の反射率1％以下を実現する低反射めっき皮膜です。 カメラや分光光度計など、光学機器の迷光を防止します。 画像のノイズや測定値の誤差低減に貢献できます。 また、有機塗料を用いた黒塗装や...

メーカー・取り扱い企業： EBINAX株式会社 旧 ヱビナ電化工業(株)

【DL可/GD-OES測定】変色したステンレスの組成調査

GD-OES（グロー放電発光分析）によりステンレス(SUS)の表面をス…

●試料表面をスパッタして、深さ方向の組成情報を調査可能 ●nm オーダーの高い深さ分解能で測定をすることが可能...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

【DL可/XPS】XPSでの材料表面(ニッケルめっき)の変色調査

X線光電子分光分析(XPS)は表面汚染・変色の分析や表面処理の評価に有…

X線光電子分光分析(XPS)は ●試料最表面(数nm)の元素情報を得ることができるため、表面処理の評価、 表面汚染・変色の分析に有効です。 ●元素の特定だけでなく、元素の結合状態の解析も可能です。 この事例では「XPSによる材料表面(ニッケ...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

電気を通すガラス！　FTO透明導電膜　※サンプル無料進呈中！

高い光透過性と優れた導電性、膜厚のムラも改善！

を 　 ガラス表面にコーティング ○大気中で製膜できるSPD法によりFTOを製膜するから低コスト ○高い光透過性と導電性 ○移動噴霧方式により膜厚のムラを改善 ○FTO膜厚：500〜800nm ○ヘイズ率：3〜10％ ●ガラス、金属、セラミック等の薄膜コーティングに関するご相談も承ります。 　その他詳細は、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SPD研究所

ルテニウムエッチング液『RECシリーズ』

半導体デバイスやフォトマスクの材料として使用されるルテニウム用エッチン…

液です。 【特徴】 ■REC-01はRu膜を短時間でエッチングでき、RuO2もエッチング可能 ■REC-11はRuO4ガスの発生を抑制でき、ウェーハの金属汚染が少ない ■REC-11は数nm～のRu薄膜のエッチングに最適 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 電子材料事業本部

UV表面処理（UV洗浄・UV改質）装置 EUVシリーズ

圧倒的スペック（30mW/cm2 )の装置。研究・開発の時間短縮、従来…

UV表面処理（UV洗浄・UV改質）装置 の最高峰。大学・企業研究室への納品実績も多い標準機をベースに開発、性能と使いやすさを両立させました。 ステージ160x160　30mW/cm2（254nm)ランプ搭載。30ｃｍ角程度のスペースに設置可能。照射距離を簡単に調整できるジャッキ・テーブル付き。インターロック（オプション）付きもご用意しています。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社マリオネットワーク

押出成形金型へのレーザ表面加工

S45C製の押出成形金型へ、IRレーザでLIPSS加工を実施しました

チューブ成形等に使用される内リップ表面へ超短パルスレーザを用いて900nmピッチのナノ周期構造を加工いたしました。 LIPSS加工ならではの構造色が、金型先端のパイプ状部分に発現しております。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リプス・ワークス

エキシマUV照射装置

エキシマ光で効率よく表面洗浄、改質！

172nmの光で効率よく有機物洗浄及び表面改質が可能です。 特徴 準単色光：エネルギー交換効率が良く、ワークに対して熱のダメージを与えません。 瞬間点灯消灯：瞬時の点灯消灯ができ、必要時のみの点灯照...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

20W／30W／50W ファイバレーザ(LPシリーズ)

平均出力20W／30W／50WのMOPA型のファイバーレーザ

■MOPA(Master Oscillator Power Amplifier)型ファイバレーザ ■1064nm、20W／30W／50W ■200nsパルス幅固定、低価格...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ハ最大50枚/バッチ 〇高アスペクト比サンプル（最大1：2500） 〇基板材料：Si、ガラス、化合物半導体各種 ＜処理温度と容量＞ 〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

【研究・開発向け】電気がとおるガラス基板でのお困りの方必見！

基板や膜の素材(種類)、厚さをご要望に合わせて成膜可能！透過率８０％以…

化すず）をガラス表面にコーティング ○大気中で製膜できるSPD法によりFTOを製膜するから低コスト ○高い光透過性と導電性 ○移動噴霧方式により膜厚のムラを改善 ○FTO膜厚：500〜800nm ○ヘイズ率：3〜10％ ※ガラス、金属、セラミック等の薄膜コーティングなどの情報はPDFダウンロードいただくか、お問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SPD研究所

【サンプル無料配布中！】　Nano Clear Coat

【IPROS限定企画】フッ素の積層膜が基材と強力に結合しているため、耐…

耐熱温度が350℃という非常に高い耐熱特性を有しています。 ■□■特徴■□■ ●塗膜が約500nmという超薄膜なので、精度を必要とする個所にも対応することができます。 ●透明な塗膜で、ガラスや金属、セラミックにも加工する事が可能です。 ●従来のフッ素樹脂と同等あるいは、それ以上の撥水性･撥油...

メーカー・取り扱い企業： 日建塗装工業株式会社

『ソルブラック』技術紹介 -濃黒色無電解めっき

低反射＆高光吸収！塗装下地としても優れた性能を発揮する濃黒色無電解めっ…

【仕様】 ■光吸収：可視光領域（380~750nm）の光を平均で98％吸収する ■低反射：入射角12°で照射された可視光線の正反射率は0.2％ ■真空性：フォスブラックIIIと比較して気体の放出速度が1桁程度低くなる ■耐食性：人工酸性雨（J...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社旭プレシジョン 京都西工場

【DL可：XPS/AES/GD-OES】表面分析に関する事例集1

Niめっきの膜厚や濃度測定、表面汚染レベル測定などXPS、AES、GD…

　・手法：GD-OES（グロー放電発光分析） 　・結果：ステンレス基板表面のC元素（カーボン）が減少しており洗浄効果を確認 ■XPSによる表面汚染分析 　〈XPSの特長〉 　・試料最表面（数nm）の元素情報を得ることができるため、表面汚染・変色の分析、 　表面処理の評価に有効 　・元素の特定だけでなく、元素の結合状態の解析も可能 　・分析事例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

高硬度・極薄膜のDLC-Ｉｒｉｓ（アイリスコーティング）

精密超硬プレスパーツ・非鉄系切削工具・モールドパーツ・各種機械部品の表…

打ち抜きで、２倍程度のショット数を加工可能 ○再研磨量も０．０５ｍｍ程度で磨耗部分が取れるのでパンチは長寿命化が可能 ○密着力も非常に強く、硬度は６０００～７０００Ｈｖあるため側面のコーティングが剥がれにくく、再コーティングしなくても繰り返し使用可能 【仕様】 硬度Hv：6000～7000Hv 耐熱温度：600℃ 膜　厚：0.1～0.8μm 処理温度：150℃ 面粗さ(Ra)：4nm

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ツール・テック東北

20W～200W ファイバレーザ(M7シリーズ)

平均出力20W～200WのMOPA型のファイバーレーザ

■MOPA(Master Oscillator Power Amplifier)型ファイバレーザ ■1064nm、20W／30W／60W／80W／100W／120W／150W／200W ■2ns～500ns パルス幅、CW動作も可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス

大気圧プラズマ処理機『ALDYNE』※フィルム加工・印刷業界向け

高いエネルギーレベルが安定的に長期間持続！高機能性基材の開発が可能に！

【技術的特徴】 ■基材表面10nmレベルの分子構造変化による、直接接着性の改善 ■特許出入口シールゾーンによる、ガス封止構造が効率的なプラズマ放電による高速度処理が可能 ■清掃、パラメータ設定及びメンテナンスが容易な、空圧作動の...

メーカー・取り扱い企業： ソフタル・コロナ・アンド・プラズマGmbH　日本支社

防汚処理技術「有機ナノ薄膜処理NANOS」＜スキャナ用ガラス＞

スキャナ用ガラスへ「汚れ付着防止・メンテナンスの向上」機能を付与！テス…

■目的：汚れ付着防止、メンテナンスの向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

離型剤不要！凹版など転写プロセス用治具の転写性UP可能な表面処理

【表面処理加工】転写プロセス用治具の転写性を向上させる表面処理技術『N…

など） ■目的：転写性向上（離型剤レス） 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

表面処理技術｜インクジェットヘッドの滑り性UPで印刷性の向上に！

【受託加工】インクジェットヘッドの滑り性・耐久性で困っていませんか？独…

インクジェットヘッド ■目的：印刷性向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

タッチパネルの防汚・耐指紋性に！独自技術のフッ素コーティング加工

【受託加工】タッチパネルへ「汚れ（耐指紋）付着防止」機能を付与！テスト…

チパネル ■目的：汚れ（耐指紋）付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

撥水処理技術「有機ナノ薄膜表面処理技術　NANOSナノス」

【受託加工】ガラス・金属等に撥水・撥油などの機能を受託コーティングにて…

め、光学特性への影響もほとんどありません。 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

フッ素コート加工【レジストの付着防止に】＜フォトマスク向け＞

【受託加工】フォトマスクへ「レジストの付着防止」機能を付与！テスト可能

フォトマスク ■目的：レジストの付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

ナノインプリント用金型の離型性＆微細形状への追従性を高めたい方に

ナノインプリント用金型へ「離型性向上、微細形状への追従性を高める」機能…

的：離型性向上、微細形状への追従性を高める 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

光学部品用『金型』に有機ナノ薄膜表面処理で離型性の向上を実現！

【受託コーティング加工】光学部品用『金型』の離型性をUPできる独自技術…

対象：光学部品用金型 ■目的：離型性向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

はんだ印刷用メタルマスの印刷性向上＆メンテナンスの軽減に！

【受託コーティング加工】はんだ印刷用メタルマスの滑り性・防汚性を独自技…

■目的：印刷性向上、メンテナンスの軽減 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

薄膜表面処理加工｜スタンパ金型の離型性向上＆タクトタイムの短縮に

【受託コーティング加工】光学部品用『金型』の離型性をUPできる独自技術…

■目的：離型性向上、タクトタイムの短縮 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

【DL可/XPS】XPSによる撥水膜の分析

X線光電子分光分析(XPS)は試料最表面(数nm)の元素情報を得られる…

●試料最表面(数nm)の元素情報を得ることができるため、表面汚染・変色 の分析、表面処理の評価に有効です。 ●元素の特定だけでなく、元素の結合状態の解析も可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

平滑・超高硬度DLC　AC-X コーティング

平滑・超高硬度DLC　AC-X コーティング

FADシステムにより 　平滑・高硬度を実現 ○継続切削が可能 ○硬度：7000Hv、60Gpa ○耐熱温度：550℃ ○膜厚：〜0.7μm ○処理温度：150℃ ○面粗さ（Ra)：4nm ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オンワード技研 本社

【製品事例】超精密非球面加工(無電解NiP)

磨きレスで数ナノオーダーの面粗度を実現しています！

【仕様】 ■素材：STAVAX + 無電解NiP ■サイズ：Φ5mm x サグ0.625mm凹（非球面部) ■精度：形状精度 PV0.043μm(ベストフィットPV0.034μm) Ra3nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社木村製作所