• フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』 製品画像

    フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

    PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

    『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • 【事例資料を進呈中】溶射・コーティング/表面処理適用例のご紹介! 製品画像

    【事例資料を進呈中】溶射・コーティング/表面処理適用例のご紹介!

    PR使い方はいろいろ!溶射をはじめとした表面処理・コーティング技術で生産効…

    鉄鋼から半導体、医療分野まで、さまざまな業界で幅広く利用される表面処理。 資料では、溶射・その他技術の概要や実績のあるアプリケーション等、幅広くご紹介しています! \こんな方におすすめです!/ ・表面処理をご検討中の方 ・今よりも長持ちするコーティングをお探しの方 ・熱影響の少ない処理をご希望の方 ・開発中の商品へ高機能性・付加価値付与をご検討中の方 ――――――― 掲載内容 ――――――――...

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    メーカー・取り扱い企業: トーカロ株式会社

  • 鋼フライス加工用材種『GC1130』 製品画像

    鋼フライス加工用材種『GC1130』

    様々な被削材での混合生産に!ザーティボテクノロジー採用の鋼フライス加工…

    ルパス、深穴加工、長い突出し量など、厳しい条件での加工 ■小径カッターを使用する場合や、低速、径方向の切込みの低い加工 ※大径カッターを使用する場合や、高速、径方向の切込みの多い加工には  CVD材種GC42XXシリーズをご使用ください。 ■荒加工~仕上げ加工 ■ウェット加工およびドライ加工(ドライ加工を推奨) ■さまざまな被削材での混合生産における第一推奨 ※詳しくはPDF資...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社TOSAMACHINE

  • 受託成膜・受託分析 製品画像

    受託成膜・受託分析

    各種成膜・表面処理・塗布加工や、受託測定のことなら当社へお任せください

    【各種成膜・表面処理・塗布加工詳細】 ■真空成膜加工  ・加工方法:P-CVD、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング  ・膜種類:SiN、SiO2、DLC、ITO、Al2O3他各種メタルなど  ・基板:Si、ガラス、フィルム他 ■エッチング・表面処理  ・処理方法:...

    メーカー・取り扱い企業: アイゲート株式会社 本社

  • 透明導電膜(TCO)付きガラス『NSG TEC』 製品画像

    透明導電膜(TCO)付きガラス『NSG TEC』

    ガラスに高耐久の透明導電膜をコーティング。冷蔵ショーケース、発熱ガラス…

    『NSG TEC』とは、Transparent Electrically Conductive glass(電気を通す透明なガラス)です。 ガラス製造工程での熱分解を活用したオンラインCVD製法で、ガラス表面に金属の導電性薄膜(TCO)をコーティングした製品です。 金属薄膜は、フッ素を添加した酸化スズ膜であり、FTO、SnO2:Fとも呼ばれています。 【News】ガラス厚み0...

    メーカー・取り扱い企業: 日本板硝子株式会社

  • 高硬度・高耐食性ステンレス鋼のご提案 製品画像

    高硬度・高耐食性ステンレス鋼のご提案

    高硬度・高耐食性ステンレス鋼はタカギスチールにおまかせください!

     ・各種鋳造品  ・各種鍛造品 ■金型関連部品  ・超硬品  ・プレート  ・ダイセット  ・パンチ  ・ダイス ■熱処理 / 表面処理  ・各種熱処理  ・PVD  ・CVD  ・各種鍍金  ・アルマイト処理  ・塗装 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社タカギスチール 本社

  • オスミウムコーター 製品画像

    オスミウムコーター

    低ダメージでオスミウムをコーティング可能!

    凹凸構造を持つ試料に低抵抗のオスミウム金属(非晶質&微細粒子)を コーティングし、導電処理を行う装置『オスミウムコーター』を取り扱っております。 「ホローカソード試料台による低電圧放電CVD法」を採用。 ホローカソード円筒内全域に高密度プラズマが発生し、均一にコーティングが 可能なため、試料サイズや試料高さでお悩みの方にもおすすめです。 【ラインアップ】 ■HPC-1...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ユニオン

  • 真空環境用ウエハ搬送ロボット『UTVW-R2800H』 製品画像

    真空環境用ウエハ搬送ロボット『UTVW-R2800H』

    【~300mmウエハ用】旋回軸にダイレクトドライブモータを採用! 高…

    ■Z軸が標準搭載されているダブルアームタイプの真空用ウエハ搬送ロボット ■θ軸にダイレクトドライブモータを採用し、ウエハを低振動で搬送することで スループット向上に貢献 ■CVD装置、アニール装置など、高温プロセス装置に対応 ■可搬重量2kgのため、重量物搬送にも対応 ■ウエハセンター位置ずれ補正機能付き ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダイヘン

  • 2020版 薄膜作製応用ハンドブック 製品画像

    2020版 薄膜作製応用ハンドブック

    「21世紀版薄膜作製応用ハンドブック」から17年、基礎を押さえつつ、新…

    薄膜材料の磁気特性  6章 薄膜材料の光学特性  7章 薄膜材料の力学特性  8章 薄膜材料の化学特性 第2編 薄膜の作製と加工  1章 基板と表面処理  2章 PVD法  3章 CVD法  4章 液相薄膜堆積法  5章 有機・高分子・生体関連薄膜作製法  6章 パターン化技術  7章 薄膜の加工/改質技術 第3編 薄膜・表面・界面の分析・評価  1章 薄膜・表面・界...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エヌ・ティー・エス

  • 【infiTOF】半導体プロセスガスモニタリングソリューション 製品画像

    【infiTOF】半導体プロセスガスモニタリングソリューション

    飛行時間型高分解能質量分析計で、プロセスガスのin-situモニタリン…

    半導体プロセスには結晶成長(エピタキシャル成長)、成膜(CVD,ALD)、 エッチング、クリーニングなど様々な工程があります。 また、これらのプロセスでは多種の原料ガスが使われております。 プロセスチャンバー内における反応生成物、分解物、残留成分...

    メーカー・取り扱い企業: カノマックスアナリティカル株式会社

  • 表面処理 製品画像

    表面処理

    用途に応じた機能性皮膜、有機・無機材の機能性コーティング!

    カ成分等を中心としたものから ハードコート系に至るまでご要望に応じた機能性コーティングを提案いたします。 【処理の種類】 ■超非粘着コーティング ■滑り・離型コーティング ■PVD・CVDコーティング ■耐蝕コーティング ■溶射コーティング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日信テクニクス株式会社

  • 窒化・バイメタリック可能…射出成型機用シリンダー 製品画像

    窒化・バイメタリック可能…射出成型機用シリンダー

    窒化・バイメタリック可能 お客様の求める仕様・条件に合わせて…

    でなく、スクリュー、スクリューヘッド、チェックリング、シートリングなどの関連部品は、厳しい摩耗条件下にありながら、耐コンタミ性、耐食性を要求されます。TiN(窒化チタン)などのPVD(物理蒸着)、CVD(化学蒸着)、ラジカル窒化との複合処理等、セラミックコーティングは、先端部品の耐摩耗性を維持しながら、大幅なコンタミ低減をはかります。 何でもお気軽にお問い合わせください! クイック見積り...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マーテック

  • インテリジェントリモートプラズマソース『Paragon(R)』 製品画像

    インテリジェントリモートプラズマソース『Paragon(R)』

    NF3最大流量8slm、独自のPEOプラズマブロック設計によりプロセス…

    「Paragon(R)」は、量産実績のあるMKS低磁場トロイダルプラズマ源の特性を基に、次世代ナノプロセス開発と製造に、より適したデータ転送と制御性を実現しました。 CVDおよびALD/ALEプロセスチャンバークリーニングに対応し、8slmのNFガス流量および最大10Torrの圧力条件においても高い分析効率(>98%)が得られます。 【特長】 ■NF最大流量...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エム・ケー・エス株式会社

  • 半導体製造装置部品 製品画像

    半導体製造装置部品

    消耗部品から修理に渡り、お客様のコストダウンに貢献できるご提案、ご提供…

    ンス、 改造、設計、製作などお客様のご要望を形にする技術相談等も承っております。 【半導体製造装置部品 取扱製品(一部)】 ■フォトリソ ■インプラ ■エッチング ■スパッタ ■CVD ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ポシブル

  • Aera FC-R7700シリーズ マスフローコントローラ 製品画像

    Aera FC-R7700シリーズ マスフローコントローラ

    経済性に優れた高精度ラバーシール

    半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されてい...

    メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社

  • 排ガス除害・屋内タイプ大流量ウェットスクラバー EXシリーズ 製品画像

    排ガス除害・屋内タイプ大流量ウェットスクラバー EXシリーズ

    バブリング・スプレー方式で国内外で1000台以上の納入実績あり! 信…

    従来のバブリング・シャワータイプで、小~大流量ガス除害(最大~60m3/min)に最適です。対象ガスはCl2, HF, HCl, HNO3, NH4, CVD燃焼排ガス, 有機・無機系ガスでNaOH薬液供給も可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東設 本社ヘッドオフィス

  • 次世代被膜『eternal carbon』 製品画像

    次世代被膜『eternal carbon』

    柔軟な素材になじむ!直流プラズマCVDで成膜できるタイル状の画期的なD…

    『eternal carbon』は、ダイアモンドとグラファイトとの間の性質を持つ タイル状のDLCです。 柔軟な素材、絶縁素材、膨張する素材への成膜が可能となり、使用用途が 飛躍的に拡大しました。 フレッティング摩耗を飛躍的に軽減し、よりエネルギー効率を良くします。 【特長】 ■被膜がタイル状でとても薄い ■金属疲労・摩耗に強い ■柔軟な素材にもなじむ ■素材の膨張に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社iQubiq 本社

  • 京セラの最新切削工具をまとめてご紹介!新製品ラインアップ 製品画像

    京セラの最新切削工具をまとめてご紹介!新製品ラインアップ

    旋削工具・ミーリング工具ともに刷新!かつてない長寿命化の実現へ

    切削工具の新製品を続々ラインアップしました! 長寿命化、仕上げ面品位の改善、びびりの抑制、超耐熱合金の課題解決… 京セラのコアテクノロジーでお客様の課題解決に貢献します。 ■鋼加工用 新CVDコーティング CA115P/CA125P コーティングと超硬母材ともに刷新。耐摩耗性と耐欠損性を高次元で両立 ■次世代 ミーリング用PVDコーティング PR18シリーズ 新開発のPVDコ...

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    メーカー・取り扱い企業: 京セラ株式会社 機械工具事業本部

  • 蒸気供給装置『VDMシリーズ』 製品画像

    蒸気供給装置『VDMシリーズ』

    高速・正確・高い再現性で効率的!配線と配管をつなげるだけで動作!分析等…

    【適用例】 ■CVD等 ■各種分析計のテスト/キャリブレーション用リファレンスガス発生用 ■毒ガス防護服の効果検査等 ■分析計(湿度計)用H2Oベーパー濃度リファレンス発生用 ■燃料電池の加湿 ■麻酔システ...

    メーカー・取り扱い企業: ブロンコスト・ジャパン株式会社

  • 台湾製ダカスト金型 製品画像

    台湾製ダカスト金型

    台湾製ダカスト金型の設計から製作までおまかせください!

     ・各種鋳造品  ・各種鍛造品 ■金型関連部品  ・超硬品  ・プレート  ・ダイセット  ・パンチ  ・ダイス ■熱処理 / 表面処理  ・各種熱処理  ・PVD  ・CVD  ・各種鍍金  ・アルマイト処理  ・塗装 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社タカギスチール 本社

  • 熱分解窒化ホウ素セラミック材料のグローバル分析レポート2024 製品画像

    熱分解窒化ホウ素セラミック材料のグローバル分析レポート2024

    熱分解窒化ホウ素 (PBN) セラミック材料―グローバル市場シェアとラ…

    イプ別、用途別の分析も行っています。 熱分解窒化ホウ素(PBN)は99.999%の純度で高密度に製造できる一種の先端セラミックです。アンモニアとハロゲン化ホウ素を高温・高真空の化学気相成長(CVD)プロセスで製造され、PBNプレートとして生産できるほか、るつぼ、ボート、コーティングなどのPBN最終製品として直接生産することもできます。 2023年における熱分解窒化ホウ素 (PBN) ...

    メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research

  • 機能材料『PG(熱分解グラファイト)』 製品画像

    機能材料『PG(熱分解グラファイト)』

    セラミックスでは実現が困難な形状が作製可能!加工性に優れた機能材料

    『PG』は、CVD法(気相成長法)で製造したグラファイトです。 半導体製造装置部品として優れた性能を発揮し、セラミックスでは 実現が困難な形状が作製できます。 また、銅と同等の熱伝導率を持ち、放熱に優...

    メーカー・取り扱い企業: 巴工業株式会社 機能材料部

  • 導電性薄膜作製装置『オスミウム・プラズマコーター』 製品画像

    導電性薄膜作製装置『オスミウム・プラズマコーター』

    電子顕微鏡観察のお悩みを解決!チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽…

    『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による 負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の 導電性薄膜作製装置です。 プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を 短時間に形成することができます。 非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを 与えることなく得られます...

    メーカー・取り扱い企業: フィルジェン株式会社

  • 石英製品 製品画像

    石英製品

    チューブ、ボート等!当社の加工技術で高度な要望に応えて更に応用分野を拡…

    と耐熱性が必要とされる半導体製造プロセスは、石英ガラスの 重要な応用分野の一つです。近年、この分野ではプロセスの自動化が進み、 ますます高精度な製品が求められるようになってきています。 CVD工程や酸化・拡散工程に不可欠なチューブ、ボート等、 当社の加工技術で高度な要望に応えて更に応用分野を拡大しています。 【石英ガラス素材】 ■石英ファイバースリーブ材 ■耐熱/耐高温クロ...

    メーカー・取り扱い企業: USTRON株式会社

  • 幹線絶縁器材『ナイスブランチ』 製品画像

    幹線絶縁器材『ナイスブランチ』

    機能性・信頼性・作業性バツグン!1台で2つの工法に対応する幹線絶縁器材

    【対応ケーブル】 ■低圧ケーブル:CV単心、CVD、CVT、CVQ ■低圧ケーブル:EM-CE単心、EM-CED、EM-CET、EM-CEQ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社浅田電機商会 東京支店

  • 切削加工『表面処理・熱処理の加工サービス』 製品画像

    切削加工『表面処理・熱処理の加工サービス』

    コストダウンを成功へ!コーティングなどの熱処理、加工、表面処理最終加工…

    (白・黒・カラー・ツヤ消し)・無電解ニッケルメッキ(カニゼン) ■熱処理(高温焼入焼戻し)各種窒化処理(タフトライド)  高周波、浸炭、サブゼロ、真空焼入れ ■コーティング(TiN・PVD・CVD・DLC等日本で対応) ■その他、特殊処理についても相談可  ・各種環境に対応した表面処理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社WTM

  • 超微粒化技術 製品画像

    超微粒化技術

    独自技術の分散方法を利用して、高機能複合素材の開発を行っています

    ナノフロンティアテクノロジーの『超微粒化技術』についてご紹介します。 CVD法やアーク放電法で製造されたカーボンナノチューブ(CNT)は、絡み合い 凝集した状態となっています。複合素材等に使用する場合には、凝集体を ほぐし、用途に応じた形状に分散させることが優れた性能...

    メーカー・取り扱い企業: ナノフロンティアテクノロジー株式会社 本社

  • 各種精密部品製造サービス 製品画像

    各種精密部品製造サービス

    切削・熱処理・研削・コーティングまでを一貫生産致します!

    鋼:HAP40、HAP10、HAP5  ・合金工具鋼:SKD11、SKS3、SKD61、SX105V 他 ■各種処理  ・焼入れ:真空・高周波・ソルトバス・浸炭・その他  ・コーティング:CVD処理・PVD処理・その他  ・その他:黒染め・チッ化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ビゼン

  • MAEDA.comプロジェクト<標準ブロック加工> 製品画像

    MAEDA.comプロジェクト<標準ブロック加工>

    信頼の絆を育み、成果を分かち合う共感力!金型製作のコストダウンと効率化…

    【オプションサービス】 ■図面バラシ対応 ■熱処理 ■3D加工、PF加工(粗加工、仕上げ加工) ■研磨加工 ■リバースエンジニアリング ■ガンドリル加工 ■各種表面処理(PVD、CVDなど) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 前田鐵鋼株式会社

  • 金属表面処理『InertMask』 製品画像

    金属表面処理『InertMask』

    酸性化合物や塩基性化合物などの金属吸着が懸念される分析計の配管部品等に…

    【仕様】 ■コーティング層:Surface functionalized amorphous silica ■蒸着方法:化学蒸着法(CVD:Chemical vapor deposition) ■最高使用温度:300℃ ■膜厚:100~200nm ■接触角:100~110° ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽に...

    メーカー・取り扱い企業: ジーエルサイエンス株式会社 分析機器事業

  • カスタムメイド装置/改造/メンテナンス/DLCコーティング 製品画像

    カスタムメイド装置/改造/メンテナンス/DLCコーティング

    お客様のアイデアを具体化して、オリジナルの装置や改造などをご提案いたし…

    までを一貫して実施 ■納入後のプロセスサポート、改造、メンテナンスも対応 ■当社製以外の装置に関する改造、メンテナンス、移設などにも幅広く対応 ■サンプル成膜用として4inch基板対応PE-CVD装置を所有 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: アイゲート株式会社 本社

  • PVDコーティング『TR-Flat』『TR-Flat2』 製品画像

    PVDコーティング『TR-Flat』『TR-Flat2』

    高硬度と高靭性を両立!プレス加工に適した摺動性に加えて、900℃以上で…

    【表面処理製品ラインアップ】 ■PVDコーティング ■CVDコーティング ■PPD(窒化処理) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: トーヨーエイテック株式会社

  • 【書籍】透明導電膜有力材料の実力とプロセス技術、実用・製品化 製品画像

    【書籍】透明導電膜有力材料の実力とプロセス技術、実用・製品化

    より低コスト、高性能な透明導電膜を<作る・使う>ための最新技術集成

     CNT 銀ナノワイ PEDOT …etc ◆ 高品質成膜、大面積、量産化目的に応じたプロセス技術  水熱法 ソルボサーマル法 大面積・量産スパッタリング ECRスパッタ法 RPD法 CVD法  ロールtoロール インクジェット法 塗布形成 エレクトロスプレーデポジション法 …etc ◆ 乾式・湿式に応じた成膜材料  ターゲット 粉末・分散液 インク ペースト  …etc...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社情報機構

  • 機能材料『PBN(熱分解窒化ホウ素)』 製品画像

    機能材料『PBN(熱分解窒化ホウ素)』

    少量・試作品から対応可能!蒸着用ルツボに適した機能材料

    『PBN』は、CVD法(気相成長法)で製造した窒化ホウ素です。 高純度で高耐熱性に優れ、不純物の混入を嫌う工程で、 優れた性能を発揮します。 当製品は、反応性が低く、蒸着用ルツボに適しています。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 巴工業株式会社 機能材料部

  • 卓上オゾン排気ドラフト 製品画像

    卓上オゾン排気ドラフト

    卓上ドラフト内にUV/O3 装置やプラズマ装置を設置することで、オゾン…

    設置場所は振動無きこと 使用上の注意 ・本製品はオゾンガスの分解用です。下記のガスの混合は燃焼・爆発もしくは触媒毒の危険性がありますので絶対に避けてください。 ・ 可燃性ガス、シラン系ガス、CVD 排ガス等 ・ 金属化合物等が含まれるガス(Si,P,As,Hg,Pb 等の化...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エキシマ 横浜ラボ

  • パーティクルフリー・水素フリーDLCコーティング(TAC) 製品画像

    パーティクルフリー・水素フリーDLCコーティング(TAC)

    室温成膜で、高硬度・高密着・優れた耐摩耗性を実現!不純物を除いてコーテ…

    FCVA方式による水素フリーのDLC膜(ta-C)は、既存のPVD方式やCVD方式と異なり、 電磁フィルターにより不純物を除くため、パーティクルが少なく、優れた密着性と高い耐摩耗性を実現します。 また室温での成膜が可能なため、樹脂等の低融点材料、セラミック、ゴム等の...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン

  • 薄膜蒸着装置 製品画像

    薄膜蒸着装置

    マグネトロン、イオンビームなど!さまざまな薄膜蒸着ソリューションから選…

    れた信頼性、および グローバルなサービスとサポートを通じて、一貫した再現性のある 結果を提供する「薄膜蒸着装置」を取り扱っております。 蒸着、熱蒸着、マグネトロン、スパッタリング、PE-CVD、イオンビームなど、 幅広い材料とアプリケーションに対応するさまざまな薄膜蒸着ソリューション から選択可能。 また、海外半導体製造装置メーカーの代理店として、新品半導体製造装置 売買お...

    メーカー・取り扱い企業: TST SEMICONDUCTOR株式会社

  • マトリックス冷間ダイス鋼『DCMX』 製品画像

    マトリックス冷間ダイス鋼『DCMX』

    金型性能と金型の作り易さを兼ね備えた高性能鋼のご紹介です

    【主な用途】 ■冷間プレス、冷間鍛造などのパンチ・ダイおよび冷間加工用金型部品 ■型カジリやTD、CVD皮膜の剥離が課題である場合 →ハイテン鋼のプレス型など ■熱処理変寸・変形が課題である場合 →入子ブロックを組み合わせるプレス型など ■割れ・欠け等が課題である場合 →トリム切り刃、抜き...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社竹内ハガネ商行 本社

  • 高周波電源『T857シリーズ』 製品画像

    高周波電源『T857シリーズ』

    高信頼設計の高性能高周波電源

    『T857シリーズ』は、オール・ソリッドステート・タイプの 高性能高周波電源です。 プラズマ・エッチング、RIE、プラズマCVD、RFスパッタリング等の 各種プラズマ処理に適します。 また、当シリーズの出力インピーダンスは公称50Ωですが、各種保護回路 により広範囲な負荷及びショート,オープン等の過酷な運用にも ...

    メーカー・取り扱い企業: クリエート・デザイン株式会社 クリエート・デザイン株式会社

  • 精密洗浄サービス 製品画像

    精密洗浄サービス

    ICおよび半導体製造装置メーカーに対して信頼性の高いサポートを提供しま…

    当社は、上海に長年の経験を持つ先端技術と信頼性の高い オペレーションチームを有しており、8インチ、12インチのファブ、 PVD/CVD/ETCH/IMPLA NT等のプロセスに対して、安定した洗浄技術を 提供することが可能です。 10の主要な精密洗浄および表面処理ライン (溶射、プラズマ溶射、14nm精密洗浄、陽極酸化...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンファインマテリアル株式会社

  • ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像

    ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

    ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

    縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置 製品画像

    スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

    省スペースで大容量!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!

    ング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。 【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュー型攪拌機構 ※詳しくはPD...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 原子層堆積(ALD)装置 製品画像

    原子層堆積(ALD)装置

    豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

    コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...

    メーカー・取り扱い企業: ALDジャパン株式会社

  • 防着板・シールド・治具のクリーニング 製品画像

    防着板・シールド・治具のクリーニング

    社内工数の低減、コストダウンに!CVD・PVD・DLC各種コーティング…

    当社は、50周年を迎えブラスト加工を軸に付随した加工を 溶射・ドライアイスブラスト・部品製作をしております。 お預かりする品物の形状や品質要求に応じたブラスト機を 各種取り揃えていますので、様々なご要望にお応え。 ブラスト加工においては、特に精密部品の加工を得意にしており、 精密部品には、半導体・FPD関連・真空装置部品・ 各種コーティング装置部品から金型や薄物部品などの加工を...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社東洋ブラスト工業所

  • GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置 【無料デモ実施中!】 製品画像

    GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置 【無料デモ実施中!】

    ドライ洗浄により冶具が長持ち・コスト削減!ウェット洗浄に比べて大幅な時…

    GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置はMO-CVD装置の冶具などの成膜時に堆積するGaNやAlN等をドライエッチング方式で洗浄する装置です。 パワーデバイス、レーザーダイオード等の化合物・半導体や青色LEDの製造に最適。製造時の製品歩留まりの向...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社メープル

  • 半導体製造装置保守メンテナンストータルソリューション 製品画像

    半導体製造装置保守メンテナンストータルソリューション

    主要前工程装置用の高額パーツ・電源・真空ポンプ等々を修理 / 再生 /…

    〔特徴〕 ・CMP、イオン注入、CVD、スパッタリング、フォトリソグラフィー、エッチング等主要前工程装置に対応 ・ディスコン品への対応、修理 / 改善品提案 ・老朽化装置の延命対策の提案 ・現地取り外し、取り付けに対応...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル

  • 特殊炭素製品「半導体製造用 CZ装置」 製品画像

    特殊炭素製品「半導体製造用 CZ装置」

    各種熱処理用パーツの加工などに対応!先端産業向けに広く貢献しております…

    【加工部品】 ■シリコン単結晶、多結晶用引揚炉用部品 →ヒーター・坩堝・カーボン断熱材  カーボンフェルト・C/Cコンポジット部品 他各種部品 ■プラズマCVD用部品 【特殊炭素製品ラインナップ】 ○半導体向け ○熱処理用 ○溶解炉用 ○ガラス向け ○冶金向け ○歯科用 ○ホットプレス ○燃料電池向け ○電解用 ○放電加工用 ...

    メーカー・取り扱い企業: 穴織カーボン株式会社

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表示件数
45件
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