資料『次世代半導体の今を説く～SiC・GaN解説～』【進呈中！】

PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに！

エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で 従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。 その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。 次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。 技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく！ ...

メーカー・取り扱い企業： ジェルグループ【株式会社ジェルシステム／株式会社ナカ アンド カンパニー】

解説資料 開発元監修『見積段階から機械動作を可視化する3D構想』

PR複雑する装置仕様を見える化！受注率UPと手戻り削減に貢献する3DCAD…

機械設計向け3次元CAD「iCAD SX」の開発元が監修しました。 複雑化する装置仕様の摺合せが難しい理由や問題点を洗い出し、 "装置仕様（動き）の可視化"について解説した資料を無料進呈中です。 　【資料概要】 　　■製造業を取り巻く環境と、装置の複雑化 　　■仕様説明時における取組と課題、目指す姿 　　■打ち合わせ初期から一連の動作フローを可視化する効果 　　※ 本ページのPDFダウンロード...

メーカー・取り扱い企業： i CAD株式会社 - 機械設計向け3DCAD（3次元CAD）開発元 -

粉体試料の合成に好適 SiC製容器対応 Monowaveシリーズ

小～中規模の合成（有機・無機）用のリアクターです。反応容器のオプション…

うすればいいでしょうか？ Q : 合成時に使用している溶媒がマイクロ波の吸収がなく、急速合成できない場合はどうすればいいでしょうか？ A : アントンパールには　反応容器に炭化ケイ素（SiC）容器　があります。 　炭化ケイ素（シリコンカーバイド）製の容器はマイクロ波エネルギーを効率的に吸収し、内部をマイクロ波放射から保護します。これにより、マイクロ波は容器を直接加熱し、試料（固...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン

SiC[傾斜]皮膜 / SiC Gradient Coating

境界のないコンバージョン型のSiC皮膜！黒鉛基材とSiC皮膜との結合が…

SiC傾斜皮膜 (SiC Gradient Coating)は、黒鉛表面を化成処理することで得ることができる「境界のない」SiC皮膜です。 黒鉛基材とSiC皮膜の結合が強固になっています。 表面はSiCの優れた特性を発揮しつつ、熱的・機械的負荷におけるSiC皮膜を防止できます。 用途としては・・・ 　⇒　従来の黒鉛材の酸化防止に 　⇒　従来の黒鉛材の耐摩耗性向上に 　⇒　SiC部材の...

メーカー・取り扱い企業： SGLカーボンジャパン株式会社

高温炉 SiC ビーム加熱式 最高温度1550 °C

垂直に吊り下げられた SiC ロッドによって加熱されるため、最高温度 …

高温炉033A 16/16 – 033A 450/16は縦掛けSiCビームで加熱され、特に最高温度1550℃までの焼結プロセスに適しています。またジルコニア焼結などの特定のプロセスには、二珪化モリブデン製の発熱体より、チャージと相互反応しないSiCビームの方が適切...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

窒化ガリウム（GaN）、SiC（炭化ケイ素）ウェハー

当社は6インチSiC基板ウェーハ、6インチGaN-on-Si HEMT…

チGaN-on-Si HEMT RFエピウェーハ、6インチGaN-on-Si HEMT Dmodeパワーエピウェーハ 、6インチGaN-on-Si HEMT Emodeパワーエピウェーハ、6インチSiC基板ウェーハ、SiC基板ウェーハ（直径150mmのn型基板）など 研究開発実験用品に適しています 。コスパに優れています。...

メーカー・取り扱い企業： インターケミ株式会社

最大1600℃の電気炉向けヒーター｜SiCヒーター（炭化ケイ素）

800℃～1600℃での高温使用が可能！ガラス製造、熱処理など、電気炉…

「SiCヒーター（炭化ケイ素発熱体）」は、800℃～1600℃での高温使用が出来るヒーターです。 単位面積当りの発熱量が大きく、短時間の昇温が可能です。 金属工業、電子工業、化学工業、窯業、開発試験用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

SiCインラインヒーター ACCUHEAT

SiCインラインヒーター ACCUHEAT

HF/KOH/溶剤等の昇温に最適 SiCインラインヒーター 【特徴】 ○IMTEC社製 ○フッ酸・アルカリ液（KOH、TMAH）対応 ○SiCチューブを使用 ○ヒーターを直接貼ることにより、 　 最適な効率で高精度な温度...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒロテック 東京営業所

高温簡易雰囲気電気炉(SICヒーター) FT-1700-SIC

拡張性に優れた加熱実験用電気炉。CADによる標準設計、標準部品の採用、…

最大1650℃・常用(RT→1600℃)までのN2/Ar/O2/Air雰囲気が手軽に実現！ 各種オリジナルパーツ開発・一貫生産によるコストダウンによる低価格・高性能が実現！ オプション選択で酸素分圧の測定が出来、酸化雰囲気及び還元雰囲気におけるPO2調整することで最適値での安定した各種実験が可能。各種実験に対応している。 16プログラム×16セグメントの大容量を持つ高性能プログラム・...

メーカー・取り扱い企業： フルテック株式会社

常圧焼結SiCセラミックスガス炉用チューブ『CERASIC-B』

1400°C以上でも強度劣化がなく、安定して使用することが可能

『CERASIC-B』は、金属製では使用できない1400°C以上の高温域でも 強度劣化がなく安定して使用することが可能な、常圧焼結SiCセラミックスです。 これによりセラミックラジアントバーナー用チューブや 熱電対用保護管などがあります。 セラミック材料の中では最大クラスといえる1mを超える大型サイズ (プレート：...

メーカー・取り扱い企業： クアーズテック株式会社

炭化珪素セラミックス（SiC）

価格競争力の高い、反応焼結による炭化ケイ素セラミックス（Si-SiC)…

価格競争力の高い、反応焼結による炭化ケイ素セラミックス（Si-SiC)の製品を中心に販売しております。 弊社の協力会社である中国セラミックスメーカー製品を日本のお客様に安価で日本の品質を保持した製品を提供させていただきます。 特に長尺品においては長さ３メー...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社モルージ

『シリコンカーバイド(SiC)製品』

耐熱、耐メディア、耐摩耗、超硬度、防弾を備えたセラミックス製品！ポンプ…

『テクニカル・セラミックス』は、耐熱、耐メディア、耐摩耗、超硬度、 防弾の価値ある特性を兼ね備えています。 “IntrinSiC”は当社の革新的生産ソリューションで、かつてはその複雑さと サイズのせいで不可能だった部品を3D印刷技術でシリコンカーバイドから 製造することを可能にしています。 主な製品例として、大き...

メーカー・取り扱い企業： シュンク・カーボン・テクノロジー・ジャパン株式会社

受託加工『CVD-SiCコーティング』

高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC

『CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた 半導体特性を持つ薄膜です。 当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、 高純度のSiC膜を最大2mm以上析...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターフェイス

高温管状炉 SiC棒状発熱体 ガス雰囲気または真空

■　最高温度1500℃ ■　ステンレス圧延板の本体 ■　高品質のフ…

＜説明＞ ■　シリコンカーバイド棒状発熱体による卓上管状炉はスイッチ装置および制御器を内蔵し、多様なプロセスへの汎用的な利用が可能です。 ■　交換が容易な作業管と、シリーズで取り揃えられた付属品との構成により、広範な応用範囲へのフレキシブルな適用が実現します。 ■　高品質のファイバー断熱材は短時間での昇温と冷却を可能にします。他方、作業管に平行して取り付けられたSIC棒状発熱体は優れ...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

SiCインパルス発生器

高周波時代の絶縁試験機に好適！高電圧・高速のSiCインパルス発生器をご…

当社が取り扱う『SiCインパルス発生器』をご紹介します。 インバータモータ巻線などの絶縁試験、ナノプラズマ高繰り返し 放電を用いた表面改質、ソリューションプラズマ(液中プラズマ)を 用いた有害物質の分解などに...

メーカー・取り扱い企業： ネクスファイ・テクノロジー株式会社

『SiCセラミック熱交換器』

高温域や酸露点以下の低温腐食環境下でも使用可能！高熱交換効率を実現！

『SiCセラミック熱交換器』は、常圧焼結SiCセラミックス「CERASIC-B」を チューブに用いており、金属製では使用できない高温域や酸露点以下の 低温腐食環境下での使用が可能です。 また、「...

メーカー・取り扱い企業： クアーズテック株式会社

炭化珪素発熱体（SiC) 　カンタル・グローバ

発熱体温度1000℃〜1650℃。高品質な炭化珪素発熱体

カンタル　グローバSD（炭化珪素発熱体：SiC）は600℃〜1600℃（炉内温度）での 使用に適した高品質な抵抗発熱体です。 □■特徴■□ ○既存の炭化珪素発熱体と完全な互換性がある上に、 さらなる長寿命が期待できます。 ○...

メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

高温炉 SiC ビーム加熱式 1400℃～1600 °C

周期的な動作での棒状シリコンカーバイト発熱体の安定性と短期の昇温時間の…

面が操作者側 　に向かない上下スライド扉タイプ（B）の選択が可能 (010B01/.. リフトド 　アタイプのみ) ＊調整可能な空気取入れ口は炉のドアに、そして排気口は天井部に配備 ＊棒状SiCに調整された半導体リレー付きスイッチ装置 ＊容易な棒状加熱体の交換 ＜付属装置＞ ＊手動リセット付き過熱制御器、EN 60519-2の熱保護クラス2準拠で炉と試 　料の過熱保護 ＊3...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

炭化ケイ素 (SIC) 電気発熱体の世界市場シェア2024

炭化ケイ素 (SIC) 電気発熱体の世界市場：メーカー、地域、タイプ、…

グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界の炭化ケイ素 (SIC) 電気発熱体の供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国における炭化ケイ素 (SIC) 電気発熱体の販売量と販売収益を調査しています。同時に、炭化ケイ素 (SIC) 電気発熱体の世界主要メーカー（ブランド）、市場シェア、売上、価格、収入、および収入の...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

Corning G1リアクター/G1 Reactor

【有機合成・製薬・化学反応】少-中量生産及び量産プロセス開発用

許取得済みのハート型デザイン - 小さい内部容積 - 高い滞留時間 - 高い柔軟性と多目的性 - 高い化学的耐久性 - Fhoto(UV照射)のライトモジュールとの互換性 - ガラスとSiCのハイブリッドソリューション - 他のAdvanced-Flow Reactors製品とのシームレスなスケールアップが可能 ■Reactorの構成 リアクターは多目的に使用でき、構成をカスタ...

メーカー・取り扱い企業： 和光化学株式会社

高温台車炉 1550℃

炉内は軽量耐火煉瓦による多層断熱構造になっており、堅牢な構造で、重量物…

＊工業セラミックスの製造、品質検査、特に運転温度 1550 ℃ までの焼結に 　は、 SiC 棒状発熱体を装備した高温台車炉が最適です。 ＊50OU036 シリーズの炉は特に堅牢な構造で、重量物の運搬補助付きのた 　め、大型の試料に適しています。 ＊台車炉の高温炉室内は軽量耐火レン...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

マイクロ波合成リアクター Monowave 200

モノウェーブ200は、小規模から中規模のマイクロ波合成（有機合成・無機…

マイクロ波加熱は「局所」を「選択的」に「迅速」に加熱する特性を有します。マイクロ波吸収性の極性基を持つ被反応物は直接加熱されます。 サンプル容器には、標準のガラスバイアルと並んで、炭化ケイ素（SiC）容器も選択が可能です。炭化ケイ素（シリコンカーバイド）製の容器はマイクロ波エネルギーを効率的に吸収し、内部をマイクロ波放射から保護します。これは、選択的吸収によって引き起こされるマイクロ波効果を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

【UHV対応 真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお…

３種類のサイズ（Φ1, 2, 4inch）、豊富なヒーター素線バリエーション（Kanthal, Graphite, C/C Composite, SiC coating, W）、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ● 取り扱いが簡単（M6スタッドボルト、支柱） ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8インチウェ…

『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

C/Cコンポジット 【SIGRABOND/SIGRASIC】

SGLの高強度&高剛性C/Cコンポジットで軽量化が可能です！ガス浸炭や…

ます。 『SGLカーボンはC/C製造において・・・』 繊維から完成部品に至るまで、あらゆる C/C 製造工程をカバーしている唯一のメーカーです。 『油焼入れにはSIGRASIC C/SiCを・・・！』 C/Cに溶融シリコンを含浸して製造したSIGRASIC C/SiCは、構造が密な材料です。 気孔率が低く、油焼入れにおいても炉内汚染などの問題は発生しません。...

メーカー・取り扱い企業： SGLカーボンジャパン株式会社

実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2022」

電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用 最新の高温基板…

e-TE」セミオート式超高温卓上型実験炉Max2000℃ ◉「MiniLab-CF」超高温実験炉Max2900℃ ◉「Mini-Lab-WCF」超高温ウエハーアニール炉Max2000℃ ◉ SiC3立方晶炭化珪素コーティンググラファイト部品 ◉ BH基板加熱ヒーター：...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高温管状電気炉( チューブ炉 )1200℃～1600℃

研究開発・実験用　高温管状炉 最高温度1600℃ 標準横型、オプ…

仕様: カンタルワイヤー発熱体 ■　セラミック管に巻き付けられたワイヤー発熱体は、耐火セメントで固定され、繊維ブランケットに埋め込まれます。 ■　最高1400℃-1500℃-1600℃仕様: SiC発熱体 ■　作業管に平行して設置されたSiC発熱棒は 作業管に平行に設置されているため、温度の均一性に優れており交換が容易 ■　グレーの塗装で金属板の外側ケーシング ■　炉の下側に搭載される...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

アルミ手許溶解保持炉『アルキープ』

酸化物が激減！省エネ・省スペース設計のアルミ手許溶解保持炉をご紹介

『アルキープ』は、独自設計「溶湯プール部」で、アルミ手許溶解保持炉の 理想機能を実現したベストセラーモデルです。 溶解室で溶湯を昇温し、溶湯は常にクリーン。 SiC溶湯フィルターでは20μまでの介在物を95％以上除去でき、 自動ノロ掻き装置は溶湯表面の酸化皮膜を鋳造サイクル毎に自動で除去し、 鋳造品質向上に貢献します。 【特長】 ■溶解室で溶湯を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＴＯＫＡＩ

トレイ・プッシャー型高温焼結炉

製品の挿入・抽出部に二重扉方式を採用！トレイ・プッシャー型高温焼結炉 …

■設備電力　：100kVA～210kVA ■温度　　　：焼結ゾーン　　1250℃～1350℃　　 　　　　　　　Moヒータ　Max. 1,350℃（特殊仕様：1,500℃） 　　　　　　　SiCヒータ　Max. 1,250℃ ■雰囲気ガス：AXガス、N2+H2ガス...

メーカー・取り扱い企業： 三菱マテリアルテクノ株式会社

取鍋電気加熱装置『ELEMAX(エレマックス)』

デモ機無償貸し出し中！SiCヒーターを用いた取鍋電気加熱装置

『ELEMAX(エレマックス)』は、SiC(炭化ケイ素)ヒーターを用いた 取鍋電気加熱装置です。 エネルギーコスト低減が可能。一般的な鋳鉄1トン取鍋を内面1,000℃まで 加熱した場合、当社実験では1,700円程度を実現しました...

メーカー・取り扱い企業： 日本ルツボ株式会社

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。 立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。 当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて 装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC

太陽電池作製装置（Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置）

高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバー...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

小型ボトムローディング炉『OSK 97TG 14BL』

好適な温度制御！RS485ポート、USBアダプタを内蔵し、コンピュータ…

『OSK 97TG 14BL』は、最高温度が1,400℃で常用最高温度が 1,300℃の小型ボトムローディング炉です。 YUDIAN社製マイクロプロセッサーによるセルフチューニング PID制御により、好適な温度制御が可能。 電圧は220Vもしくは380Vで、電力は3～6KWとなっており、 発熱体はSIC Rodです。 【特長】 ■エレガントなデザインの一体型構造 ■チャ...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

今さら聞けないめっきとは？漫画でわかる解説資料進呈中

オジックテクノロジーズの『無電解Agめっき』はSiCパワーデバイスに対…

マンガで簡単に解説！ めっきと言っても、さまざまなめっき処理があります。 求められる用途や環境、処理する素材によって、どのめっき処理がいいかなどは迷うものです。 『無電解Agめっき』は、SiCパワーデバイスに対応した オジックテクノロジーズの技術です。 従来の技術では、高温環境下での動作の不安定さや、デバイスの 高性能化に対応できない問題点があり、SiCパワーデバイスなどに ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オジックテクノロジーズ

炉床昇降式電気炉（生産炉）【バッチ式脱脂焼成炉】

炉床昇降式電気炉（生産炉）【バッチ式脱脂焼成炉】

きる ■使用雰囲気はヒーターと断熱材の組み合わせによりエアー、 窒素、水素、酸素、アルゴン、ヘリウム等に対応が可能 ■使用ヒーターはニケイ化モリブデンヒーター、モリブデン、 タングステン、SiC、カンタル、ニクロム、グラファイト、 シーズヒーターと多彩で、多方面の使用に対応 ■常用/最高温度：1600℃/1700℃ ■ヒーター：ニケイ化モリブデンヒーター 排気ガス脱臭装置、プログ...

メーカー・取り扱い企業： 丸祥電器株式会社

GaN成膜装置治具用ドライ洗浄装置「MDC8540L」

【無料デモ実施中！】新開発・高性能設計で大幅なコストダウンを実現！作業…

ズのフラッグシップモデルです。 量産時の製品歩留まりの向上、ランニングコスト削減に最適です。 【特徴】 ■GaN、AlN成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適 ■洗浄可能治具は、SiCコートカーボンサセプター、石英治具等 ■ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 ■ウエット洗浄や、大量の予備部品不要 ■本装置導入による、メンテナンス費用の削減 ■作業者に負担のかからない...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル

カスケードポンプ『FKF型シリーズ』

小型で軽量、装置組込も容易なFKF型シリーズをご紹介！

【仕様】 ■口径：20×20mm～32×32mm ■吐出量：5L/min～86L/min ■全揚程：10m～50m ■軸封方式：メカニカルシール方式（セラミック×カーボン、SiC×SiC） ■モーター極数：4P（1450min-1/50Hz　1750min-1/60Hz) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社丸八ポンプ製作所

横型管状炉【温度勾配炉】

温度勾配600℃/800mm！横型管状炉【温度勾配炉】

ログラム加圧制御等の高精度な雰囲気制御などの オプション仕様もラインナップ ■炉内寸法：Ф42mm×L1000mm (炉芯管：アルミナチューブ) ■常用最高温度：1600℃ ■ヒーター：SiCヒーター、ニケイ化モリブデンヒーター 横型5ゾーン制御、温度勾配600℃/800mm ■詳細は、お問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 丸祥電器株式会社

1,400℃回転式管状炉『OSK 97TG 14RT』

発熱体は高品質炭化ケイ素棒ヒーター(SIC)！高品質の石英ガラス管を使…

『OSK 97TG 14RT』は、炉管は360°回転させ、速度調節することが できる回転式管状炉です。 回転チューブにより、加熱均一が可能で、高真空シールフランジ、 ガス出入口ポート付き。高品質の石英ガラス管を使用。 また、セラミックファイバーライニングボード、HREヒーター ワイヤー内蔵で、最高温度は1,400℃でございます。 【特長】 ■回転チューブにより、加熱均一 ...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

連続炉『電気加熱式ローラハースキルン（特殊雰囲気・大気）』

各種雰囲気ガスに対応可能！ローラを炉床に有する迅速焼成連続炉

『電気加熱式ローラハースキルン（特殊雰囲気・大気）』は、ローラを炉床に有する迅速焼成連続炉です。 ローラは焼成温度により、ステンレススチール製、セラミック（ハイアルミナ）製、SiC製などが用いられ、インバータ制御の駆動装置によって回転します。 被焼成物は回転するローラ上を予熱帯、焼成帯、冷却帯と進んで焼成されます。 製品の形状や寸法によっては耐火物のセッタに載せます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 高砂工業株式会社

1,400℃チャンバー式マッフル炉『OSK 97TG 14CM』

最高温度は1,400℃！発熱体は高品質炭化ケイ素棒ヒーターを使用してお…

『OSK 97TG 14CM』は、高温熱処理も可能なチャンバー式マッフル炉です。 SHIMADENマイクロプロセッサーによるセルフチューニングPID制御 により、好適な温度制御が可能。 発熱体は、高品質炭化ケイ素棒ヒーター(SIC)で、チャンバー材料は 高温1500タイプ多結晶アルミナセラミック繊維材料となっております。 【特長】 ■エレガントなデザインの一体型構造 ■チ...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

黒鉛製品・グラファイト製品・カーボン製品

特殊炭素材料押出材・CIP材を用途に合わせて加工・コーティングした製品…

【製品例】 ○特殊炭素製品ノズルにSiC系耐酸化コーティング →特殊炭素製品ノズルにホワイトアルミナ溶射 ○黒鉛（カーボン）吹き込み管 →先端にポーラス（多孔質）カーボンノズル装着 ○特殊炭素製品（CIP・等方性黒鉛） →カー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本鋳造技術研究所

1,400℃低真空雰囲気炉『OSK 97TG 14LVC』

高速加熱、安全性と爆発防止を確保！高真空炉よりもはるかに費用対効果が高…

『OSK 97TG 14LVC』は、温度均一性に優れている低真空雰囲気炉です。 高速加熱、安全性と爆発防止を確保し、正確な温度制御と 優れた断熱性といった特長が備わっております。 また、容積は8、12、18、36、45、64Lと6パターンがラインアップし、 発熱体は高品質炭化ケイ素棒ヒーター(SIC)です。 【特長】 ■気密性と保温性が向上 ■雰囲気制御が可能、最大真空度...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

ME-5000　枚葉式スピンエッチャー　

ウエハ300mm、両面処理対応型メカグリップの枚葉式スピンエッチャーで…

『ME-5000』は、シリコンウエハ300mm/８.6.4インチ、８.6.4インチSiC及びGaNウエハ対応型メカグリップの枚葉式スピンエッチャーです。 エッチングチャンバーの上下可動方式で２本のアームによる動きは旋回、上下運動が可能です。 洗浄部カバー内に気流を作り、薬液は酸系...

メーカー・取り扱い企業： マック産業機器株式会社 テクノロジーセンター