CVD | イプロスものづくり

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。ご用命の際...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

ミストCVD　Mistic（ミスティック）

燃料電池向け金属セパレータに最適な高耐食性・高導電性酸化膜

<特長> 大気中で成膜できるシンプルで高機能な CVD被膜...

メーカー・取り扱い企業：アイテック株式会社

プラズマCVD装置

PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）の形...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option：MaxΦ6inch ・0...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

CVD装置向けモジュールヒーター

CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...

メーカー・取り扱い企業：アレイマジャパン株式会社カンタルカンパニー

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

Zウェーハ成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-S...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エナテック東京本社

ウエハースケールグラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

各種成膜・アニール装置

ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置

大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置やランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。【特長】 ■ニーズに合わせた設計・製作 ■成膜装置やランプ加熱によるアニール装置 ■多様なライ...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中

除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！高温…

ITZグループの一員である当社は、⽇々進化するエレクトロニクス産業おいてタイムリーな提案こそがお客様にとっての価値と考え、新製品開発とサービス向上に取り組み、お客様と共に成⻑を⽬指します。 CVDやMOCVDの後段、除害装置の前段での副生成物の堆積に起因するトラブルにお悩みではないでしょうか。 KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー

ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF

ホットフィラメント（ホットワイヤー）を搭載したコンパクトな卓上型CVD…

試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。ガス分解により生成された活性種（ラジカル）が試料表面に堆積して膜を形成します。...【特徴】 ○メタンなどの炭化水素ガスの高温フィラメント分解により、導電性と耐食性が両立するダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜が作製可能。 ○窒素前駆体をフィラメント加熱機構により加熱分解させることによって、アンモニ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マイクロフェーズ

成膜 ⇔ エッチング装置『210D』

簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可。ご要望に応じて…

お使いいただける、誘導結合プラズマによる成膜装置です。十数分の時間でハードウエアを交換し、誘導結合プラズマエッチング装置として使用する事が可能。現場でのハードウエアの交換で、CVD及びRIEとして使用できる為、導入コストを抑える事が出来ます。【特長】 ■簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可 ■グラフィックインターフェイスで操作が簡単 ■ご...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

石英管洗浄装置(HTC/VTCシリーズ)「薬液、純水削減に貢献」

縦型洗浄装置(VTCシリーズ)は省スペースで「薬液・純水削減」に貢献。…

「HTC／VTC」シリーズは、拡散工程・CVD工程・アニール工程で使用される石英管の洗浄を目的とした石英管洗浄装置です。【特徴】 ■石英管の形状・洗浄用途に合わせた装置ラインナップ　・6インチ・８インチ・１２インチプロセス用の...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

ど、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） ■低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ■高アスペクト比の穴埋めに適用 ※詳しくはPDFダウンロー...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

各種熱処理装置

半導体や太陽電池の生産・研究開発設備！独自の高温処理技術による高温熱処…

大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および研究開発向けに提供します。主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、横型CVD装置・LC6400シリーズなどもライン...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

PIG式 DLCコーティング装置

優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…

『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる高密度プラズマCVD装置です。スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティング

PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC（ダイヤモンドライクカーボン）コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜（～ 5μm）が可能なため、抜群の耐久性を...

メーカー・取り扱い企業：ナノコート・ティーエス株式会社石川事業所

簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat

弊社にてデモ可能！市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるＳｉＯ２製膜を大気圧下で行えます。厚みは処理条件によりコントロール可能。（速度、液量、距離など）今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

ミューコム　MO-CVDコンピュータ制御システム

デジタル入出力信号やアナログ入出信号をＬＡＮにより制御することにより高…

各種半導体薄膜製造装置の制御をパソコンにて行うシステムです。デジタル入出力信号やアナログ入出信号をＬＡＮにより制御することにより高速制御とデータの保存を可能にしました。...【特徴】 ○LANによるアナログ入出信号制御 ○LANによるデジタル入出力信号制御 ○高速制御とデータの保存を可能 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ミューコム

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

資料進呈『表面処理薄膜コーティングに関する技術資料』

素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中！各種…

東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

半導体製造装置　自動石英管洗浄装置

【デモ機貸し出し可能！】石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さ…

ウエハーは製造工程に使用される石英管のクリーン度が、製品の品質に大きく影響します。したがって、拡散工程やCVD工程及びアニール工程で使用される石英管の洗浄は重要なポイントです。ジャパンクリエイト社は長年に及ぶ経験と実績から、御客様のニーズにあった石英管洗浄装置を提供致して居ります。方式は横型式と縦...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

表面処理サービス

食品関連・工業用途など幅広い分野に対応します！

当社では、コーティング・ライニング・ハードコ－ティングなどの表面処理を行っております。フッ素樹脂や無機系、プラズマCVDなど様々な処理に対応が可能です。まずはお気軽にお問い合わせください。【処理の種類】 ■コーティング（フッ素樹脂,無機系,プラズマCVD,低温PVD） ■ライニング（フッ素樹...

メーカー・取り扱い企業：日信テクニクス株式会社

スパッタリング・成膜・エッチング・受託加工

約120種類のターゲット在庫早見表付き！スパッタリング、蒸着、CVDと…

【特徴】 ○豊富なターゲット在庫（約120種類）や成膜（スパッタリング、蒸着、CVD）、エッチング（ドライ、ウェット）加工ノウハウを蓄積 ○半導体・FPD・MEMS・太陽電池などの試作の受託 ○開発コスト削減 ○スピーディーな研究開発を実施 ○少量生産にも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社協同インターナショナル

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

【その他の特長】 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

DLCコーティング装置

広範な膜特性の制御可能！基板加熱源は水冷型と加熱型から選択いただけます

『DLCコーティング装置』は、豊富な蓄積データを有し、優れた膜厚分布および再現性を実現します。成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能。半導体をはじめ、電子部品や光学部品、車載部品などにご利用いただけます。また、マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作できます。ご用命の際はお気軽...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

ダイヤモンド工具研磨盤『DTP-300AX型』

単結晶ダイヤモンド工具の専用機！吸収性を高めた鋳物構造の本体に超精密エ…

『DTP-300AX型』は、単結晶ダイヤモンドバイトのすくい面や逃げ面の面加工及び刃付けに使用するダイヤモンド工具研磨盤です。 CVD薄膜単結晶ダイヤモンドの面加工にも使用可能。スカイフ上面は高速回転でも極めてフレが小さく、単結晶ダイヤモンドバイト刃先の正確な面加工や刃付けができます。【特長】 ■吸収性を高...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イマハシ製作所東京営業所

【MPCVD】単結晶ラボグロウンダイヤモンド

商業的使用に好適！非常に安定性があり、予測可能な特性と挙動を持っていま…

ダイヤモンドエレメンツは、幅広い用途に利用されている単結晶ダイヤモンド製品の製造において、世界でも早いCVD会社の一つです。マイクロ波プラズマ化学気相成長法(MPCVD)は、80年前から実用化されてきて、ここ7-8年で顕著なプロセスになってきました。 MPCVDは、純粋で高速なダイヤモ...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

有機EL用蒸着装置

プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択で…

に応じて、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択できます。【特長】 ■基板サイズは最大□300mm対応 ■蒸着セルは各種材料・サイズから選択可能 ■CVD室、スパッタ室等との組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

日新技研社　単結晶育成装置　総合カタログ

日新技研社〜単結晶育成装置〜総合カタログ　無料配布中！

ております ◆◆掲載製品◆◆ 　　○トランジスタインバータ　　○酸化物単結晶引上装置　　○自動直径制御装置　　○μ-PD装置　　○超小型単結晶引上装置　　○SiC-CVD装置　　○Gap.InP高圧合成装置　　○高温アニール装置　　○SiC単結晶成長装置 ◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆...

メーカー・取り扱い企業：日新技研株式会社

多元スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…

『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、均一な膜厚分布を実現します。【特長】 ■当社独自のスパッ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

真空蒸着

蒸着加工を中心とした各種様々な工法により薄膜の製作が可能です（スパッタ加工・メッキ加工・メタライズ加工・PVD.CVD法等も取り扱っております）またフォトエッチング加工・リフトオフ・マスク加工あるいは精密スクリーン印刷法等の手法を用いて　複雑・微細なパターンの製作も致します。ガラス、金属、樹脂フィルム（ペット...

メーカー・取り扱い企業：伸和商工株式会社

パルスレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

乾電池関連金型

乾電池用などの深絞り金型に！ぜひ"超硬製品"をお使いください

が維持されるので様々な条件での使用に耐えます。この分野に長い経験を有する当社の「超硬製品」をぜひお使いください。【製品例】 ■乾電池用金型（DLCコート） ■乾電池用金型（CVD TiCNコート） ■乾電池用金型（CVD TiCNコート）磨き処理品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：瑞穂工業株式会社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

グ法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

真空成膜装置・高真空装置

お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置

真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デジタルイメージでは、長年薄膜素材の評価装置として定評のあるVINCI社の製品を取...

メーカー・取り扱い企業：西華デジタルイメージ株式会社

クリエイティブコーティングス『気相技術』

ワーク材質や膜種、膜厚から、弊社がご提案する技術や加工例をご紹介！

ディスプレイなど『モバイル端末』『ウェアラブル機器』『オートモーティブ』など多様な分野で活用されています。また、多様なプロセス・膜厚・膜種で1nm～1000nmの成膜を実現。蒸着方式やCVD方式、ALD方式、スパッタ方式でコーティングしています。【特長】 ■ALDロボットCVA series 　ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能 ■バレル型ALDロ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

MEMS受託加工サービスとミニマルファブについて

WF加工、テストWF作成、貫通配線基板加工など！EB露光、DRIE、 …

ファブについても取り組んでおります。 TSV形成におけるプロセス技術の重要課題についてもPDFダウンロードからご確認いただけます。【加工内容】 ■前処理（RCA洗浄） ■成膜（熱Si酸化成膜、CVD成膜〈SiO2、SiN〉、メタル成膜〈Al、Al-Si、Al-Cu、Cu、Ti、W、Mo〉） ■フォトリソグラフィー（コンタクトアライナー、ステッパー、EB露光） ■エッチング（Wetエッチング、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社M.T.C

イオンプレーティング（コーティング）技術資料【加工実績付き】

【技術資料進呈中！】密着性の強い膜を作るのに最適なイオンプレーティング…

工実績 →パターンコーティング →厚膜コーティング →樹脂フィルムへのコーティング →立体物へのコーティング →大面積へのコーティング →スパッタリングによるコーティング →プラズマCVDによるコーティング →各種メタル膜コーティング ○新技術の導入 →スパッタ →プラズマCVD ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現…

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。【ラインナップ】 ◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN（BNプレート, Moカバー）：φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

協力会社による複雑な加工

複雑な工程の製品であっても対応可能！社外ネットワークでの加工サービス

軽にご相談ください。【サービス内容】 ○研磨加工 ○黒染め処理(四三酸化鉄皮膜)/パーカライジング(リン酸皮膜処理) ○メッキ(鍍金) ○窒化処理、PW、PS処理(塩浴窒化) ○CVD(科学的蒸着法)・PVD(物理的蒸着法)、その他詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：日本ツクリダス株式会社

密着性を向上させ、優れた耐久性を実現！【ファインコーティング】

超硬質セラミック被膜ファインコーティングは、通常のCVDよりも低温で…

近年、精密部品や金型の耐久性及び耐磨耗性を飛躍的にあげる表面処理技術は、生産性の向上のために必要不可欠になっています。超硬質セラミック被膜ファインコーティングは、通常のCVDよりも低温で成膜させるため、クラックのない緻密な炭化物被膜を形成させることが出来ます。さらに、独自の真空拡散法を用いて密着性を向上させ、優れた耐久性を実現しています。 ※詳しくは資料をDL...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケンテック

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」 ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

株式会社K-PLUS　カーボン事業部取扱製品紹介

アモルファスカーボンなど、カーボン事業部の取扱製品を紹介します。

株式会社K-PLUS カーボン事業部では、単結晶シリコン製品加工やアモルファスカーボン及びグラファイト製品、ファインセラミックス加工、CVD SILCON CARBIDE、CFRP(炭素繊維)設計及び加工、表面改質(薄膜処理)、樹脂製品加工、金属製品加工(レア.メタル)などを取り扱っております。アモルファスカーボンは、高耐熱性、耐...

メーカー・取り扱い企業：株式会社K-PLUS

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

測定が可能なIn-situモニターです。特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100H...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社