資料『次世代半導体の今を説く～SiC・GaN解説～』【進呈中！】

PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに！

エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で 従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。 その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。 次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。 技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく！ ...

メーカー・取り扱い企業： ジェルグループ【株式会社ジェルシステム／株式会社ナカ アンド カンパニー】

エアベアリング ステージ

PRエアステージLBTシリーズ

エアステージLBTシリーズ Class1クリーンルーム対応 ストロークは50ｍｍ～500ｍｍ エンコーダは用途により1um～0.05umまで選択可能 真直度、平面度は0.5um/300mm ピッチング、ヨーイングは±2arc sec コイル、マグネット、エンコーダ無しの状態から全て組込み済み状態での納入も可能 半導体検査装置用途として海外での納入実績は豊富にあり国内では初めての紹...

メーカー・取り扱い企業： TOYO ROBOTICS株式会社

研究開発に最適！卓上型の真空・大気圧・粉体プラズマ装置

【表面改質】濡れ性向上、接着強化、ナノ洗浄！最先端プラズマ処理で新技術…

プラズマ装置国産メーカー『魁半導体』 昨年の『関西フロントナー大賞』『京都中小企業優秀技術賞』を受賞。 社内の技術者が様々なニーズに対応いたします。 本製品は国内の様々な大学や研究所、メーカーのR&D部門に 導入実績がござ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

シリコン半導体の工程等、クリーンなプロセスに！メタルフリータイプ

メタルフリータイプは、金属を極限まで排除し、より高次の清浄性を！シリコ…

元素を使用しない 設計のため、金属汚染が気になるお客様でも安心してお使い頂ける製品です。 表面のインジケータ膜は有機系の材料のみを利用しており、 基板には標準規格のシリコンウエハを使用。半導体前工程での利用を想定し クリーンなプロセスで利用できるよう設計しています。 【特長】 ■金属元素を使用しない設計 ■表面のインジケータ膜は有機系の材料のみを利用 ■8インチと12イン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サクラクレパス PI事業部

化合物半導体ウエハ用非接触ピンセット

マニュアル操作により化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）を非…

◎特徴 １．４５０℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 ２．化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2～４ｉｎ ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/4ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/2ウエハ ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パーティクルのメタルエッチング (nmレベ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

『流動層式大気圧 プラズマ粉体処理装置』

大容量の粉体表面改質装置

本製品は、粉体の表面改質（溶液への分散性向上、コーティングの 前処理等）を大容量で行うことが可能な処理装置です。 粉体を液体のように混合・攪拌することが可能な「流動層」技術を応用し、 プラズマにより生成された活性種を効率よく粉体に曝すことで プラズマ発生部と処理部を分離します。 また、真空チャンバーを必要としないためスケールアップも容易。 従来の装置では採用できなかった用途へも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

刷毛プラズマ装置S5000-FS2

プラズマを多数の柔軟な極細チューブに導くことにより、凹凸のある物体の底…

効率が良く、膜厚が薄く、塗膜が均一な塗装！ ...細部・凹部・入隅部への表面改質 プラズマを多数の柔軟な極細チューブに導くことにより、凹凸のある物体の底面へのプラズマ処理が可能 【用途例】 ・自動車ライトのリフレクタのコーティング力向上 ・部品実装後の基板のコーティング力向上 ・突起物のある物の底面の親水化 ・培養用シャーレ内壁の培養性能・培地の接着力向上 ・スマートフォン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマモニター　PM-KJ001

プラズマモニター

プロセス管理・リーク管理・エンドポイントの検出に！ ...【特徴】 プラズマの発光色をRGBセンサでモニター。 お持ちの真空装置のビューポートに設置するだけ※1で使用OK。 PC※2と接続することで簡単操作、記録も可能。 高コストパフォーマンス。（￥111,109～） ※1. ホルダーは別売りです。各種真空ポートに接続するアダプターも用意しています。 ※2. PCは商品に含まれません...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

マルチチャンバスパッタリング装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…

送もベア及びトレイ（サセプター）も標準対応。矩形・小径・不定形 多くの基板に積極対応。 最大8インチ及び8インチ相当の矩形基板に対応。6角形タイプと4角形タイプの２機種を標準ラインナップ。 半導体以外の用途にも半導体の性能とクリーンネスを実現。 次世代開発用スパッタリング装置...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Hydrophobing-200A

複雑形状（紙・布・織物）に撥水処理

・コーティング剤と異なり、基材の最表面そのものを改質（撥水化） ・布や紙の繊維一本一本の表面を処理（薄いサンプルであれば裏面まで処理可能） ⇒布や紙の撥水・防水・防汚に...プラズマ処理で超撥水状態にすることが可能！ 布や紙の撥水・防水・防汚に適しています。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

応用例付きプラズマ技術資料　無償ダウンロード！

基板、樹脂、粉体、医療、半導体…。あらゆる分野で使えるプラズマ技術の応…

当社の「プラズマ表面処理技術」をまとめた技術資料を無償配布中です。 プリント基板、フィルム、樹脂、粉体、医療、半導体後工程といった 分野を問わず活用できるプラズマ装置。 剥離、有機物除去、表面改質・洗浄など幅広い分野に活用できる技術を 用途例と合わせて解説しています。 【応用例の概要】 ■フッ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

大型プラズマエッチング装置

ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

「従来機種ＥＸＡＭ」同様にウェハ・ガラス・セラミック基板のエッチングを行なうと共に大型実装基板・カット済みのフィルム基板のエッチング・クリーニング・表面処理にも実績豊富。 電子デバイスだけでな半導体製造装置部品や材料などくクリーンネスと繊細な表面処理が求められる大型製品の処理にも最適な新型ドライプロセスツール...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ICP エッチング装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！

8"工程用Pishowシリーズ： ・Pishow： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能 ・Pishow A： HEMT工程のソリューションを提供、...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

大気圧プラズマ装置　

大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績（20…

て簡便に使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物の出来ない常温表面乾燥 ■添加ガス種の変更により、マトリックス材...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」

従来比50％の性能UP！低N2消費（約45％削減）の大気圧プラズマ装置

ラズマソースとして簡便に使用できる ■パーティクルフリー ■排ガス処理も不要 ■処理表面への物理的、電気的、熱的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない ■有機表面、内部へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカルの生成により、窒...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

『TP-50B』は、電波法による設置許可申請も不要の50Ｗ型で、操作も簡単、気軽にプラズマ加工が行える卓上プラズマエッチング装置です。 独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能で、半導体故障解析用試料の前処理（配線の露出）から、各種プラズマ加工に幅広く対応致します。 また小型のため、スペースの限られた研究室で活躍します。 【特長】 ■卓上サイズでコンパクト ■局所...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

ハンディタイプ大気圧プラズマ処理装置『ピエゾブラッシュPZ3』

驚くほど小型！低温大気圧プラズマ装置！広範な用途に使用可能です。

【使用例】 ■種々の材質の表面活性化および機能付与 ■接着、塗装、印刷、コーティング工程の最適化 ■プラスチック、ガラス、セラミック、金属、半導体、天然繊維、複合材料 ■微細有機物の洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルス

Diener Electronic社製『プラズマ処理装置』

幅広い材質に対応できる低圧タイプや、インライン設置が可能な大気圧タイプ…

当社では、半導体分野をはじめとする現場で数多くの導入実績を持つ Diener Electronic社製の『低圧・大気圧プラズマ装置』を販売しています。 取り扱いが簡単で低価格な実験用の小型製品から パワ...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

サンプル形状を選ばず、自由に処理！バレルタイプ プラズマ処理装置

微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質が可能！溶液を使用せずに洗…

【装置特徴】 ■サンプル形状を選ばない自由な処理（円筒形処理室／等方性プラズマ） ■多様なプロセス：Ａｓｈｉｎｇ（洗浄）、Ｅｔｃｈｉｎｇ、表面改質等 ■部品は全てクリーンルーム対応（半導体製造装置として使用可能） ■廉価、小フットプリント設計 ■量産装置としてお使い頂ける安全仕様 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

簡易実験用スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合…

当製品は、基礎研究から先端プロセスの開発までカバーする シンプルでコストパフォーマンスの高いスパッタリング装置です。 全手動化し低コスト化したバッチタイプと手動搬送機構を装備した 簡易ロードロックタイプの2機種をラインアップ。両機種とも上位機種の プロセス性能を維持した上で、大きなコスト低減を実現しています。 サンプルテスト・仕様対応・納入後のフォローまで一貫して丁寧な対応を ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…

新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 ３００ｍｍウェハや積層基板、最大１ｍ□までの基板のメタルエッチングに対応。 近年ニーズが高まっている半導体周辺部材（フォトマスク、高密度実装基板）をカバーする従来のプラズマエッチングにとらわれない新型エッチング装置...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

チャージアップダメージを排除したダウンフロープラズマによるダメージレスアッシングを実現。表面波プラズマ（ＳＷＰ）によるハイレートアッシングと２室装備されたアッシング室によりハイスループットを実現。 アッシングだけでなくＲＩＥ室の装備により特殊レジスト・有機膜野除去にもまたイオン注入後の硬化レジスト除去に対応。表面部の硬化レジストの除去とレジスト下層のダメージレスアッシングの両立を実現。 コンパ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

R&Dやニッチプロセスへの対応に特化　量産用装置では困難な少量生産や試…

先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。 膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応 Ｓｉ半導体の電極・配線膜だけでなく、マイクロ磁気デバイスやＭＥＭＳ用の磁性体膜・絶縁膜・保護膜など各種プロセスに実績 蒸着・アニール・ＣＶＤなどの異種プロセス室も装備可能で実績のあるメインフレーム（搬送シ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

枚葉式プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ－Σ」

ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…

ッチング装置。マルチモードプラズマとステッププロセスで幅広いプロセスに対応 自然酸化膜除去から厚膜レジストアッシング・クリーニング・ディスカムまで。 ディスクリートＩＣ、パワーデバイス、化合物半導体・ＭＥＭＳなど多くのデバイスの量産現場で多様なプロセスで活躍中...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

ガス導入型真空プラズマ装置

空気・酸素・窒素・アルゴンなど様々なガスを導入できる卓上型の真空プラズ…

プラズマ装置国産メーカー『魁半導体』 2002年に京都工芸繊維大学発ベンチャー企業として設立。 昨年の『関西フロントナー大賞』『京都中小企業優秀技術賞』を受賞。 社内の技術者が様々なニーズに対応いたします。 本製品は文部科...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チェッカーズ

大気圧プラズマ『Precise』シリーズ　※資料進呈中

【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上！炭素繊維を高…

用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■反応性の高い酸素ラジカル粒...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方　※解説資料進呈

"大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…

【当社独自の装置特長（ダウンストリーム型）】 ■幅広、長尺物への均一処理（100ミリ～3000ミリ） ■半導体チップ上の処理も可能（処理後のトランジスタ特性変化なし） ■4nmのＬ＆Ｓでも絶縁破壊等の発生が無い ■ワーク内部の分子間架橋特性変化や分子切断の影響やダメージ発生がない ■Particle発生が...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質

大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現！バグフィルターにて捕獲…

子間架橋特性変化やダメージ発生がない ■放電電極内でのイオン加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い ■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減 ■半導体チップ上の処理も可能（処理後のトランジスタ特性変化なし<4nm以上のL/S>） ■プラズマ発生エリアとワーク間距離を最小限にする構造（特許）により、高性能化が実現 ※詳しくは資料をご覧くだ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

ＲＦフィルタ

高性能でコンパクトなＲＦフィルタ(高周波フィルタ)です。複数チャンネル…

に合わせたカスタム製品での提案が基本となっておりますので、ハイパス、ローパス、バンドリジェクションなど、いろいろな高周波フィルタを、装置開発の段階より仕様に合わせた提案が可能です。 米国内の大手半導体製造メーカーへの採用実績が多くあり、必ずご期待に応えることができます。 ・1MHz～50MHzの周波数範囲内で設計可能でコンパクトな、高インピーダンスのフィルター ・大電流・高電圧アプリケーシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローブ・テック

ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…

カソードは大型１元タイプと多元タイプが選択可能。基板加熱も高温および冷却が選択可能。 スパッタもＤＣ，ＲＦにパルスＤＣによるリアクティブスパッタモードより選択。緻密な酸化膜も形成可能で、化合物半導体のゲート酸化膜に対応...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大気圧プラズマ装置　MyPL-Autoシリーズ

独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生！

半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク（ガラス基板等）の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現！...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル

大気圧プラズマ装置　MyPLシリーズ

独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生！ …

半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク（ガラス基板等）の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現！ マニュアルステージ搭載した簡易プラズマユニット機 各種装置へのビルドイン対応可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル

超高真空マルチチャンバー連結システム

φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹…

当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』を ご紹介します。 超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ装置と XPS分析装置を連結。 他に、MEBチャンバーとXPS表面分析装置を連結したシステムや MBE室と酸化処理室、STM分析室を連結したシステムがあります。 【ラインアップ】 ■...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

大口径Ｏリング　（真空装置用）

半導体・有機ＥＬ製造装置・真空チャンバー・大型タンクのふっ素ゴム製のJ…

送り焼きとは・・・ 従来金型のないOリング等は押出しゴム紐などを接着剤などでつなぎ使用されていました。この方法では接着部分の強度・耐熱性・耐油性・耐薬品性やシール性能に問題がありました。送り焼きOリングとはプレス加硫によって成型を致しますので、接着剤等は一切使用しません。よって通常の成型製品と同様の性能を有しております。 送り焼き成型は、JIS規格、AS規格にない特別寸法を成型する技術であ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社

プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】

使い勝手の良い真空プラズマ装置の廉価版！テフロン親水化や各種素材の撥水…

使い勝手が良い卓上型の真空プラズマ装置「プラズマエッチャー」シリーズに新ラインナップ、セミオートタイプが登場！従来より更に小型化、省スペースでの設置が可能。 オート、マニュアルの両機能を備え更に使いやすくなりました。 タッチパネルでマニュアル操作や事前にレシピを設定し1ボタンの簡単操作も可能。 ステージサイズはφ100mm～φ1000mmで自由に選ぶことができます。 一般的なセラミック・金...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

バレルタイププラズマ処理装置　ＰＢシリーズ

等方性プラズマを利用　微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質に最…

【装置特徴】 ■サンプル形状を選ばない自由な処理（円筒形処理室／等方性プラズマ） ■多様なプロセス：Ａｓｈｉｎｇ（洗浄）、Ｅｔｃｈｉｎｇ、表面改質等 ■部品は全てクリーンルーム対応（半導体製造装置として使用可能） ■廉価、小フットプリント設計 ■量産装置としてお使い頂ける安全仕様 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

大気圧プラズマ装置「AP Plasma　Precise II」

ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置

ソースとして使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への電気的、物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない（完全な高周波電力遮蔽） ■処理中のUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカル発...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置によるCFRP・長尺繊維束向けの高効率表面改質

CFRP、グラスファイバー、長尺繊維への表面処理

■活性ガス(種々のラジカル)の侵入部分全て処理ができる ■装置がコンパクト(省スペース) ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカル発生により繊維束内部...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置による繊維束状用表面改質

大気圧プラズマ装置を用いた効率的な繊維束状用表面改質方法

スとして簡便に使用できる ■コンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■プラズマによる精密乾燥（乾燥痕のない）ができる ■高密度プラズマの発生に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置　ILP-Inlineシリーズ

独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生！

半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク（ガラス基板等）の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現！ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル