CVD | イプロスものづくり

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

ど、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） ■低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ■高アスペクト比の穴埋めに適用 ※詳しくはPDFダウンロー...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

各種熱処理装置

半導体や太陽電池の生産・研究開発設備！独自の高温処理技術による高温熱処…

大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および研究開発向けに提供します。主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、横型CVD装置・LC6400シリーズなどもライン...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティング

PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC（ダイヤモンドライクカーボン）コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜（～ 5μm）が可能なため、抜群の耐久性を...

メーカー・取り扱い企業：ナノコート・ティーエス株式会社石川事業所

簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat

弊社にてデモ可能！市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるＳｉＯ２製膜を大気圧下で行えます。厚みは処理条件によりコントロール可能。（速度、液量、距離など）今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

ミューコム　MO-CVDコンピュータ制御システム

デジタル入出力信号やアナログ入出信号をＬＡＮにより制御することにより高…

各種半導体薄膜製造装置の制御をパソコンにて行うシステムです。デジタル入出力信号やアナログ入出信号をＬＡＮにより制御することにより高速制御とデータの保存を可能にしました。...【特徴】 ○LANによるアナログ入出信号制御 ○LANによるデジタル入出力信号制御 ○高速制御とデータの保存を可能 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ミューコム

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

半導体製造装置　自動石英管洗浄装置

【デモ機貸し出し可能！】石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さ…

ウエハーは製造工程に使用される石英管のクリーン度が、製品の品質に大きく影響します。したがって、拡散工程やCVD工程及びアニール工程で使用される石英管の洗浄は重要なポイントです。ジャパンクリエイト社は長年に及ぶ経験と実績から、御客様のニーズにあった石英管洗浄装置を提供致して居ります。方式は横型式と縦...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

【その他の特長】 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

ダイヤモンド工具研磨盤『DTP-300AX型』

単結晶ダイヤモンド工具の専用機！吸収性を高めた鋳物構造の本体に超精密エ…

『DTP-300AX型』は、単結晶ダイヤモンドバイトのすくい面や逃げ面の面加工及び刃付けに使用するダイヤモンド工具研磨盤です。 CVD薄膜単結晶ダイヤモンドの面加工にも使用可能。スカイフ上面は高速回転でも極めてフレが小さく、単結晶ダイヤモンドバイト刃先の正確な面加工や刃付けができます。【特長】 ■吸収性を高...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イマハシ製作所東京営業所

【MPCVD】単結晶ラボグロウンダイヤモンド

商業的使用に好適！非常に安定性があり、予測可能な特性と挙動を持っていま…

ダイヤモンドエレメンツは、幅広い用途に利用されている単結晶ダイヤモンド製品の製造において、世界でも早いCVD会社の一つです。マイクロ波プラズマ化学気相成長法(MPCVD)は、80年前から実用化されてきて、ここ7-8年で顕著なプロセスになってきました。 MPCVDは、純粋で高速なダイヤモ...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

有機EL用蒸着装置

プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択で…

に応じて、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択できます。【特長】 ■基板サイズは最大□300mm対応 ■蒸着セルは各種材料・サイズから選択可能 ■CVD室、スパッタ室等との組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

日新技研社　単結晶育成装置　総合カタログ

日新技研社〜単結晶育成装置〜総合カタログ　無料配布中！

ております ◆◆掲載製品◆◆ 　　○トランジスタインバータ　　○酸化物単結晶引上装置　　○自動直径制御装置　　○μ-PD装置　　○超小型単結晶引上装置　　○SiC-CVD装置　　○Gap.InP高圧合成装置　　○高温アニール装置　　○SiC単結晶成長装置 ◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆...

メーカー・取り扱い企業：日新技研株式会社

多元スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…

『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、均一な膜厚分布を実現します。【特長】 ■当社独自のスパッ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

パルスレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

グ法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

真空成膜装置・高真空装置

お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置

真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デジタルイメージでは、長年薄膜素材の評価装置として定評のあるVINCI社の製品を取...

メーカー・取り扱い企業：西華デジタルイメージ株式会社

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現…

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。【ラインナップ】 ◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN（BNプレート, Moカバー）：φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」 ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

測定が可能なIn-situモニターです。特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100H...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社

PLAD-221-Y PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

マントルヒータ　Mantle heater

配管部品の均一加熱を実現！CVDエッチング・アッシング装置に適していま…

ワッティーが提供する『マントルヒータ』は、配管・容器加熱用にご使用いただけます。発熱体を使用しない断熱材、保温材の設計製作も承っており、クロス材質も複数ご用意しているので、ご希望の仕様で製作が可能。（400℃以上のご希望の際はご相談ください。）また、サーモスタット、ヒューズ等の過昇温防止素子、及び熱電対、 Ptセンサ等の温度制御素子の取り付けなどオプションで承ります。...

メーカー・取り扱い企業：ワッティー株式会社

SiC半導体製造用機能部品

2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…

Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。【特長】 ■タンタルカーバイド・超高温（2000℃以上）での使用が可能・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック・1000℃までのプ...

メーカー・取り扱い企業：モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

● 反応副生成ガスにも対応　カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される　NH3（アンモニア）の他　副生成される可能性が　ある毒性の強いHCN（シアン化水素）にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン　集合表示灯及びタッチパネル（オプショ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社巴商会管理部署：企画営業部

ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）

熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。特に表面処理用の熱ＣＶＤ装置の塩素系ガスの排気系に有効で工...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

高純度イットリア溶射材

耐プラズマエロ―ジョン性に優れた溶射皮膜が得られる高純度イットリア粉末…

高純度イットリアではその化学的安定性、耐プラズマエロ―ジョン特性を活かし、半導体、FPD(OLED、LCD)製造装置などに使用されています。アプリケーション例・プラズマエッチング装置　・CVD装置　・静電チャック　・焼成トレイ　など【メッセージ】フジミではお客様のご要望に応じた純度、粒度に調整した粉末の試作も可能です。セラミックス溶射材料に関してご質問やご要望等ございま...

メーカー・取り扱い企業：株式会社フジミインコーポレーテッド

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

ることにより<0.6% 3σも達成可 ■従来と比較しMTBMを2倍にしたIon Source、Marathon Grid、　Dual PBNは、他社の既存装置でも搭載可能 ■当社のPVD、CVD等とのクラスター可が可能 ■150mm、200mm ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

『事例』プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策　無料進呈中

真空配管設備の不安を解消！プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策の…

製品使用例のご紹介です。・プラズマCVD装置によるプラズマや高温排気の影響で配管接続に使用しているフッ素ゴムO-リングが劣化してしまう。・高価なセンターリングを採用しているが、コストが高く困っている。・真空設備のセンターリングが...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー

石英ガラス加工製品・再生石英材料

最高の加工技術で作られた製品をお客様に提供します。

【加工例】 ◯洗浄装置用処理槽 ◯ウェーハ用キャリアー、ボート、チャック ◯拡散・CVD用炉芯管 ◯エッチャー/アッシャー用ベルジャー ◯各種治工具類 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社インテリンク

300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で！クラスタシステムにより生産…

PICOSUN Sprinter ALDシステムは、優れた膜質、短いサイクルタイム、完全自動化により、ALDの大量生産に革命をもたらします。プリカーサフローを完全に層流にすることで、不要にCVD成長させることのない完全なALD成膜を保証し、システムメンテナンスの必要性を最小限に抑えます。プリカーサの供給が最適化されているため、材料の無駄がありません。 ※詳しくはPDFダウン...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置

密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜を実現しています。 CVDのような危険なガスを用いる必要がないため排ガス処理の必要もなく、地球環境に優しい成膜技術です。【特長】 ■高絶縁膜特性 ■多層膜 ■緻密・平坦膜 ■低ダメージ ■長期安定稼働 ...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ（MFC）とデジタルマスフローメーター（MFM）は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

真空環境用ウエハ搬送ロボット『UTVW-R2800H』

【～300mmウエハ用】旋回軸にダイレクトドライブモータを採用！高…

■Z軸が標準搭載されているダブルアームタイプの真空用ウエハ搬送ロボット ■θ軸にダイレクトドライブモータを採用し、ウエハを低振動で搬送することでスループット向上に貢献 ■CVD装置、アニール装置など、高温プロセス装置に対応 ■可搬重量2kgのため、重量物搬送にも対応 ■ウエハセンター位置ずれ補正機能付き ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ダイヘン

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されてい...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社

2020版薄膜作製応用ハンドブック

｢21世紀版薄膜作製応用ハンドブック｣から17年、基礎を押さえつつ、新…

薄膜材料の磁気特性　6章薄膜材料の光学特性　7章薄膜材料の力学特性　8章薄膜材料の化学特性第2編薄膜の作製と加工　1章基板と表面処理　2章 PVD法　3章 CVD法　4章液相薄膜堆積法　5章有機・高分子・生体関連薄膜作製法　6章パターン化技術　7章薄膜の加工／改質技術第3編薄膜・表面・界面の分析・評価　1章薄膜・表面・界...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エヌ・ティー・エス

薄膜蒸着装置

マグネトロン、イオンビームなど！さまざまな薄膜蒸着ソリューションから選…

れた信頼性、およびグローバルなサービスとサポートを通じて、一貫した再現性のある結果を提供する「薄膜蒸着装置」を取り扱っております。蒸着、熱蒸着、マグネトロン、スパッタリング、PE-CVD、イオンビームなど、幅広い材料とアプリケーションに対応するさまざまな薄膜蒸着ソリューションから選択可能。また、海外半導体製造装置メーカーの代理店として、新品半導体製造装置売買お...

メーカー・取り扱い企業： TST SEMICONDUCTOR株式会社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

ローコスト必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

縦型実験炉大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

ング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュー型攪拌機構 ※詳しくはPD...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

ガラス基板などへの対応可　成膜加工（PVD）

１枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能

PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

真空蒸着システム　総合カタログ

様々なニーズに対応

ourcdの　適切な組合せを通じて、お客様のneedsにお応えできる　最も優れたコーティング膜が合成できるようにした　複合コーディング装備 ○PECV 　プラズマを利用したCVD 　source gasなどで分解させ、そこで発生するグロー放電を利用する薄膜合成法 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...

メーカー・取り扱い企業：パーカー熱処理工業株式会社川崎事業所

保守・メンテナンスサービス

半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい

＜対応実績＞ CVD装置, Dry Etching装置, 拡散炉/酸化炉, Wet洗浄装置, Wet Etching装置, 基板搬送装置, コーター/デベロッパー, ステッパー, など詳しくは、お問い合わせ下...

メーカー・取り扱い企業：株式会社電子技研

薄膜加工技術の解説付きガイドブック『薄膜Q&A』を無料進呈中！

各コーティング方法の違いや特徴、コーティング事例、お問い合わせの多い質…

・どんな膜ができるの？・こんなコーティングはできるの？・試作だけでもいいの？量産もできるの？東邦化研株式会社では、表面処理に好適なイオンプレーティング（PVD）・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。イオンプレーティング部発足以来、約40年に渡って幅広い分野で実績を残してまいりました。その中で、特にお問い合...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社