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    『熱硬化型焼結銅ペースト』半導体パッケージの高集積化に貢献

    PR低抵抗・高放熱を実現する銅ペースト。200℃以上の加熱で焼結し、大気硬…

    当社の『熱硬化型焼結銅ペースト』は、半導体パッケージに対し 低抵抗・高放熱といった優れた性能を付与できる樹脂含有型ペーストです。 さらに200℃以上の加熱で焼結するほか、大気硬化も可能です。 半導体パッケージの高集積化などへの対応に必要な特性を備えています。 【特徴】 ■銀ペーストと同等の電気的特性を保持しながら、イオンマイグレーションを低減 ■独自の特殊処方で硬化中の酸化を防ぎ、大気硬化によ...

    • 熱硬化型焼結銅ペースト.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ADEKA

  • 電流導入端子 製品画像

    電流導入端子

    PR高真空、超高真空へ の電流導入端子です!

    米国MPFプロダクト社の電流導入端子のご紹介です。 ■MIL丸型、C-Sub型のマルチピン、熱電対、高電流・高電圧タイプ、同軸タイプ等各種電流導入端子を取り扱っております。 ■電流導入端子と併せて使用するコネクタ、ケーブル等もお取り扱いがございます。 ■標準品のカスタマイズ(フランジの変更、ピン長さの変更等)にも対応しております。まずはお問い合わせ下さいませ。 ※詳しくはカタログを...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社テクサム

  • 大気圧プラズマにおけるダメージを与えない表面機能性付与の新提案 製品画像

    大気圧プラズマにおけるダメージを与えない表面機能性付与の新提案

    大気圧、ダウンストリーム型プラズマを用いることにより表面ダメージ等を排…

    株式会社イー・スクエアは2001年に大気圧プラズマ装置をリリース以降、1200台以上(2021年時点 国内外表示デバイス市場・その他)の販売実績を誇る大気圧プラズマ装置専門メーカーです。  今回「ワーク表面」や「電子デバイス」にダメージを与えない表面への機能性付与の新提案です。  【掲載内容】 ■はじめに~背景 ■プラズマ処理形態 ■大気圧プラズマ装置から発生する種々のダメージ ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

  • 今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈 製品画像

    今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈

    "大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…

    ここではコロナ処理や、アーク等を用いた装置ではなく、 完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。 特殊電極構造を用い、窒素ガス・希ガス等をベースに高周波電力を電極に印可し、 高密度プラズマを発生させることによりが生成された高密度の活性種が ワーク表面に官能基や水酸基、アミン基を付与し、 濡れ性や、塗布性能、有機物除去等の処理が可能になります。 添加ガス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

  • プラズマCVD装置『PEGASUS』 製品画像

    プラズマCVD装置『PEGASUS』

    低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性!

    『PEGASUS』は、メモリ、パワーデバイス、MEMSへの 絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な 量産対応型プラズマCVD装置です。 インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ 接触部位に非金属を使用しているため、裏面からの汚染を防止します。 【特長】 ■低温成膜 ■メンテナンス性 ■ウエハ取扱い ■フットプリント ■保守メンテナンス など ※詳...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社セルバック

  • アークフィラメント式イオンプレーティング装置  製品画像

    アークフィラメント式イオンプレーティング装置 

    緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 C…

    緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やSiC膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜(酸化膜・炭化膜)を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面機能を生み出す用途...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • R%D用マルチチャンバスパッタリング装置 製品画像

    R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

    R&Dやニッチプロセスへの対応に特化 量産用装置では困難な少量生産や試…

    先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。 膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応 Si半導体の電極・配線膜だけでなく、マイクロ磁気デバイスやMEMS用の磁性体膜・絶縁膜・保護膜など各種プロセスに実績 蒸着・アニール・CVDなどの異種プロセス室も装備可能で実績のあるメインフレーム(搬送システム)に各プロセス室を自由に...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • プラズマ技術~バイオ・医療への応用 製品画像

    プラズマ技術~バイオ・医療への応用

    a-SiC:H(堅牢膜)等のパッシベーション膜形成が可能!高密度プラズ…

    当社で取り扱う『Corial D250L/Kayen HDRF』により、 プラズマ技術のバイオ・医療への応用が可能です。 人体埋め込み型センサーや医療機器のパッシベーション膜を形成。 複雑な形状のインプラント用セラミック、金属物の 表面除染も対応可能です。 【パッシベーション膜の特長】 ■現在、業界で注目されている、以下4種の膜形成が可能  ・a-SiC:H(堅牢膜) ...

    • パッシベーション2.PNG

    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

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