リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

製品案内　装置

表面分析用チャンバーや蒸着用チャンバーのご紹介

北野精機株式会社では、表面分析用チャンバー（極・超高真空）もしくは 蒸着用チャンバー（超・高真空）を製作しております。 材質は、ステンレス鋼もしくはアルミが標準となるほか、非磁性等の材料も選定可能。 フランジには、ICF規格・ISO規格・JIS規格を基本的に使用しております。 また、特型の指定フランジも接続可能な設計製作を承ります。 使用真空度に合わせて、表面処理...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社