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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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非磁性・耐酸性・耐蝕性に優れたステンレス鋼(SUS304)を使用してい…
精密機械加工で先端精度が優れており、精密な作業に最適です。本体はしなりを抑えて柔らかく仕上げているので、連続作業時でも手に負担をかけず快適に作業ができます。 ...【ラインナップ】 ○プロテックピンセット 標準型 No.FPT01-115 ○プロテックピンセット 先細型 No.FPT03-115 ○プロテックピンセット 先鉾型 No.FPT04-115 ●詳しくはお問い合わせ、または...
メーカー・取り扱い企業: フジ矢株式会社
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