リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

電磁式／渦電流式 ハンディ型 膜厚測定器『FMPシリーズ』

電磁式／渦電流式のハンディー型膜厚測定器、広範にラインナップした測定プ…

／渦電流式小型 膜厚測定器 ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー ■DELTASCOPE(R) FMP10/30（デルタスコープFMP10/30） 鉄または鋼などの磁性金属を下地とする亜鉛・クロム・ 銅・錫・塗料・プラスチック・エナメルといった非磁性皮膜の 測定に使用 ■ISOSCOPE(R) FMP10/30（イソスコープFMP10/30） アルミ・...

メーカー・取り扱い企業： アンリツ株式会社 環境計測カンパニー