リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

簡易型光学実験台CLシリーズ

スチールハニカムの採用により高剛性を保ち、コストダウンを図った架台付き…

しない光学実験、各種装置のベースに最適です。 •キャスター、レべリングボルトを装備しています。 •定盤上面には端面25mmより内部M6-25mmマトリクスタップ加工が施してあります。 表面は着磁性のため、マグネットスタンドの使用が可能です。 •定盤サイズは600×500の小型サイズから2000×1200の大型サイズまで数多く取り揃えました。 ...

メーカー・取り扱い企業： ワイヤード株式会社