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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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真空非磁性 USM駆動ユニット<特注>
弊社では自社で放出ガス評価、磁場測定評価を行なっているため、 的確な仕様の真空・非磁性アプリケーションを提供することが できます。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社メガトラスト MEGA-TECH Formations 豊玉事業所
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真空非磁性 超音波モータ <US36>
弊社では自社で放出ガス評価、磁場測定評価を行なっているため、 的確な仕様の真空・非磁性アプリケーションを提供することが できます。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社メガトラスト MEGA-TECH Formations 豊玉事業所
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