リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

メタライズ製品『絶縁パイプシリーズ』

絶縁性と高い気密性が求められる用途に！耐熱性や耐食性に優れたセラミック…

ック製絶縁パイプ ■純水に対する耐食性に優れており、純水用配管として多くの実績あり ■高い耐食性があり、ガスを通す用途にも多くの実績あり ■セラミック寸法や、継手材質の変更もご相談可能 ■非磁性タイプも製作可能 『絶縁パイプ螺旋』 プロセスガス導入時の放電発生抑制に最適! セラミックスに螺旋穴を加工したタイプの絶縁パイプです。 螺旋形状にすることで、直線的な放電の発生を抑制する...

メーカー・取り扱い企業： カワソーテクセル株式会社