リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】

非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキ…

非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各種イ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

小型真空アーク溶解炉

小型真空アーク溶解炉

、種々の金属材料をアーク溶解によって生成する事を目的とします。 【特長】 ■開発・研究に適したエコノミータイプ ■コンパクトで低価格 ■手軽に母合金等の溶解ができます 【用途】 磁性材料、熱電素子材料、電池材料、生体材料、マイクロマシン、リサイクル ...

メーカー・取り扱い企業： アトーテック　株式会社

株式会社フューテックファーネス　事業紹介

各種の環境下での高精度な熱処理技術を自社技術として保有

当社は、ハードデイスク（HDD)分野での磁性材料熱処理装置、 各種電子デバイス分野でのセラミックス、磁性材料などの製造装置、 各種単結晶育成装置および技術開発、 新規素材に関連する製造装置開発を事業領域としております。 各種の環境...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フューテックファーネス 本社

ハイテク高温装置 　各種熱処理炉

テクノ・コイデ社が取り扱うハイテク高温装置『各種熱処理炉』のご案内です…

加熱室と焼入れ室がゲート弁で仕切られ、急速焼入れが可能です。 拡販接合ホットプレス装置は、高真空中のクリーンな雰囲気に於いて試料の加熱・加圧を行い、　安定した拡散接合ができます。 焼純炉は、高級磁性材料の磁気焼鈍も可能な内熱式です。シビアーな温度制御が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクノ・コイデ

堅型真空＆加圧熱処理炉『CAVAC』

ダイレクト排気で処理物質内雰囲気がクリーンに！均一雰囲気・均一加熱・均…

脱脂・脱ガス・焼結・冷却の省エネルギーでの連続処理を可能にした堅型真空＆加圧熱処理炉！ 超硬合金の焼結（脱脂）、MIM製品の焼結、ガス真空加圧焼入れ、磁性材料の焼結、高融点材料の熱処理などに使用されています。用途に合わせて3つのラインナップをご用意しております。 【特徴】 ○均一雰囲気・均一加熱・均一冷却が可能 ○製品の装入作業性に優れる ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トウネツ 東海事業所