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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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シルベックのアルミに表面処理について
ウムの特性 1.軽い 2.柔らかい 3.強度が高い 4.加工性が良い 5.熱伝導性が良い 6.電気伝導度が良い 7.低温に強い 8.リサイクル性が良い 9.毒性がない 10.磁性がない ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シルベック 本社工場
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