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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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周波数カウントによるデジタルダイレクト出力
超小型変位センサーDS2001は、センサーヘッドからエネルギーを発射し、金属などの導電性物質との相互作用を発生させます。この相互作用を検知し、デジタル信号を出力します。非磁性金属にも使用できます。...
メーカー・取り扱い企業: 日本システム開発株式会社(JSD) 電子機器事業部
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