リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

真空熱処理【高硬度化、残留応力除去】

変形、変色、寸法変化の少ない表面がきれいな熱処理

かえる金属製品を作りたい時に適しています。 ICSではお客様のニーズにあった熱処理方法をご提案させていただきます。 【熱処理の種類】 真空焼き入れ、焼き戻し、焼きなまし、焼きならし、焼鈍、磁性焼鈍 時効硬化、析出硬化、応力除去、溶体化、固溶化 【材質例】 マルテンサイト系ステンレス鋼、オーステナイト、ステンレス鋼、合金鋼、炭素鋼、チタン、チタン合金、Ni基合金、Co基合金、銅合...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイ・シイ・エス