リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『Q&A形式で学ぶ永久磁石・モータ技術の基礎と評価法、高効率化』

『Q&A形式で学ぶ永久磁石・モータ技術の基礎と評価法、高効率化』

セミナー番号 S00422 講　師 第1部　日立金属(株)　NEOMAXカンパニー 磁性材料研究所　マグネット設計室 棗田　充俊　氏 第2部　(株)日立製作所　電機システム事業部パワーデバイス本部開発部担当部長 遠藤常博 氏 対　象 永久磁石とそれを用いたモータに関連する...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech