リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超軽量、非磁性オールアルミラック　RNCシリーズ

超軽量、非磁性オールアルミ製19インチラック

「超軽量、非磁性オールアルミラック　RNCシリーズ」は、超軽量、非磁性、耐久性、耐薬品性に優れたオールアルミ製19インチラックです。 重量制限のある設置場所に対応します。 同サイズのスチール製と比べ、約30％の...

メーカー・取り扱い企業： 摂津金属工業株式会社