リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

MODEL EX-550 SERIES

N2、Air、H2等が対象！メタルシールデジタルマスフローコントローラ…

【標準仕様（抜粋）】 ■センサ方式：熱式巻線センサ ■入口最大圧：350kPa（G） ■許容周囲温度：5～50℃ ■接ガス部材質 　・EX-550C（MFC）：SUS316L、磁性ステンレス、PTFE 　・EX-550M（MFM）：SUS316L、PTFE ■電気接続：D-sub9ピン HR-10A×2 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡