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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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測定対象デバイスに合わせプローブ先端材質・表面処理・先端形状等、各種選…
・弊社独自の合金材料を用い、PBフリーへのコンタクト性を高めたプローブ ・熱の影響による荷重低下を避ける特殊バネを採用した耐熱プローブ ・磁気センサー部品の検査にも使用可能なハイレベルな非磁性材料プローブ ・信号伝送特性を最大限向上した短尺高周波プローブ ユーザ様の様々なご要望にお応えします。 【特長】 ■長年の実績に裏付けられた優れた品質 ■豊富なラインナップ ■測...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社精研 本社
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セラミックスベアリング
主要部品にファインセラミックスを使用したベアリングです。 耐薬品性に優れており、非磁性のためマグネットの影響を受けません。 ジルコニアセラミックス・窒化ケイ素セラミックス等製作可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社TOK
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